渲染方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:40420232 阅读:16 留言:0更新日期:2024-02-20 22:38
本申请实施例提供的渲染方法、装置、设备及存储介质,涉及电子技术领域。在图形渲染过程中,针对待渲染数据包括的待渲染模型,当待渲染模型满足第一条件时,基于第一光线发射密度,对待渲染模型执行光线追踪渲染,当待渲染模型满足第二条件时,基于第二光线发射密度,对待渲染模型执行光线追踪渲染;其中,第一条件和第二条件不同时,第一光线发射密度和第二光线发射密度不同。该技术方案中,待渲染模型满足的条件改变时,可以适应性的调整执行光线追踪渲染的光线发射密度,在保证渲染效果的情况下,降低了渲染功耗,提高了渲染效率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及图像处理,尤其涉及一种渲染方法、装置、设备及存储介质


技术介绍

1、随着计算机图形学的不断深入发展,渲染作为计算机图形学中最重要的研究课题,逐渐被广泛应用。其中,光线追踪技术由于基于现实物理规律可以生成逼近真实世界的渲染结果,是实现高品质、真实感、高品质画像的最主要技术。

2、光线追踪技术渲染得到逼真画像的光线追踪过程中,需要追踪场景中的每一条光线,其计算开销很大,在移动端是一种重度负载的技术,致使移动端的光线追踪的功耗大、执行效果低。


技术实现思路

1、本申请实施例提供一种渲染方法、装置、设备及存储介质,以解决现有光线追踪过程中存在的功耗大、执行效率低的问题。

2、本申请第一方面提供一种渲染方法,应用于电子设备,所述方法包括:获取待渲染数据,所述待渲染数据包括待渲染模型;当所述待渲染模型满足第一条件时,基于第一光线发射密度,对所述待渲染模型执行光线追踪渲染;当所述待渲染模型满足第二条件时,基于第二光线发射密度,对所述待渲染模型执行光线追踪渲染;其中,所述待渲染模型满足第一本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种渲染方法,应用于电子设备,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一可视范围占比与所述第二可视范围占比相同时,若所述第一距离大于所述第二距离,则所述第一光线发射密度小于所述第二光线发射密度。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一距离与所述第二距离相同时,若所述第一可视范围占比大于所述第二可视范围占比,则所述第一光线发射密度大于所述第二光线发射密度。

4.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据待渲染模型满...

【技术特征摘要】

1.一种渲染方法,应用于电子设备,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一可视范围占比与所述第二可视范围占比相同时,若所述第一距离大于所述第二距离,则所述第一光线发射密度小于所述第二光线发射密度。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一距离与所述第二距离相同时,若所述第一可视范围占比大于所述第二可视范围占比,则所述第一光线发射密度大于所述第二光线发射密度。

4.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据待渲染模型满足的条件,确定所述待渲染模型的光线发射密度,包括:

6.根据权利要求1至5任一项所述的方法,其特征在于,基于光线发射密度,对所述待渲染模型执行光线追踪渲染,所述光线发射密度为所述第一光线发射密度或所述第二光线发射密度,包括:

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述基于所述光线发射密度,对所述待渲染模型执行光线追踪渲染,得到所述待渲染模型的光线追踪渲染结果图像,包括:

8.根据权利要求6所述的方法,...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘智超
申请(专利权)人:荣耀终端有限公司
类型:发明
国别省市:

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