【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于支撑衬底的衬底保持件、包括衬底保持件的光刻设备、用于固定到衬底保持件的结构、将衬底支撑在衬底保持件上的方法以及将衬底夹持在衬底保持件的方法。
技术介绍
1、光刻设备是一种被构造成将所期望的图案应用于衬底上的机器。例如，光刻设备可用于制造集成电路(ic)。例如，光刻设备可将图案形成装置(例如掩模)的图案(通常也称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
2、随着半导体制造过程的持续进步，电路元件的尺寸已持续不断地减小，而每个器件的功能元件(诸如晶体管)的数量几十年来一直在稳步地增加，所遵循的趋势通常被称为“摩尔定律”。为了跟上摩尔定律，半导体行业一直在追求能够创建越来越小特征的技术。为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长决定了在所述衬底上图案化的特征的最小尺寸。目前使用的典型波长为365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。
3、光刻设备可以包括用于提供投影辐射束的照射系统和用于支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置可以用于在投影束的横截面中向投影束赋予图案。该设备还可以包括用于将经图案化的束投影到衬底的目标部分上的投影系统。
4、在光刻设备中，待曝光的衬底(其可以被称为生产衬底)可以被保持在衬底保持件(有时被称为晶片台)上。衬底保持件可以相对于投影系统是可移动的。衬底保持件通常包括由刚性材料制成的、在平面上具有与待支撑的生产衬底相似的尺寸的实体部。实体部的面向衬底的表面可以设置有多个突出
5、在制造器件的过程期间，特别是当形成具有显著高度的结构(例如所谓的3d-nand)时，生产衬底可能变形。通常，衬底可能变成“碗状”，即从上方观看是凹形的，或“伞状”，即从上方观看是凸形的。为了本公开的目的，在其上形成器件结构的表面被称为顶表面。在这种背景下，“高度”是在衬底的名义表面的的垂直方向上测量的，所述方向可以称为z方向。碗状和伞状衬底在被夹持到衬底保持件上时，会例如通过部分地抽空衬底和衬底保持件之间的空间而在一定程度上被压平。然而，如果变形量太大，所述变形量通常通过衬底表面上的最低点和衬底表面上的最高点之间的高度差进行测量，则可能出现各种问题。特别地，可能难以充分地夹持衬底，从而可能在衬底的装载和卸载期间存在突节的过度磨损，以及衬底表面中的其余高度变化可能太大而不能在衬底的所有部分上，特别是在靠近边缘的部分上实现正确的图案化。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种能够在衬底上进行有效图案形成的衬底保持件。有利地，根据实施例的衬底保持件可以容易地调整以改进衬底的夹持。
2、根据本专利技术的第一方面，提供了一种在衬底保持件的基部表面上使用的结构，其中：所述结构是实质上平面的，所述结构具有面向衬底保持件的表面，所述面向衬底保持件的表面能够固定到所述衬底保持件的所述基部表面，并且还能够从所述衬底保持件的所述基部表面移除；以及所述结构包括通过所述结构的多个孔，所述多个孔被布置成使得所述基部表面上的多个突节能够穿过相应的孔；其中：所述孔的直径在50μm至1000μm的范围内；以及相邻孔之间的节距在1mm至3mm的范围内。
3、根据本专利技术的第二方面，提供了一种衬底保持件，所述衬底保持件被配置为支撑衬底，所述衬底保持件包括：基部表面；多个突节，所述多个突节从所述基部表面突出，其中每个突节具有远端，并且多个突节被布置成使得当所述衬底被所述衬底保持件支撑时，所述衬底被所述多个突节的远端支撑；和至少一个根据第一方面的结构，所述结构被固定到所述基部表面。
4、根据本专利技术的第三方面，提供了一种衬底保持件和一个或多个根据第一方面的结构，其中所述衬底保持件被配置为支撑衬底，所述衬底保持件包括：基部表面；和多个突节，所述多个突节从所述基部表面突出，其中每个突节具有远端，并且多个突节被布置成使得当所述衬底被所述衬底保持件支撑时，所述衬底被所述多个突节的远端支撑。
5、根据本专利技术的第四方面，提供了一种光刻设备，所述光刻设备包括根据第二方面的衬底保持件；和/或根据第三方面的衬底保持件和一个或多个结构。
6、根据本专利技术的第五方面，提供了一种调整衬底保持件的方法，所述方法包括：获得包括基部表面的衬底保持件；以及将一个或多个根据第一方面的结构固定到所述基部表面；其中所述衬底保持件被配置为支撑衬底，并且所述衬底保持件包括多个突节，所述多个突节从所述基部表面突出，其中每个突节具有远端，并且多个突节被布置成使得当所述衬底被所述衬底保持件支撑时，所述衬底被所述多个突节的远端支撑。
7、根据本专利技术的第六方面，提供了一种衬底保持件，包括：基部表面；多个突节，所述多个突节从所述基部表面突出并且被配置为支撑衬底；和在所述基部表面上的多个可移除结构；其中：所述多个可移除结构各自具有不同的厚度；以及所述多个可移除结构各自形成有多个孔，以便容纳所述多个突节的一部分。
8、根据本专利技术的第七方面，提供了一种衬底保持件，包括：基部表面；多个突节，所述多个突节从所述基部表面突出并且被配置为支撑衬底；和在所述基部表面上的多个可移除结构；其中：所述多个可移除结构各自具有不同的厚度；以及所述多个可移除结构各自包括用于将所述结构粘附到所述基部表面的粘合剂层。
9、根据本专利技术的第八方面，提供了一种衬底保持件，包括：基部表面；多个突节，所述多个突节从所述基部表面突出并且被配置为支撑衬底；和在所述基部表面上的多个可移除结构；其中：所述多个可移除结构各自具有不同的厚度；以及多个可移除构件各自包括热塑性材料、聚醚醚酮、聚乙烯和金属中的一种或多种。
10、下面参考附图详细描述了本专利技术的其他实施例、特征和优点，以及本专利技术的各个实施例、特征和优点的结构和操作，以及本专利技术的各个实施例的结构和操作。
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1.一种在衬底保持件的基部表面上使用的结构，其中：
2.根据权利要求1所述的结构，还包括所述面向衬底保持件的表面上的粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述结构粘附到所述衬底保持件的所述基部表面，优选地，其中粘合剂包括压敏粘合剂。
3.根据权利要求1或2所述的结构，其中所述结构包括热塑性材料、聚醚醚酮、聚乙烯和金属中的一种或多种。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，还包括一个或多个升降销容纳开口，所述一个或多个升降销容纳开口被布置成使得，所述基部表面上的一个或多个升降销能够穿过相应的升降销容纳开口；和/或
5.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，其中：
6.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，其中所述结构的厚度小于170μm，并且优选为85μm、110μm或135μm。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，其中所述结构的所述面向衬底保持件的表面的至少部分为环形、至少部分为圆形或非圆形且非环形。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，其中所述结构的所述面向衬底保持件的表面的外周小于所述
9.一种衬底保持件，所述衬底保持件被配置为支撑衬底，所述衬底保持件包括：
10.根据权利要求9所述的衬底保持件，所述衬底保持件包括多个根据权利要求1至8中的任一项所述的结构，所述结构被固定到所述基部表面；
11.一种衬底保持件和一个或多个根据权利要求1至8中的任一项所述的结构，其中所述衬底保持件被配置为支撑衬底，所述衬底保持件包括：
12.根据权利要求11所述的衬底保持件和一个或多个结构，其中存在多个结构，并且所述结构具有不同的尺寸、形状和/或厚度。
13.一种光刻设备，所述光刻设备包括根据权利要求9或10所述的衬底保持件；和/或根据权利要求11或12所述的衬底保持件和一个或多个结构。
14.一种调整衬底保持件的方法，所述方法包括：
15.根据权利要求14所述的方法，还包括通过移除固定到所述基部表面的所述结构中的一个或多个结构来进一步调整所述衬底保持件。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种在衬底保持件的基部表面上使用的结构，其中：
2.根据权利要求1所述的结构，还包括所述面向衬底保持件的表面上的粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述结构粘附到所述衬底保持件的所述基部表面，优选地，其中粘合剂包括压敏粘合剂。
3.根据权利要求1或2所述的结构，其中所述结构包括热塑性材料、聚醚醚酮、聚乙烯和金属中的一种或多种。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，还包括一个或多个升降销容纳开口，所述一个或多个升降销容纳开口被布置成使得，所述基部表面上的一个或多个升降销能够穿过相应的升降销容纳开口；和/或
5.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，其中：
6.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，其中所述结构的厚度小于170μm，并且优选为85μm、110μm或135μm。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的结构，其中所述结构的所述面向衬底保持件的表面的至少部分为环形、至少部分为圆形或非圆形且非环形。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：G·克拉默，S·A·特姆普，T·林德艾杰，A·P·C·赫莱蒙斯，B·J·P·罗塞特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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