【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁透镜，更具体地，涉及一种磁透镜。
技术介绍
1、在磁透镜工作的过程中，磁透镜中的组件会受到磁透镜中的磁场产生组件所产生的磁场的影响，产生相对位移。基于此，存在磁场产生组件的磁场使磁透镜中的组件产生振动，从而影响整个粒子束设备内部组件的机械稳定性和设备精度的问题。
技术实现思路
1、鉴于上述问题，本专利技术提供了一种磁透镜。
2、根据本专利技术提供的一种磁透镜，用于利用旋转对称的磁场使射入磁透镜的粒子束进行聚焦，该磁透镜包括：
3、磁场产生组件，用于产生磁场。
4、磁轭，用于改变磁场的磁感线的路径。
5、磁流变材料，设置在磁轭和磁场产生组件之间，以便于改变路径后的磁感线穿过磁流变材料，使磁流变材料发生流变特性变化，从而通过磁流变材料抑制由磁场产生组件引起的振动。
6、根据本专利技术的实施例，上述磁流变材料的硬度与上述磁场的磁场强度之间正相关。
7、根据本专利技术的实施例，上述磁透镜还包括支撑架。上述磁场产...
【技术保护点】
1.一种磁透镜，其特征在于，用于利用旋转对称的磁场使射入所述磁透镜的粒子束进行聚焦，包括：
2.根据权利要求1所述的磁透镜，其特征在于，所述磁流变材料的硬度与所述磁场的磁场强度之间正相关。
3.根据权利要求1所述的磁透镜，其特征在于，所述磁透镜还包括支撑架；
4.根据权利要求3所述的磁透镜，其特征在于，在所述支撑架用于支撑所述第一磁场产生子组件的情况下，所述第二磁场产生子组件设置在所述磁轭中。
5.根据权利要求3所述的磁透镜，其特征在于，所述第一磁场产生子组件包括永磁铁，所述永磁铁的材料包括钕铁硼、钐钴和铝镍钴中的至少一
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【技术特征摘要】
1.一种磁透镜，其特征在于，用于利用旋转对称的磁场使射入所述磁透镜的粒子束进行聚焦，包括：
2.根据权利要求1所述的磁透镜，其特征在于，所述磁流变材料的硬度与所述磁场的磁场强度之间正相关。
3.根据权利要求1所述的磁透镜，其特征在于，所述磁透镜还包括支撑架；
4.根据权利要求3所述的磁透镜，其特征在于，在所述支撑架用于支撑所述第一磁场产生子组件的情况下，所述第二磁场产生子组件设置在所述磁轭中。
5.根据权利要求3所述的磁透镜，其特征在于，所述第一磁场产生子组件包括永磁铁，所述永磁铁的材料包括钕铁硼、钐钴和铝镍钴中的至少一种。
【专利技术属性】
技术研发人员：郭晨瑜，张振生，宋学锋，俞大鹏，
申请(专利权)人：合肥国家实验室，
类型：发明
国别省市：
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