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包括具有吸收层和紫外反射镜的多层制品的设备、系统和进行消毒的方法技术方案

技术编号:40431036 阅读:8 留言:0更新日期:2024-02-20 22:53
本发明专利技术提供了设备,该设备包括:外壳,该外壳限定至少一个窗口;宽带UVC光源;和多层制品,该多层制品定位在该外壳内。该多层制品包括:吸收层;和紫外反射镜,该紫外反射镜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层。该吸收层吸收和/或散射波长在至少230纳米(nm)与400nm之间的紫外光。该紫外反射镜反射波长范围从190nm至240nm的紫外光。还提供了对材料进行消毒的方法,该方法包括:获得设备并导引紫外辐射穿过该窗口;以及将该材料暴露于该紫外辐射达足以实现该材料的期望消毒程度的时间。还提供了包括该设备的系统和计算设备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开总体上涉及选定波长的紫外(uv)光的用途。


技术介绍

1、紫外(uv)光可用于例如引发在涂料、粘合剂和聚合物材料中使用的自由基反应化学物质。紫外光也可用于例如消毒表面、过滤器、绷带、薄膜、制品、空气和液体(例如,水)。可应用uvc(即,包括100纳米至280纳米范围内的波长的紫外线c)消毒的示例包括医疗机构和医疗用品、飞机洗手间、病房和外科设备、学校、空气和水纯化以及消费型应用(例如,牙刷和移动电话消毒)。随着病原体突变并发展出抗生素抗性,预防感染和疾病传播(尤其是针对高危环境和人群)已变得越来越重要。全球人类旅行的可能性和速度加大了快速发展的流行病/大流行病的风险。空气和水消毒对人类健康和预防感染性疾病至关重要。uvc消毒的有益效果包括无接触应用,并且对非基因特异性靶标处细胞的机械破坏不大可能通过病原体突变克服来产生抗性。使用紫外光消毒过的除金属、陶瓷或玻璃表面之外的表面将需要保护以免受紫外光照射。可施加uvc辐射以有效地灭活或杀灭原核和真核微生物等,包括细菌、病毒、真菌和霉菌。对一种或多种抗生素具有发展抗性的细菌菌株也易受uvc光的影响。值得关注的病原体的一些示例包括医源性感染(例如,艰难梭菌、大肠杆菌、mrsa、克雷伯氏菌、流行性感冒、分枝杆菌和肠细菌)、水源性和土壤源性感染(例如,巨化症、军团杆菌和弯曲杆菌)以及空气源性感染(例如,流行性感冒、肺炎和肺结核)。

2、然而,uv光也可对人和动物有不同程度的危害。例如,发出400nm至500nm波长的光的uv光源可对眼睛造成长期损伤。


技术实现思路

1、在第一方面,提供了一种设备。该设备包括:a)外壳,该外壳基本上不透波长从280nm至400nm的紫外辐射,并且至少一个窗口被限定在该外壳中;b)宽带uvc光源,该宽带uvc光源定位在该外壳内或与该外壳相邻的任选罩壳内;和c)多层制品,该多层制品定位在该外壳内。该宽带uvc光源被配置为将光导引到该多层制品的该紫外反射镜处。该多层制品包括i)吸收层,该吸收层吸收、散射或者吸收和散射波长在至少230纳米与400纳米之间的入射紫外光的至少50%、60%、70%、80%、90%或95%。该吸收层具有主表面。该多层制品还包括:ii)紫外反射镜,该紫外反射镜与该吸收层的该主表面相邻,其中该紫外反射镜由至少多个交替的第一光学层和第二光学层组成,该第一光学层和该第二光学层以0°、15°、30°、45°、60°或75°中的至少一者的入射光角共同地反射波长范围从195纳米或200nm至230纳米、235nm或240nm的入射紫外光的至少50%、60%、70%、80%、90%或95%;并且以0°、15°、30°、45°、60°或75°中的至少一者的入射光角共同地透射波长范围从大于230纳米、大于235nm或大于240nm至400纳米的入射紫外光的至少50%、60%、70%、80%、90%或95%。

2、在第二方面,提供了一种对至少一种材料进行消毒的方法。该方法包括获得根据第一方面的设备并导引由该宽带uvc光源发射的紫外辐射穿过该窗口;以及将该至少一种材料暴露于穿过该窗口的该紫外辐射达足以实现该至少一种材料的期望消毒程度的时间。任选地,进行暴露,直至实现存在于该至少一种材料上或中的至少一种微生物的量与在将该至少一种材料暴露于穿过该窗口的该紫外辐射之前存在的该至少一种微生物的量相比减少log 2、log 3、log 4或更多。该方法可用于例如对材料诸如表面(例如,墙壁、地板、家具)、医疗器械、卫生制品、空气、液体(例如,水或饮料)、过滤介质、食品制备设备和多孔膜片进行消毒。

3、在第三方面,提供了一种系统。该系统包括:根据第一方面所述的设备;一个或多个电子传感器,该一个或多个电子传感器被配置为生成指示该设备的操作的数据;以及至少一个计算设备,该少一个计算设备包括一个或多个计算机处理器以及存储器,该存储器包括指令。当该指令由该一个或多个计算机处理器执行时,该执行使该一个或多个计算机处理器:接收指示该设备的操作的数据;将该数据应用于存储在该存储器中的消毒模型,该消毒模型表征该设备的活动;并且基于对设备活动的识别,无线地向该设备发送基于该消毒模型的反馈。

4、在第四方面,提供了一种计算设备。该计算设备包括一个或多个计算机处理器。该计算设备还包括存储器,该存储器包括指令,该指令当由该一个或多个计算机处理器执行时使该一个或多个计算机处理器:从第一方面的设备获得使用数据,其中该使用数据包括指示该设备的操作的数据;将该使用数据应用于存储在该存储器中的消毒模型,该消毒模型表征该设备的活动;并且基于对设备活动的识别,无线地向该设备发送基于该消毒模型的反馈。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种设备,所述设备包括:

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳被配置为阻挡来自所述宽带UVC光源的光直接穿过所述窗口,例外的是从所述宽带UVC光源行进至少3厘米(cm)、3.25cm、3.5cm、3.75cm或至少4cm的距离到所述窗口的光。

3.根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳被配置为阻挡来自所述宽带UVC光源的光直接穿过所述窗口。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其中所述外壳的至少一部分的横截面形成半圆形形状、圆形形状、椭圆形形状、抛物线形状或矩形形状。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的设备,所述设备还包括至少一个角控制元件,所述至少一个角控制元件设置在所述外壳中。

6.根据权利要求5所述的设备,其中所述至少一个角控制元件包括凹形形状。

7.根据权利要求6所述的设备,其中所述宽带UVC光源设置在由所述外壳形成的第一凹形形状与由所述角控制元件形成的第二凹形形状之间,其中所述第一凹形形状在与所述第二凹形形状相反的方向上弯曲。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的设备,其中所述至少一个角控制元件包括准直器、回射器、漫射器或反射转向器中的至少一者。

9.根据权利要求5至8中任一项所述的设备,其中至少一个角控制膜设置在所述宽带UVC光源与所述窗口之间。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的设备,其中所述外壳还限定第二窗口。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的设备,其中所述吸收层包含有机硅热塑性材料、含氟聚合物、它们的共聚物或它们的共混物。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的设备,其中所述吸收层还包含紫外辐射吸收剂、紫外辐射散射剂、受阻胺光稳定剂、抗氧化剂、颜料或它们的组合中的一者或多者。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的设备,其中所述吸收层包括连续金属涂层或层。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的设备,其中所述紫外反射镜以0°、15°、30°、45°、60°或75°中的至少一者的入射光角吸收波长在至少400纳米与700纳米之间的入射可见光的至少30%、至少80%、至少90%、至少95%或至少98%。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的设备,所述设备还包括与所述吸收层的主表面相邻并与所述紫外反射镜相背的传热层、多个传热翅片或多个传热销中的至少一者。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的设备,所述设备还包括可见光源,所述可见光源被配置为当所述UVC光源正在发射光时所述可见光源发射可见光。

17.根据权利要求1至16中任一项所述的设备,所述设备还包括启动开关,当用户接合所述启动开关时,所述启动开关使所述UVC光源发射光或停止发射光。

18.一种对至少一种材料进行消毒的方法,所述方法包括:

19.一种系统,所述系统包括:根据权利要求1至17中任一项所述的设备;一个或多个电子传感器,所述一个或多个电子传感器被配置为生成指示所述设备的操作的数据;以及至少一个计算设备,所述至少一个计算设备包括一个或多个计算机处理器以及存储器,所述存储器包括指令,所述指令当由所述一个或多个计算机处理器执行时使所述一个或多个计算机处理器:接收指示所述设备的操作的所述数据;将所述数据应用于存储在所述存储器中的消毒模型,所述消毒模型表征所述设备的活动;并且基于对设备活动的识别,无线地向所述设备发送基于所述消毒模型的反馈。

20.一种计算设备,所述计算设备包括:一个或多个计算机处理器;和存储器,所述存储器包括指令,所述指令当由所述一个或多个计算机处理器执行时使所述一个或多个计算机处理器:从根据权利要求1至17中任一项所述的设备获得使用数据,其中所述使用数据包括指示所述设备的操作的数据;将所述使用数据应用于存储在所述存储器中的消毒模型,所述消毒模型表征所述设备的活动;并且基于对设备活动的识别,无线地向所述设备发送基于所述消毒模型的反馈。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种设备,所述设备包括:

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳被配置为阻挡来自所述宽带uvc光源的光直接穿过所述窗口,例外的是从所述宽带uvc光源行进至少3厘米(cm)、3.25cm、3.5cm、3.75cm或至少4cm的距离到所述窗口的光。

3.根据权利要求1所述的设备,其中所述外壳被配置为阻挡来自所述宽带uvc光源的光直接穿过所述窗口。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其中所述外壳的至少一部分的横截面形成半圆形形状、圆形形状、椭圆形形状、抛物线形状或矩形形状。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的设备,所述设备还包括至少一个角控制元件,所述至少一个角控制元件设置在所述外壳中。

6.根据权利要求5所述的设备,其中所述至少一个角控制元件包括凹形形状。

7.根据权利要求6所述的设备,其中所述宽带uvc光源设置在由所述外壳形成的第一凹形形状与由所述角控制元件形成的第二凹形形状之间,其中所述第一凹形形状在与所述第二凹形形状相反的方向上弯曲。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的设备,其中所述至少一个角控制元件包括准直器、回射器、漫射器或反射转向器中的至少一者。

9.根据权利要求5至8中任一项所述的设备,其中至少一个角控制膜设置在所述宽带uvc光源与所述窗口之间。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的设备,其中所述外壳还限定第二窗口。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的设备,其中所述吸收层包含有机硅热塑性材料、含氟聚合物、它们的共聚物或它们的共混物。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的设备,其中所述吸收层还包含紫外辐射吸收剂、紫外辐射散射剂、受阻胺光稳定剂、抗氧化剂、颜料或它们的组合中的一者或多者。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的设备,其中所述吸收层包括连续金属涂层或层。

14.根据权利要求1至13中任一...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒂莫西·J·赫布林克约翰·A·惠特利巴拉特·R·阿查理雅刘涛
申请(专利权)人:三M创新有限公司
类型:发明
国别省市:

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