【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、测序平台可包括吸取器，该吸取器刺穿试剂贮存器的盖并且从试剂贮存器抽吸试剂。
技术实现思路
1、通过提供试剂贮存器以及相关系统和方法，可以实现相对现有技术的优点以及本公开中稍后描述的益处。下文描述了设备和方法的各种具体实施，并且这些设备和方法(包括和排除下文列举的附加具体实施)以任何组合(前提条件是这些组合不是不一致的)可克服这些缺点并实现本文所述的有益效果。
2、根据第一具体实施，一种设备包括系统和试剂贮存器。该系统包括试剂贮存器容座。该试剂贮存器被接纳在该试剂贮存器容座内并且具有主体和流体端口。该主体限定储存室、吸取器室以及流体耦接该储存室和该吸取器室的流体窦。该流体端口流体耦接到该吸取器室。
3、根据第二具体实施，一种设备包括试剂贮存器和流体端口。该试剂贮存器具有主体，该主体限定储存室、吸取器室以及流体耦接该储存室和该吸取器室的流体窦。该流体端口流体耦接到该吸取器室。
4、根据第三具体实施，一种方法包括将系统的流体接口与试剂贮存器的流体端口耦接。该试剂贮存器具有主体，该主体限定储存室、吸取器室以及流体耦接该储存室和该吸取器室的流体窦。该方法还包括使试剂从该储存室流过该吸取器室和该流体端口流到该流体接口。
5、根据第四具体实施，一种方法包括注塑成型试剂贮存器，该试剂贮存器包括主体，该主体限定部分地由壁限定的储存室、部分地由该壁限定的吸取器室以及在该储存室与该吸取器室之间的流体窦。该方法还包括注塑成型封盖，在该封盖上二
6、根据第五具体实施，一种设备包括系统、贮液器、封盖组件和盒组件。该系统包括气动接口和容座。该贮液器能够被接纳在该容座内并且具有主体，该主体包括具有流体开口的顶表面、在该顶表面处具有开口的储存室、流体窦以及限定面向外的沟槽的该主体的侧面。该流体开口流体耦接到该沟槽，并且该流体窦流体耦接该储存室和该沟槽。盖固定到该主体的该侧面，并且该沟槽和该盖限定吸取器流体路径。该封盖组件耦接到该顶表面并且具有覆盖该储存室的该开口的第一部分和覆盖该吸取器流体路径的该开口的第二部分。该顶表面和该第一部分限定充气室，并且该第一部分包括流体耦接到该充气室的气动端口。该第二部分包括流体耦接到该流体开口的流体端口。该盒组件包括能够耦接到该流体端口的流体接口、井凹以及流体耦接在该流体接口与该井凹之间的通道。
7、根据第六具体实施，一种设备包括具有主体、盖和流体端口的贮液器。该主体包括具有流体开口的顶表面、在该顶表面处具有开口的储存室以及流体窦。该主体的侧面限定面向外的沟槽，并且该流体开口流体耦接到该沟槽。该流体窦流体耦接该储存室和该沟槽。该盖固定到该主体的该侧面，并且该沟槽和该盖限定吸取器流体路径。该流体端口流体耦接到该吸取器流体路径。该流体接口将与该流体端口耦接以使得流体能够流出该吸取器流体路径。
8、根据第七具体实施，一种方法包括通过贮液器的吸取器流体路径将盒组件的流体接口与该贮液器的封盖组件的流体端口耦接。该贮液器具有主体，该主体包括具有流体开口的顶表面、在该顶表面处具有开口的储存室、流体窦以及限定面向外的沟槽的该主体的侧面。该流体开口流体耦接到该沟槽，并且该流体窦流体耦接到该储存室和该沟槽。该盖固定到该主体的该侧面，并且该沟槽和该盖限定该吸取器流体路径。该方法还包括使试剂从该储存室流出并且流过该吸取器流体路径流到该流体接口。
9、根据第八具体实施，一种制造设备的方法包括注塑成型试剂贮存器，该试剂贮存器包括主体，该主体限定储存室并且具有限定面向外的沟槽的侧面，流体窦流体耦接该储存室和该沟槽。该制造方法还包括将盖激光焊接到该试剂贮存器以在该沟槽与该盖之间形成吸取器流体路径。
10、根据第九具体实施，一种设备包括系统和试剂贮存器。该系统包括试剂歧管组件和试剂贮存器容座。该试剂歧管组件具有流体接口。该试剂贮存器被接纳在该试剂贮存器容座内并且具有主体和流体端口。该主体限定储存室、吸取器室以及流体耦接该储存室和该吸取器室的流体窦。该流体端口流体耦接到该吸取器室。该流体接口将与该流体端口耦接以允许流体流出该吸取器室。
11、根据第十具体实施，一种设备包括系统和试剂贮存器。该系统包括试剂贮存器容座。该试剂贮存器被接纳在该试剂贮存器容座内并且具有主体和流体端口。该主体限定储存室、吸取器流体路径以及流体耦接该储存室与该吸取器流体路径的流体窦。该流体端口流体耦接到该吸取器室。
12、进一步根据前述第一具体实施、第二具体实施、第三具体实施、第四具体实施、第五具体实施、第六具体实施、第七具体实施、第八具体实施、第九具体实施和/或第十具体实施，一种设备和/或方法还可包括以下中的任一者或多者：
13、在一个具体实施中，注塑成型主体。
14、在另一个具体实施中，设备还包括设置在吸取器室内的填充器。
15、在另一个具体实施中，填充器限定流体耦接储存室和流体端口的吸取器通道。
16、在另一个具体实施中，主体的顶表面限定流体耦接吸取器室和流体端口的流动路径。
17、在另一个具体实施中，封盖围绕吸取器室和流动路径密封。
18、在另一个具体实施中，吸取器通道是开放通道。
19、在另一个具体实施中，吸取器通道是封闭通道。
20、在另一个具体实施中，限定吸取器室和填充器的主体的表面限定流体耦接储存室和流体端口的吸取器通道。
21、在另一个具体实施中，主体包括定位在储存室与吸取器室之间的壁，并且填充器延伸经过壁的远侧端部。
22、在另一个具体实施中，设备包括封盖，并且填充器耦接到封盖。
23、在另一个具体实施中，设备包括封盖，并且填充器不耦接到封盖。在另一个具体实施中，系统包括气动接口和致动器，并且试剂贮存器包括气动端口。致动器移动气动接口以与气动端口耦接。
24、在另一个具体实施中，系统包括移动试剂贮存器的致动器。
25、在另一个具体实施中，系统包括致动器。
26、在另一个具体实施中，系统包括致动器，该致动器移动试剂歧管组件以耦接流体端口和流体接口。
27、在另一个具体实施中，设备还包括容纳在储存室内的试剂。
28、在另一个具体实施中，试剂包括脱水试剂。
29、在另一个具体实施中，试剂贮存器还包括耦接到主体的封盖。
30、在另一个具体实施中，封盖包括流体端口。
31、在另一个具体实施中，主体具有顶表面和底表面，并且储存室在该顶表面处具有开口并且吸取器室在该顶表面处具有开口。该设备还包括耦接到顶表面、覆盖储存室的开口和吸取器室的开口并且围绕储存室密封的封盖。
32、在另一个具体实施中，主体包括定位在储存室与吸取器室之间的壁。
33、在另一个具体实施中，主体还包括在底表面上的填充端口和覆盖本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种设备，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的设备，所述设备还包括设置在所述吸取器室内的填充器。
3.根据权利要求2所述的设备，其中所述填充器限定流体耦接所述储存室和所述流体端口的吸取器通道。
4.根据权利要求3所述的设备，其中所述吸取器通道是开放通道。
5.根据权利要求3至4中任一项所述的设备，其中所述吸取器通道是封闭通道。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的设备，其中限定所述吸取器室和所述填充器的所述主体的表面限定流体耦接所述储存室和所述流体端口的吸取器通道。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的设备，其中所述主体包括定位在所述储存室与所述吸取器室之间的壁，并且其中所述填充器延伸经过所述壁的远侧端部。
8.根据权利要求2至7中任一项所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述填充器耦接到所述封盖。
9.根据权利要求2至7中任一项所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述填充器不耦接到所述封盖。
10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体的顶表面限
11.根据权利要求10所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述封盖围绕所述吸取器室和所述流动路径密封。
12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体是注塑成型的。
13.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述系统包括气动接口和致动器，并且所述试剂贮存器包括气动端口，所述致动器移动所述气动接口以与所述气动端口耦接。
14.根据权利要求1至12中任一项所述的设备，其中所述系统包括移动所述试剂贮存器的致动器。
15.根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备还包括容纳在所述储存室内的试剂。
16.根据权利要求15所述的设备，其中所述试剂包括液体试剂。
17.根据权利要求15所述的设备，其中所述试剂包括脱水试剂。
18.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述试剂贮存器还包括耦接到所述主体的封盖。
19.根据权利要求18所述的设备，其中所述封盖包括所述流体端口。
20.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体具有顶表面和底表面，并且其中所述储存室在所述顶表面处具有开口并且所述吸取器室在所述顶表面处具有开口，所述设备还包括耦接到所述顶表面、覆盖所述储存室的所述开口和所述吸取器室的所述开口并且围绕所述储存室密封的封盖。
21.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体包括定位在所述储存室与所述吸取器室之间的壁。
22.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体还包括在所述底表面上的填充端口和覆盖所述填充端口的盖。
23.根据权利要求22所述的设备，其中所述填充端口在所述盖覆盖所述填充端口之前提供到所述储存室的通路。
24.根据权利要求22至23中任一项所述的设备，其中所述填充端口包括衬圈。
25.根据权利要求22至24中任一项所述的设备，其中所述盖包括箔。
26.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述系统对所述储存室加压。
27.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述系统包括具有气动接口的试剂歧管组件，并且所述试剂贮存器具有流体耦接到所述储存室的气动端口，并且其中所述试剂歧管组件的所述气动接口将与所述气动端口耦接以对所述储存室加压。
28.根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备还包括覆盖所述气动端口的盖。
29.根据权利要求28所述的设备，其中所述系统包括刺穿所述盖的刺穿器。
30.根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备还包括激光焊接到所述主体的封盖。
31.一种设备，所述设备包括：
32.根据权利要求31所述的设备，所述设备还包括设置在所述吸取器室内的填充器。
33.根据权利要求32所述的设备，其中所述填充器限定流体耦接所述储存室和所述流体端口的吸取器通道。
34.根据权利要求33所述的设备，其中所述吸取器通道是开放通道。
35.根据权利要求33所述的设备，其中所述吸取器通道是封闭通道。
36.根据权利要求31至35中任一项所述的设备，其中所述主体的顶表面限定流体耦接所述吸取器室和所述流体端口的流动路径。
37.根据权利要求36所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述封盖围绕所述吸取器室和所述流动路径密封。
<...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种设备，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的设备，所述设备还包括设置在所述吸取器室内的填充器。
3.根据权利要求2所述的设备，其中所述填充器限定流体耦接所述储存室和所述流体端口的吸取器通道。
4.根据权利要求3所述的设备，其中所述吸取器通道是开放通道。
5.根据权利要求3至4中任一项所述的设备，其中所述吸取器通道是封闭通道。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的设备，其中限定所述吸取器室和所述填充器的所述主体的表面限定流体耦接所述储存室和所述流体端口的吸取器通道。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的设备，其中所述主体包括定位在所述储存室与所述吸取器室之间的壁，并且其中所述填充器延伸经过所述壁的远侧端部。
8.根据权利要求2至7中任一项所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述填充器耦接到所述封盖。
9.根据权利要求2至7中任一项所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述填充器不耦接到所述封盖。
10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体的顶表面限定流体耦接所述吸取器室和所述流体端口的流动路径。
11.根据权利要求10所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述封盖围绕所述吸取器室和所述流动路径密封。
12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体是注塑成型的。
13.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述系统包括气动接口和致动器，并且所述试剂贮存器包括气动端口，所述致动器移动所述气动接口以与所述气动端口耦接。
14.根据权利要求1至12中任一项所述的设备，其中所述系统包括移动所述试剂贮存器的致动器。
15.根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备还包括容纳在所述储存室内的试剂。
16.根据权利要求15所述的设备，其中所述试剂包括液体试剂。
17.根据权利要求15所述的设备，其中所述试剂包括脱水试剂。
18.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述试剂贮存器还包括耦接到所述主体的封盖。
19.根据权利要求18所述的设备，其中所述封盖包括所述流体端口。
20.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体具有顶表面和底表面，并且其中所述储存室在所述顶表面处具有开口并且所述吸取器室在所述顶表面处具有开口，所述设备还包括耦接到所述顶表面、覆盖所述储存室的所述开口和所述吸取器室的所述开口并且围绕所述储存室密封的封盖。
21.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体包括定位在所述储存室与所述吸取器室之间的壁。
22.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述主体还包括在所述底表面上的填充端口和覆盖所述填充端口的盖。
23.根据权利要求22所述的设备，其中所述填充端口在所述盖覆盖所述填充端口之前提供到所述储存室的通路。
24.根据权利要求22至23中任一项所述的设备，其中所述填充端口包括衬圈。
25.根据权利要求22至24中任一项所述的设备，其中所述盖包括箔。
26.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述系统对所述储存室加压。
27.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述系统包括具有气动接口的试剂歧管组件，并且所述试剂贮存器具有流体耦接到所述储存室的气动端口，并且其中所述试剂歧管组件的所述气动接口将与所述气动端口耦接以对所述储存室加压。
28.根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备还包括覆盖所述气动端口的盖。
29.根据权利要求28所述的设备，其中所述系统包括刺穿所述盖的刺穿器。
30.根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备还包括激光焊接到所述主体的封盖。
31.一种设备，所述设备包括：
32.根据权利要求31所述的设备，所述设备还包括设置在所述吸取器室内的填充器。
33.根据权利要求32所述的设备，其中所述填充器限定流体耦接所述储存室和所述流体端口的吸取器通道。
34.根据权利要求33所述的设备，其中所述吸取器通道是开放通道。
35.根据权利要求33所述的设备，其中所述吸取器通道是封闭通道。
36.根据权利要求31至35中任一项所述的设备，其中所述主体的顶表面限定流体耦接所述吸取器室和所述流体端口的流动路径。
37.根据权利要求36所述的设备，所述设备还包括封盖，并且其中所述封盖围绕所述吸取器室和所述流动路径密封。
38.根据权利要求31至37中任一项所述的设备，其中所述主体的顶表面和封盖限定流体耦接所述吸取器室和所述流体端口的流动路径。
39.根据权利要求38所述的设备，其中所述封盖围绕所述吸取器室和所述流动路径密封。
40.根据权利要求31至39中任一项所述的设备，其中所述主体限定第二储存室、第二吸取器室以及流体耦接所述第二储存室和所述第二吸取器室的第二窦，所述封盖围绕所述第二储存室密封。
41.根据权利要求40所述的设备，所述设备还包括耦接到所述封盖且耦接到所述第二吸取器室的...
【专利技术属性】
技术研发人员：P·克里维利，J·戴维森，N·邱，
申请(专利权)人：伊鲁米那有限公司，
类型：发明
国别省市：
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