【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种咖啡豆研磨设备。
技术介绍
1、咖啡豆研磨机通常包括料斗，该料斗容纳进料到研磨机构的咖啡豆。随着时间的推移，容纳在料斗中的咖啡豆的水平降低，使得料斗需要再填充更多的咖啡豆。已知的咖啡研磨机使用包括发光二极管(led)和光电探测器的单个检测装置。当料斗中容纳不足量的咖啡豆时，由led发射的光可至少部分地被料斗的内表面反射，并且光的反射比例可由光电探测器测量。然而，这面临许多问题。首先，反射时的光的量值使得难以得到准确的测量结果。此外，随着时间的推移，料斗的内表面可能会被覆盖在咖啡豆粉末中，这会抑制所发射的光的反射，从而导致装置错误地检测到料斗容纳了足够量的咖啡豆。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是基本上克服或至少改善现有布置的一个或多个缺点，或者提供有用替代方案。
2、一方面，提供了一种咖啡豆研磨设备，该咖啡豆研磨设备包括：发射器，该发射器用于发射信号；接收器，该接收器用于接收信号的至少一部分；料斗，该料斗用于容纳咖啡豆，其中由料斗容纳的咖啡豆的至少一部分位于发射器与接收器之间；研磨机构，该研磨机构用于研磨由料斗进料的咖啡豆；以及与发射器、接收器和研磨机构连通的控制器，该控制器被配置为：从接收器接收指示由接收器接收的信号的一部分的测量结果；基于测量结果来确定料斗是否容纳至少阈值量的咖啡豆；并且响应于确定该料斗容纳少于该阈值量的咖啡豆，执行一个或多个检测功能。
3、在某些实施方案中，发射器位于料斗内。
4、在某些实施方案中，接收
5、在某些实施方案中，咖啡豆研磨设备包括用户反馈装置，其中该一个或多个检测功能包括控制器控制用户反馈装置提供指示确定料斗容纳少于阈值量的咖啡豆的警告。
6、在某些实施方案中，咖啡豆研磨设备还包括：与控制器电连通的第一感应线圈；和与发射器电连通的第二感应线圈；其中控制器被配置为在第一感应线圈中生成第一电流，该第一电流被动地在第二感应线圈中感生第二电流，其中响应于在第二感应线圈中感生第二电流，发射器发射信号。
7、在某些实施方案中，研磨机构包括与电功率源电连通的第一电触点，并且料斗包括与发射器电连通的第二电触点，其中发射器由经由与第二电触点电连通的第一电触点从电功率源接收的电力供电。
8、在某些实施方案中，第一电触点和第二电触点是弹簧触点，当料斗可释放地联接到研磨机构时，这些弹簧触点一起被偏压成电连通。
9、在某些实施方案中，料斗包括从料斗的出口向内延伸的盖组件，其中发射器安装到盖组件。
10、在某些实施方案中，盖组件包括从颈部结构延伸的肩部结构，其中发射器安装到肩部结构的下侧表面。
11、在某些实施方案中，发射器是被配置为发射电磁信号的电磁信号发射装置，并且其中接收器是被配置为测量电磁信号的接收信号强度的电磁信号接收装置。
12、在某些实施方案中，电磁信号发射装置是可见光发射装置，电磁信号是可见光信号，并且接收器是光电探测器。
13、在某些实施方案中，可见光发射装置是发光装置(led)。
14、在某些实施方案中，电磁信号发射装置为红外光发射装置，电磁信号是红外光信号，并且接收器是红外光传感器。
15、在某些实施方案中，发射器是被配置为发射音频信号的音频信号发射装置，并且其中接收器是被配置为测量音频信号的接收信号强度的换能器装置。
16、在某些实施方案中，音频发射装置是超声发射器，音频信号是超声信号，并且换能器装置是超声换能器。
17、在某些实施方案中，控制器被配置为：控制接收器以当发射器不发射信号时获得基线测量结果；并且确定测量结果与基线测量结果之间的差值，其中控制器响应于确定差值等于或超过存储在控制器的存储器中的差值阈值而执行该一个或多个检测功能。
18、在某些实施方案中，控制器安装到研磨机构。
19、在某些实施方案中，料斗包括与控制器连通的二氧化碳传感器和/或湿度传感器，用于测量容纳在料斗内的咖啡豆的新鲜度，其中控制器被配置为：将料斗内的测量的二氧化碳水平和/或测量的湿度水平中的至少一者与存储在控制器的存储器内的一个或多个阈值进行比较；以及基于比较来执行一个或多个新鲜度检测功能。
20、在某些实施方案中，咖啡豆研磨设备还包括多个发射器和多个接收器，其中控制器被配置为：从每个接收器接收指示所接收的多个信号的一部分的多个测量结果，该多个信号由该多个发射器发射；以及基于该多个测量结果来确定料斗是否具有至少阈值量的咖啡豆容纳在其中。
21、另一方面，提供了一种具有集成的集成研磨设备的浓咖啡机，其中研磨设备根据第一方面及其实施方案进行配置。
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1.一种咖啡豆研磨设备，所述咖啡豆研磨设备包括：
2.根据权利要求2所述的咖啡豆研磨设备，其中所述发射器位于所述料斗内。
3.根据权利要求1或2所述的咖啡豆研磨设备，其中所述接收器位于：
4.根据权利要求1至3中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述咖啡豆研磨设备包括用户反馈装置，其中所述一个或多个检测功能包括所述控制器控制所述用户反馈装置提供指示确定所述料斗容纳少于所述阈值量的咖啡豆的警告。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述咖啡豆研磨设备还包括：
6.根据权利要求1至4中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述研磨机构包括与电功率源电连通的第一电触点，并且所述料斗包括与所述发射器电连通的第二电触点，其中所述发射器由经由与所述第二电触点电连通的所述第一电触点从所述电功率源接收的电力供电。
7.根据权利要求6所述的咖啡豆研磨设备，其中所述第一电触点和所述第二电触点是弹簧触点，当所述料斗可释放地联接到所述研磨机构时，所述弹簧触点一起被偏压成电连通。
8.根据权利要求1至7中任一项
9.根据权利要求8所述的咖啡豆研磨设备，其中所述盖组件包括从颈部结构延伸的肩部结构，其中所述发射器安装到所述肩部结构的下侧表面。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述发射器是被配置为发射电磁信号的电磁信号发射装置，并且其中所述接收器是被配置为测量所述电磁信号的接收信号强度的电磁信号接收装置。
11.根据权利要求10所述的咖啡豆研磨设备，其中所述电磁信号发射装置是可见光发射装置，所述电磁信号是可见光信号，并且所述接收器是光电探测器。
12.根据权利要求11所述的咖啡豆研磨设备，其中所述可见光发射装置是发光装置(LED)。
13.根据权利要求10所述的咖啡豆研磨设备，其中所述电磁信号发射装置是红外光发射装置，所述电磁信号是红外光信号，并且所述接收器是红外光传感器。
14.根据权利要求1至9中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述发射器是被配置为发射音频信号的音频信号发射装置，并且其中所述接收器是被配置为测量所述音频信号的接收信号强度的换能器装置。
15.根据权利要求14所述的咖啡豆研磨设备，其中所述音频发射装置是超声发射器，所述音频信号是超声信号，并且所述换能器装置是超声换能器。
16.根据权利要求1至15中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述控制器被配置为：
17.根据权利要求1至16中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述控制器安装到所述研磨机构。
18.根据权利要求1至17中任一项所述的咖啡研磨设备，其中所述料斗包括与所述控制器电连通的二氧化碳传感器和/或湿度传感器，用于测量容纳在所述料斗内的所述咖啡豆的新鲜度，其中所述控制器被配置为：
19.根据权利要求1至18中任一项所述的咖啡研磨设备，还包括多个发射器和多个接收器，其中所述控制器被配置为：
20.一种具有集成的集成研磨设备的浓咖啡机，其中所述研磨设备根据权利要求1至19中任一项进行配置。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种咖啡豆研磨设备，所述咖啡豆研磨设备包括：
2.根据权利要求2所述的咖啡豆研磨设备，其中所述发射器位于所述料斗内。
3.根据权利要求1或2所述的咖啡豆研磨设备，其中所述接收器位于：
4.根据权利要求1至3中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述咖啡豆研磨设备包括用户反馈装置，其中所述一个或多个检测功能包括所述控制器控制所述用户反馈装置提供指示确定所述料斗容纳少于所述阈值量的咖啡豆的警告。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述咖啡豆研磨设备还包括：
6.根据权利要求1至4中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述研磨机构包括与电功率源电连通的第一电触点，并且所述料斗包括与所述发射器电连通的第二电触点，其中所述发射器由经由与所述第二电触点电连通的所述第一电触点从所述电功率源接收的电力供电。
7.根据权利要求6所述的咖啡豆研磨设备，其中所述第一电触点和所述第二电触点是弹簧触点，当所述料斗可释放地联接到所述研磨机构时，所述弹簧触点一起被偏压成电连通。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述料斗包括从所述料斗的出口向内延伸的盖组件，其中所述发射器安装到所述盖组件。
9.根据权利要求8所述的咖啡豆研磨设备，其中所述盖组件包括从颈部结构延伸的肩部结构，其中所述发射器安装到所述肩部结构的下侧表面。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的咖啡豆研磨设备，其中所述发射器是被配置为发射电磁信号的电磁信号发射装置，并且其中所述接收器是被配置为测量所述电磁信号的接收信号...
【专利技术属性】
技术研发人员：L·S·维达纳加马机顿，C·普萨罗洛格斯，
申请(专利权)人：布瑞威利私人有限公司，
类型：发明
国别省市：
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