【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光器件的垂直耦合,尤其涉及一种双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构。
技术介绍
1、随着高速高密度光互连的需求不断增加,单层光波导的信息传输能力已经无法满足日益增长的数据需求。因此,在光互连领域,多通道多层光波导的并行传输成为必然选择,这也催生了多层光波导与光纤之间的垂直耦合光组件。
2、然而,目前的技术面临一些挑战。多层波导与垂直腔面发射激光器(vcsel)/光电二极管(pd)的耦合通常采用斜面镜的方法。一篇题为《multicore polymer waveguidesand multistep 45°mirrors for 3d photonic integration》的论文介绍了一种利用六边形分布的多层单模波导与pd阵列进行垂直耦合的方法。然而,六边形分布的波导结构并不适合实现多密度的并行光互连。此外,由于pd的接收面尺寸远大于波导的尺寸,对垂直反射后的光斑大小并没有特别严格的要求。然而,当波导的尺寸和数值孔径与光纤相当时,经过斜面镜垂直反射后的光斑往往会大于光纤端面的尺寸,从而直接影响了波导与光纤
...【技术保护点】
1.一种双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构的制备方法包括步骤:
2.根据权利要求1所述的双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述S1中下层聚合物包层胶的厚度要略大于芯层厚度。
3.根据权利要求1所述的双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述S2中掩膜版中掩膜图形为矩形波导和套刻标记,其中波导宽度和长度可根据实际需要进行设计,旋涂厚度决定了波导高度,掩膜版设计的宽度和紫外曝光时间决定了波导宽度,每组矩形波导个数为N,N等于12或4或8或24或48,
...【技术特征摘要】
1.一种双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构的制备方法包括步骤:
2.根据权利要求1所述的双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述s1中下层聚合物包层胶的厚度要略大于芯层厚度。
3.根据权利要求1所述的双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述s2中掩膜版中掩膜图形为矩形波导和套刻标记,其中波导宽度和长度可根据实际需要进行设计,旋涂厚度决定了波导高度,掩膜版设计的宽度和紫外曝光时间决定了波导宽度,每组矩形波导个数为n,n等于12或4或8或24或48,所述套刻标记形状为十字或田字格形式,位置位于波导两侧。
4.根据权利要求1所述的双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述s2中掩膜版若为阳版,则和正性包层胶配合使用,掩膜版若为阴版,则和负性包层胶配合使用,以获取波导和套刻标记结构。
5.根据权利要求1所述的双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述s3中,中间层包层胶厚度要远大于第一层芯层胶厚度,包层胶若为负胶,则对整个样品进行曝光,包层胶若为正胶,则不进行曝光。
6.根据权利要求1所述的双层聚合物光波导与阵列光纤的垂直耦合结构,其特征在于,所述s4中,所述准分子激光刻蚀通过控制光刻的路径、掩膜版图形和轰击次数,实现所需的反射微镜,并采用磁控溅射或热蒸发设备进行金属膜或介质高反射膜的制备,所述反射微镜不限于斜面镜或球形凹面镜或非球形凹面镜或自由曲面镜,所述反射微镜个数与波导保持一致,所述反...
【专利技术属性】
技术研发人员:王廷云,张芳,邓传鲁,黄怿,张小贝,
申请(专利权)人:上海大学,
类型:发明
国别省市:
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