【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光电检测领域,具体涉及光学干涉、三维形貌测试、数字图像处理、机 电控制等技术。
技术介绍
阴影云纹法自1970年由Takasaki首次提出以来,已经有了广泛的应用,特别是在 电子封装可靠性评价方面,该方法一般用来测试印刷电路板(PCB)在热环境条件下的翘曲 变形。但该方法的分辨率受限于振幅型光栅的栅距,实用上一般不超过50微米,而且从云 纹图中提取物体的形貌信息较为繁杂,翘曲方向的判断也较为困难。最近20年来光测领域 出现的位相检测法为上述问题的解决提供了较好的手段,该方法不但可以大幅度提高阴影 云纹法的测试分辨率,还可以提高物体形貌信息提取的自动化程度,降低图像处理的难度。位相检测方法的一般原理如下初时云纹图的光场分布可以表示为=I0 = a(x, y)+b (χ, y)sinA (χ, y),其中,Δ (χ, y)被称为初始云纹图Itl的位相,它包含着物体的高度分布(三维形 貌)信息,a(x,y)为背景光强,b(x,y)为各点处的光强变化幅度,χ、y分别为云纹图像上 的像素位置。位相检测法出现以前,云纹条纹图的处理重点在于条纹中心线的提取和利用 ...
【技术保护点】
一种变入射光角度实现相移的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、标定,获得栅线在载物平台上的阴影每移动单位距离所需的入射光角度改变量θ;步骤二、选栅与置栅,根据待测物的最大高度,选择测试光栅的栅距及其置放高度;选择测试光栅的栅距p,取p=Z↓[max]/5~Z↓[max]/3,其中,Z↓[max]代表试件的最大高度;将测试光栅置于距载物平台Z↓[0]≥8Z↓[max]处,其中,Z↓[0]代表光栅于载物平台之间的距离;步骤三、采集初始图,将α=45°时的初始云纹图I↓[0]用像机记录,并数字化存储;步骤四、实施相移,改变平行光线入射角n次,得到n幅经过相移的云纹图I↓[1] ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:苏飞,穆军武,
申请(专利权)人:北京航空航天大学,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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