【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电磁波吸收与防护,特别是涉及一种低频吸波材料及其制备方法。
技术介绍
1、随着信息化技术的发展,日常生活中电子产品的使用日益频繁,带来了众多危害,尤其是信息安全和人体健康等。为了解决电磁波干扰问题,通常的手段是使用屏蔽和吸波材料,其中以吸收损耗为主的吸波材料由于不会造成二次电磁干扰而被广泛使用。常见的吸波材料主要包括金属粉体、铁氧体和纳米材料等,通常在高频波段表现出优异的吸波性能。而针对低频吸波材料,通常是一类具有高磁导率的材料,其中fesial粉体具有磁化强度高、涡流损耗小等特性,是这一种重要的低频吸波材料,但是也存在介电常数较高引起的阻抗不匹配问题。为了降低介电常数,现有方法主要通过对fesial粉体进行表面修饰,然而现有的表面修饰手段会极大的降低粉体的磁导率,从而影响材料的低频吸波性能。
2、因此,亟需设提供一种兼顾低介电常数和高磁导率的吸波材料,以满足低频吸波带宽和性能要求。
技术实现思路
1、针对现有技术中存在的一个或者多个技术问题,本专利技术提供了一种
...【技术保护点】
1.一种低频吸波材料,其特征在于,所述低频吸波材料包括FeSiAl粉体和均匀包覆在所述FeSiAl粉体表面的氧化石墨烯层。
2.根据权利要求1所述的低频吸波材料,其特征在于,所述氧化石墨烯层中所述氧化石墨烯的碳氧比为1.3~1.5。
3.根据权利要求1所述的低频吸波材料,其特征在于,所述FeSiAl粉体的尺寸为20~50μm。
4.根据权利要求1所述的低频吸波材料,其特征在于,所述氧化石墨烯层中所述氧化石墨烯的片层尺寸为1~10μm。
5.一种权利要求1-4任一项所述的低频吸波材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括
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【技术特征摘要】
1.一种低频吸波材料,其特征在于,所述低频吸波材料包括fesial粉体和均匀包覆在所述fesial粉体表面的氧化石墨烯层。
2.根据权利要求1所述的低频吸波材料,其特征在于,所述氧化石墨烯层中所述氧化石墨烯的碳氧比为1.3~1.5。
3.根据权利要求1所述的低频吸波材料,其特征在于,所述fesial粉体的尺寸为20~50μm。
4.根据权利要求1所述的低频吸波材料,其特征在于,所述氧化石墨烯层中所述氧化石墨烯的片层尺寸为1~10μm。
5.一种权利要求1-4任一项所述的低频吸波材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
6.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:翁传欣,贺军哲,孙新,吴韦,李金金,田江晓,卢天,孙要锋,
申请(专利权)人:北京环境特性研究所,
类型:发明
国别省市:
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