一种电解槽结构制造技术

技术编号:40374630 阅读:37 留言:0更新日期:2024-02-20 22:16
本技术公开了一种电解槽结构,包括槽体,所述槽体的内部底端处设置有清理机构,该清理机构包括:收集组件,该收集组件由收集部和清理部组成,所述收集部活动插入至槽体的底部内侧,用于对污泥进行收集,所述清理部活动设置在收集部的内侧,可以将收集部内死角位置的污泥进行清理;密封组件,设置在收集组件与槽体的连接处,用于对连接处进行密封,保证正常使用不受影响;通过设计的清理机构,能够通过抽拉的方式实现电解槽底部杂质的排出排出,有效提升清理效率,完善了现有电解槽在清理速度上的不足,并且该清理机构拆装方便,实用性较高,并且与电解槽本体的密封性也能够得到保证,使得正常电解处理能够正常进行。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于电解槽,具体涉及一种电解槽结构


技术介绍

1、酸性氯化铜蚀刻液普遍应用于目前的印刷线路板的蚀刻工序中,在在蚀刻铜箔的过程中,蚀刻液中cu2+离子的浓度减小,而cu+离子的浓度不断增大,蚀刻能力随之降低,当cu2+离子消耗至一定程度后,蚀刻液的蚀刻能力将无法满足生产需求而需再生处理,酸性蚀刻液再生主要有化学再生法和电解再生法,其中电解再生法是一种在线再生方法,可以实现蚀刻工作与蚀刻液再生在一个体系中连续运行,即阳极再生蚀刻液的同时,还可以在阴极沉积回收铜,使蚀刻过程中增加的铜得以回收,为线路板企业增加额外的收入,而电解法需要用到电解槽,电解槽由槽体、阳极和阴极组成,多数用隔膜将阳极室和阴极室隔开,按电解液的不同分为水溶液电解槽、熔融盐电解槽和非水溶液电解槽三类,当直流电通过电解槽时,在阳极与溶液界面处发生氧化反应,在阴极与溶液界面处发生还原反应,以制取所需产品。

2、公告号cn113003667a中公开了一中电解槽体结构,该专利通过将电解槽体底部改为倾斜状,可以使电解污泥借由重力排出,并且不需要拆卸阴阳极板,使用方便,但该种结构主要依本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电解槽结构,包括槽体(100),其特征在于:所述槽体(100)的内部底端处设置有清理机构,该清理机构包括:

2.根据权利要求1所述的一种电解槽结构,其特征在于:所述槽体(100)的底部一侧开设有底槽(100a),所述收集部为活动插入至底槽(100a)内的收集框(200),所述清理部包括活动设置在收集框(200)内部的刮板(202),在所述收集框(200)的内部还安装有内杆(201),该内杆(201)与刮板(202)活动贯穿。

3.根据权利要求2所述的一种电解槽结构,其特征在于:所述刮板(202)的两端端面与所述收集框(200)的内壁无缝贴合,所述刮板(20...

【技术特征摘要】

1.一种电解槽结构,包括槽体(100),其特征在于:所述槽体(100)的内部底端处设置有清理机构,该清理机构包括:

2.根据权利要求1所述的一种电解槽结构,其特征在于:所述槽体(100)的底部一侧开设有底槽(100a),所述收集部为活动插入至底槽(100a)内的收集框(200),所述清理部包括活动设置在收集框(200)内部的刮板(202),在所述收集框(200)的内部还安装有内杆(201),该内杆(201)与刮板(202)活动贯穿。

3.根据权利要求2所述的一种电解槽结构,其特征在于:所述刮板(202)的两端端面与所述收集框(200)的内壁无缝贴合,所述刮板(202)的顶端面不超过所述收集框(200)的顶端水平面。

4.根据权利要求2所述的一种电解槽结构,其特征在于:所述收集框(200)一端顶部固定有凸板(200a),在所述凸板(200a)的内侧面卡入有密封条(204)...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜海涛权平
申请(专利权)人:湖北林泰环境科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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