【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术关于一种曝光装置、曝光方法及平板显示器的制造方法。本申请基于2021年7月5日提出申请的日本专利特愿2021-111806号而主张优先权，将其内容援用于此。
技术介绍
1、以往，作为经由光学系统向基板照射照明光的曝光装置，已知有下述曝光装置：使利用空间光调制器进行了调制的光通过投影光学系统，使由该光所得的像于涂布于基板的抗蚀剂上成像而进行曝光(例如参照专利文献1)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2005-266779号公报
技术实现思路
1、根据本专利技术的第1方案，提供一种曝光装置，其具备：照明光学系统；空间光调制器，其由来自上述照明光学系统的光照明；投影光学系统，其将自上述空间光调制器射出的光照射于曝光对象；及平台，其供上述曝光对象载置；通过上述平台使上述曝光对象在规定的扫描方向移动，从而由上述投影光学系统照射于上述曝光对象的光在上述曝光对象上进行扫描，上述空间光调制器具备多个镜，上述多个镜分别绕倾斜轴旋转，上述倾斜轴沿与上述投影光学系统的光轴方向及上述扫描方向这两方向正交的方向延伸，上述多个镜通过调整各自的相对于上述扫描方向的倾斜成为开状态，从而使光向上述投影光学系统射出，上述曝光装置具备角度调整机构，该角度调整机构调整上述空间光调制器相对于上述扫描方向的倾斜角。
2、根据本专利技术的第2方案，提供一种曝光装置，其具备：照明光学系统；空间光调制器，其由来自上述照明光学系统的光照明；投影光学系
3、根据本专利技术的第3方案，提供一种曝光方法，其使用上述曝光装置对上述曝光对象进行曝光，且其包含：第1步骤，其基于为了将上述多个镜中的至少一部分镜设为开状态而使上述至少一部分镜绕上述倾斜轴旋转时的上述至少一部分镜的作为目标的倾斜角、与上述至少一部分镜的实际的倾斜角的差量，使上述空间光调制器相对于上述扫描方向倾斜；及第2步骤，其在上述第1步骤之后，使用上述曝光装置对上述曝光对象进行曝光。
4、根据本专利技术的第4方案，提供一种平板显示器的制造方法，其包含：通过上述曝光方法对上述曝光对象进行曝光；及将经上述曝光的上述曝光对象进行显影。
5、根据本专利技术的第5方案，提供一种曝光装置，其具备：照明光学系统；空间光调制器，其由来自上述照明光学系统的光进行照明；投影光学系统，其将自上述空间光调制器射出的光照射于曝光对象；及平台，其供上述曝光对象载置，上述照明光学系统与上述空间光调制器在上述扫描方向排列配置。
6、根据本专利技术的第6方案，提供一种曝光装置，其具备：平台，其使曝光对象在扫描方向移动；空间光调制器；照明光学系统，其自上述扫描方向对上述空间光调制器进行照明；及投影光学系统，其将经上述空间光调制器的镜反射的光照射于上述曝光对象，上述空间光调制器的上述镜相对于上述扫描方向倾斜。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种曝光装置，其具备：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
3.一种曝光装置，其具备：
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，
6.一种曝光方法，其使用权利要求1至5中任一项所述的曝光装置对所述曝光对象进行曝光，且其包含：
7.根据权利要求6所述的曝光方法，其中，
8.一种平板显示器的制造方法，其包含：
9.一种曝光装置，其一边使曝光对象在扫描方向移动一边对所述曝光对象进行曝光，所述曝光装置具备：
10.一种曝光装置，其具备：
11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种曝光装置，其具备：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
3.一种曝光装置，其具备：
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，
6.一种曝光方法，其使用权利要求1至5中任一项所述的曝光装置对所述曝光对...
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