基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法和系统技术方案

本发明专利技术提供了一种基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法和系统，属于森林环境监测领域。所述方法包括：首先，确定制图的地理区域，收集与森林冠层高度相关的地理环境要素来刻画足迹点和未知点所处的地理环境条件；其次，通过比较两点间地理环境条件的综合相似性来衡量足迹点对未知点的代表程度；最后，根据区域所有足迹点对未知点的代表程度推测未知点的森林冠层高度并量化其空间推测不确定性。本发明专利技术突破了现有方法对足迹点全局代表性的严格要求，同时弥补其不能度量由足迹点代表性差而带来的推测不确定性局限，获得的森林冠层高度推测结果空间连续性更好，制图精度更高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于森林环境监测领域，具体涉及一种基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法和系统。

技术介绍

1、森林是地球气候的主要调节者，而森林冠层是森林生态系统的主要生产者，学者们通常采用对森林冠层高度制图的方式进行森林退化监测及森林恢复成效评估。

2、目前，国内外对于大尺度森林冠层高度制图的方法主要有两类：第一类方法是基于回归分析方法，将星载lidar数据估测的足迹点森林冠层高度作为地面真实值，利用统计理论构建森林冠层高度与地理环境协变量（气候、地形、林冠光谱反射率等）之间的“最优拟合”回归模型，并利用该回归模型推测未知位置森林冠层高度值，实现空间连续的森林冠层高度制图。虽然该方法原理简单，易于理解和计算；但是，该方法需要大量对研究区森林冠层高度空间变化具有良好的全局代表性的足迹点来构建满足平稳性假设的回归模型，忽略了区域足迹点个体代表性的差异对未知点森林冠层高度推测的影响。第二类方法是基于空间插值的森林冠层高度制图，即利用统计方法从足迹点集中构建森林冠层高度差异与地理环境协变量差异（如，林冠光谱、气候、地形等）的空间自相关关系，利用该空间本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，所述制图方法还包括：

3.根据权利要求1或2所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，所述森林冠层高度相关的数据还包括：机载LiDAR数据、野外实测数据、Sentinel-2数据、SRTM-DEM数据、气候数据以及土壤水分数据。

4.根据权利要求1或2所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，所述地理环境协变量，包括森林冠层特征、地形特征、气候特征以及土壤...

【技术特征摘要】

1.一种基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，所述制图方法还包括：

3.根据权利要求1或2所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，所述森林冠层高度相关的数据还包括：机载lidar数据、野外实测数据、sentinel-2数据、srtm-dem数据、气候数据以及土壤水分数据。

4.根据权利要求1或2所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，所述地理环境协变量，包括森林冠层特征、地形特征、气候特征以及土壤水分响应指数。

5.根据权利要求4所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在于，

6.根据权利要求1或2所述的基于样本点个体代表性的森林冠层高度制图方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪亮，何丽，史正涛，
申请(专利权)人：云南师范大学，
类型：发明
国别省市：