【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示，更具体地，涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
1、有机发光二极管(organic light emitting diode,oled)显示技术具有高色域，高对比度，柔性自发光，低功耗等特点，是目前主流应用于智能显示端口的信息显示技术之一。
2、高像素密度是oled显示器件应用于移动显示端口及穿戴显示器件的重要原因，将开放式掩膜与光刻工艺相结合可以实现oled显示器件更高的像素密度，辅助电极是开放式掩膜与光刻工艺相结合的制备工艺中的关键结构，发光器件中的发光层与辅助电极的直接接触会引起显示装置混色、串扰等显示不良问题。
技术实现思路
1、鉴于上述问题，本申请实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，可以改善oled显示装置的混色、串扰等显示不良问题，从而提升oled显示装置的显示效果。
2、第一方面，提供了一种显示基板，包括沿第一方向依次设置的衬底基板、像素区和辅助电极，第一方向为显示基板的厚度方向；像素区包括像素定义层和至少部分设置于像素定义层的像素开口内的发光器件，其中，发光器件包括发光层，发光层包括设置于像素开口内的第一发光部和设置于像素定义层的远离衬底基板一侧的第二发光部，第一发光部和第二发光部连续设置；辅助电极包括导电层，导电层设置于像素定义层的远离衬底基板的一侧；显示基板还包括阻隔层，阻隔层设置于像素定义层的远离衬底基板的一侧，在第二方向上，阻隔层设置于导电层和第二发光部之间，阻隔层用于将发光层和导电层隔开，第
3、本申请实施例中，显示基板包括阻隔层，该阻隔层将发光器件的发光层与辅助电极的导电层隔开，避免发光层和导电层的直接接触引起显示装置的混色、串扰等显示不良问题。为实现oled显示装置更高的像素密度，采用开放式掩膜与光刻工艺相结合的制备工艺制备oled显示基板，在开放式掩膜与光刻工艺相结合的制备工艺中，辅助电极是关键的结构，若辅助电极会与发光器件的发光层直接接触，会导致显示装置混色、串扰等显示不良问题。本申请实施例的技术方案，采用开放式掩膜与光刻工艺相结合的制备工艺制备得到的oled显示基板中包括阻隔层，用于将发光器件的发光层与辅助电极的导电层隔开，以改善显示装置混色、串扰等显示不良问题，从而提升显示装置的显示效果。
4、在一种可能的实现方式中，辅助电极还包括结构层，结构层设置于导电层的远离像素定义层的一侧，在第二方向上，结构层的两端超出导电层的两端。
5、在一种可能的实现方式中，结构层在第二方向上超出导电层的部分在衬底基板上的正投影与阻隔层在衬底基板上的正投影至少部分重叠。
6、本申请实施例中，限制阻隔层在衬底基板上的正投影与结构层在第二方向上超出导电层的部分在衬底基板上的正投影的位置关系，一方面保证阻隔层设置于导电层和发光层的第二发光部之间，能够有效将导电层和发光层隔开，另一方面也保证显示基板结构的紧凑性，避免阻隔层占用过多的空间。
7、在一种可能的实现方式中，发光器件还包括第一电极和第二电极，第一电极、发光层和第二电极沿第一方向依次设置；其中，第二电极包括设置于像素开口内的第一部分和设置于像素定义层的远离衬底基板一侧的第二部分，第一部分和第二部分连续设置，在第一方向上，阻隔层位于第二发光部和第二部分之间。
8、本申请实施例中，对阻隔层的结构进行进一步的设计，进一步保证阻隔层可以有效将导电层和发光层隔开，避免导电层和发光层直接接触。
9、在一种可能的实现方式中，显示基板包括第一像素定义层和第二像素定义层，第一像素定义层和第二像素定义层之间设置有像素开口；发光器件还包括第一电极，第一电极和发光层沿第一方向依次设置；第一像素定义层上设置有第一辅助电极，第一辅助电极包括第一导电层和第一结构层，第一导电层和第一结构层沿第一方向依次设置；第二像素定义层上设置有第二辅助电极，第二辅助电极包括第二导电层和第二结构层，第二导电层和第二结构层沿第一方向依次设置；其中，在显示基板的平行于第一方向和第二方向的截面上：第一电极包括与第一像素定义层的端部贴合的第一侧边，第一侧边的远离衬底基板的端点记为t点；第一像素定义层包括远离衬底基板的第二侧边，在第二方向上，第二侧边的靠近第二像素定义层的端点记为c点；第二结构层包括远离第二导电层的第三侧边，在第二方向上，第三侧边的靠近第一像素定义层的端点记为d点；第一结构层包括靠近第一导电层的第四侧边，在第二方向上，第四侧边的靠近第二像素定义层的端点记为a点；第一导电层包括与第四侧边重叠的第五侧边，在第二方向上，第四侧边的两端超出于第五侧边的两端，第五侧边的靠近第二像素定义层的端点记为e点，线段td与第二方向的夹角为线段ad与第二方向的夹角为θ，和θ均为锐角；线段ae的尺寸记为d，第一导电层在第一方向上的尺寸记为h；其中，
10、在一种可能的实现方式中，线段cd与第二方向的夹角为α，α为锐角；第二像素定义层包括远离衬底基板的第六侧边，在第二方向上，第六侧边的靠近第一像素定义层的端点记为f点；辅助电极在第一方向上的最大尺寸为h1，线段cf的尺寸为l1；显示基板满足以下条件(1)-(2)中的至少一个：(1)tanα≥h/d＞tanθ；(2)h1/l1≥h/d＞h1/(l1+2d)。
11、本申请实施例中，通过对显示基板的各个功能层的结构进行设计，一方面保证在制备显示基板的过程中，能够在发光层和导电层之间制备出阻隔层，另一方面保证制备出的阻隔层能够有效将发光层和导电层隔开。
12、在一种可能的实现方式中，第二电极与导电层连接。
13、在一种可能的实现方式中，显示基板还包括像素电路层和平坦层，衬底基板、像素电路层、平坦层、像素区和辅助电极沿第一方向依次设置。
14、第二方面，提供了一种显示基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成沿第一方向依次设置的像素区和辅助电极，第一方向为显示基板的厚度方向；像素区包括像素定义层和至少部分设置于像素定义层的像素开口内的发光器件，发光器件包括发光层，发光层包括设置于像素开口内的第一发光部和设置于像素定义层的远离衬底基板一侧的第二发光部，第一发光部和第二发光部连续设置；辅助电极包括导电层，导电层设置于像素定义层的远离衬底基板的一侧；方法还包括：在像素定义层上形成阻隔层，阻隔层设置于像素定义层的远离衬底基板的一侧，在第二方向上，阻隔层设置于导电层和第二发光部之间，阻隔层用于将发光层和导电层隔开，第二方向垂直于第一方向。
15、在一种可能的实现方式中，显示基板包括第一像素定义层和第二像素定义层，第一像素定义层和第二像素定义层之间设置有像素开口；发光器件还包括第一电极，第一电极和发光层沿第一方向依次设置；第二像素定义层上设置有第二辅助电极，第二辅助电极包括第二导电层和第二结构层，第二导电层和第二结构层沿第一方向依次设置；其中，在显示基板的平行于第一方向和第二方向的截面上：第一电极包括与第一像素定义层的端部贴合的第一侧边，第一侧边本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述辅助电极还包括结构层，所述结构层设置于所述导电层的远离所述像素定义层的一侧，在所述第二方向上，所述结构层的两端超出所述导电层的两端。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述结构层在所述第二方向上超出所述导电层的部分在所述衬底基板上的正投影与所述阻隔层在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述发光器件还包括第一电极和第二电极，所述第一电极、所述发光层和所述第二电极沿所述第一方向依次设置；
5.根据权利要求1至4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层和所述第二像素定义层之间设置有所述像素开口；
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，线段CD与所述第二方向的夹角为α，α为锐角；
7.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第二电极与所述导电层连接。
8.根据权利要求
9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层和所述第二像素定义层之间设置有所述像素开口；
11.根据权利要求9或10所述的制备方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成沿所述第一方向依次设置的所述像素区和所述辅助电极之前，所述制备方法还包括：
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一项所述的显示基板，或者，包括如权利要求9至11中任一项所述的制备方法制得的显示基板。
...【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述辅助电极还包括结构层，所述结构层设置于所述导电层的远离所述像素定义层的一侧，在所述第二方向上，所述结构层的两端超出所述导电层的两端。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述结构层在所述第二方向上超出所述导电层的部分在所述衬底基板上的正投影与所述阻隔层在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述发光器件还包括第一电极和第二电极，所述第一电极、所述发光层和所述第二电极沿所述第一方向依次设置；
5.根据权利要求1至4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层和所述第二像素定义层之间设置有所述像素开口；
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，线段cd与所述第二方向的夹角...
【专利技术属性】
技术研发人员：李璇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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