【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及用于薄衬底的支撑结构，例如用于光刻设备和系统的衬底台和压力装置。
技术介绍
1、光刻设备是一种将期望的图案施加至衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(ic)的制造中。在这种情况下，可以将替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生要在ic的单层上形成的电路图案。可以将所述图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或若干个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网格。已知的光刻设备可以包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照每个目标部分，在扫描器中，通过在辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案的同时平行或反向平行于这个扫描方向同步地扫描所述目标部分来辐照每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。
2、另一光刻系统是干涉量测光刻系统，在所述干涉量测光刻系统中不存在图案形成装置，而是光束被拆分成两个束，并且通过使用反射系统引起这两个束在所述衬底的目标部分处干涉。所述干涉引起在所述衬底的目标部分处形成线。
3、在光刻过程的不同阶段进行量测是很重要的。例如，在光刻操作期间，不同的处理步骤可能需要被顺序地形成在所述衬底上的不同层。因此，可能需要以高准确度相对于形成在衬底上的先前的图案来定位所述衬底。通常，对准标记被放置在所述衬底上以相对于第二物体被对准和定位。光刻设备可
4、为了监测所述光刻过程，测量所述经图案化的衬底的参数。参数可以包括例如形成在所述被图案化的衬底中或其上的连续层之间的重叠误差、以及显影后的光敏抗蚀剂的临界线宽。可以在产品衬底上和/或在专用量测目标上执行这种测量。存在用于对光刻过程中形成的微观结构进行测量的各种技术，包括使用扫描电子显微镜和各种专用工具。快速且非侵入形式的专用检查工具是这样的散射仪：其中辐射束被引导到所述衬底的表面上的目标上，并且测量散射束或反射束的性质。通过比较所述束在由所述衬底反射或散射之前和之后的性质，可以确定所述衬底的性质。这可以通过例如将反射束与关于已知性质的已知测量结果的库中存储的数据进行比较来完成。光谱散射仪将宽带辐射束引导到所述衬底上并测量被散射到特定窄角度范围内的辐射的光谱(作为波长的函数的强度)。相比之下，角分辨散射仪使用单色辐射束并测量所述散射辐射的强度，作为角度的函数。
5、这样的光学散射仪可以被用于测量参数，诸如经显影的光敏抗蚀剂的临界尺寸、或形成在所述经图案化的衬底中或其上的两个层之间的重叠误差(ov)。所述衬底的性质可以通过比较照射束在其由所述衬底反射或散射之前和之后的性质来确定。
6、上文描述的光刻和量测过程通常依赖于精确地机加工的衬底台(例如，具有接近完美的平整度)。为了满足光刻制作的亚微米公差要求，衬底(例如，晶片和图案形成装置)的平整度在公差范围内是很重要的。与图案形成装置的表面积的跨度(例如，直径约为150mm)相比，图案形成装置可以是相对薄的(例如，厚度小于4mm、2mm、或1mm)，并且当受到甚至较小的不均匀力时会翘曲。所述翘曲会对随后在所述衬底上进行的光刻和量测过程产生不利影响。
技术实现思路
1、因此，期望开发能够防止衬底在被支撑在衬底台上时弯曲的装置和方法。
2、在一些实施例中，系统包括具有一个或更多个突起的支撑台、和压力装置。所述一个或更多个突起被配置成接触并且支撑衬底，使得所述衬底相对于所述支撑台是悬浮式的。当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底的下垂可以由所述衬底的材料和/或尺寸所引起。所述压力装置被配置成调整所述衬底的一侧上的压力，使得所述下垂被减小。
3、在一些实施例中，减少由具有一个或更多个突起的支撑台支撑的衬底的下垂的方法包括接触所述支撑台的所述一个或更多个突起以便支撑所述衬底。被所述支撑台支撑时的所述衬底的下垂基于所述衬底的材料和/或尺寸。所述方法还包括使用所述压力装置来调整所述衬底的一侧上的压力，使得所述下垂减小。
4、在一些实施例中，光刻系统包括：照射系统、投影系统、包括一个或更多个突起的支撑台、以及压力装置。所述照射系统被配置成照射图案形成装置的图案。所述投影系统被配置成将所述图案的图像投影到衬底上。所述一个或更多个突起被配置成接触并且支撑所述图案形成装置，使得所述图案形成装置相对于所述支撑台是悬浮式的。当所述图案形成装置由所述支撑台支撑时，所述图案形成装置的下垂可以由所述图案形成装置的材料和/或尺寸所引起。所述压力装置被配置成调整所述衬底的一侧上的压力，使得所述下垂被减小。
5、在下文中参考随附附图详细地描述本公开的另外的特征、以及各个实施例的结构和操作。应注意，本公开不限于本文中所描述的具体实施例。本文仅出于说明性的目的来呈现这样的实施例。基于本专利技术中所包含的教导，额外的实施例将对于相关领域技术人员显而易见。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种系统，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中，
3.根据权利要求1所述的系统，还包括：
4.根据权利要求3所述的系统，其中：
5.根据权利要求1所述的系统，其中，
6.根据权利要求1所述的系统，还包括：
7.一种减小由包括一个或更多个突起的支撑台支撑的衬底的下垂的方法，所述方法包括：
8.根据权利要求7所述的方法，其中，调整所述压力包括使用所述压力装置在所述衬底的所述侧处供应加压气体流。
9.根据权利要求7所述的方法，还包括使用压力传感器来确定所述衬底的所述侧处的压力，其中所述调整包括：
10.根据权利要求9所述的方法，其中：
11.根据权利要求7所述的方法，还包括使用致动器移动所述支撑台，其中调整所述压力包括补偿由所述移动引起的压力变化。
12.一种光刻系统，包括：
13.根据权利要求12所述的光刻系统，其中，其中，所述压力装置被配置成在所述衬底的所述侧处产生加压气体流以调整所述衬底的所述侧上的压力。
14.根据
15.根据权利要求12所述的光刻系统，还包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种系统，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中，
3.根据权利要求1所述的系统，还包括：
4.根据权利要求3所述的系统，其中：
5.根据权利要求1所述的系统，其中，
6.根据权利要求1所述的系统，还包括：
7.一种减小由包括一个或更多个突起的支撑台支撑的衬底的下垂的方法，所述方法包括：
8.根据权利要求7所述的方法，其中，调整所述压力包括使用所述压力装置在所述衬底的所述侧处供应加压气体流。
9.根据权利要求7所述的方法，还包括使用压力传...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·A·范德克尔克霍夫，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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