沉积装置制造方法及图纸

技术编号:40371507 阅读:4 留言:0更新日期:2024-02-20 22:14
本技术公开一种沉积装置,该沉积装置可以防止因不必要的沉积而导致的工艺精度的降低。根据实施例的沉积装置可以包括:基板支撑件,支撑基板;源供应部,向所述基板供应沉积用物质;沉积用掩模,安装于所述基板与所述源供应部之间;以及光供应部,以隔着所述沉积用掩模而面向所述基板的方式布置于所述沉积装置内或者能够从所述沉积装置拆卸。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种沉积装置及利用其的显示装置的制造方法。


技术介绍

1、显示装置包括液晶显示装置(lcd:liquid crystal display)、等离子体显示装置(pdp:plasma display panel)、有机发光显示装置(oled device:organic lightemitting display device)、场发射显示装置(fed:field emission display)、电泳显示装置(electrophoretic display device)。

2、在形成显示装置时,可以在多个像素区域分别堆叠所需的有机层。

3、随着显示装置的分辨率的提高,供第一沉积用物质沉积的区域与供第二沉积用物质沉积的区域之间的间隔变窄,由此而可能发生发出第一颜色的光的第一沉积用物质与发出第二颜色的光的第二沉积用物质混合,从而导致第一颜色和第二颜色混色的错误更频繁地发生。


技术实现思路

1、实施例用于提供一种能够防止在周边区域进行不必要的沉积的沉积装置及利用其的显示装置的制造方法。

2、然而,实施例所要解决的技术问题不限于上述的技术问题,其可以在实施例所包括的技术构思的范围内以多种方式扩展。

3、根据实施例的沉积装置可以包括:基板支撑件,支撑基板;源供应部,向所述基板供应沉积用物质;沉积用掩模,安装于所述基板与所述源供应部之间;以及光供应部,以隔着所述沉积用掩模而面向所述基板的方式布置于所述沉积装置内或者能够从所述沉积装置拆卸。

4、所述源供应部可以被构造为供应有机物质,所述光供应部可以被构造为供应紫外线的光。

5、所述光可以具有约160nm至172nm的波长,并且所述光可以具有约7.75ev至约7.21ev的能量。

6、所述有机物质的化学键可以借由所述光而分离。

7、所述沉积用掩模可以包括阻挡部和沉积部,所述阻挡部可以包括金属,所述沉积部可以包括精细金属图案。

8、所述沉积用掩模可以包括阻挡部和沉积部,所述沉积用掩模可以包括形成在所述沉积部的开口部。

9、所述光供应部位于所述沉积用掩模与所述源供应部之间,所述源供应部被构成为在所述光供应部被拆卸的状态下供应所述沉积用物质。

10、所述沉积用掩模被布置为从所述光供应部发出的光在与所述阻挡部对应的区域中被阻挡,并且入射至基板区域中的与所述沉积部对应的基板区域。

11、所述沉积用掩模包括:第一沉积用掩模,用于沉积第一沉积用物质;以及第二沉积用掩模,用于沉积第二沉积用物质,其中,所述第一沉积用掩模包括第一沉积部,所述第二沉积用掩模包括第二沉积部。

12、对应于所述第二沉积部的第二沉积区域与对应于所述第一沉积部的第一沉积区域的外廓区域中所述第一沉积用物质被沉积的一部分区域重叠。

13、根据实施例的显示装置的制造方法可以包括如下步骤:将基板安装在基板支撑件;与所述基板相邻地安装第一掩模;将第一有机物通过所述第一掩模从源供应部沉积到所述基板;与所述基板相邻地安装第二掩模;以隔着所述第二掩模而面向所述基板的方式安装光供应部;通过所述第二掩模,从所述光供应部向所述基板供应光。

14、所述显示装置的制造方法还可以包括如下步骤:在沉积所述第一有机物之前,以隔着所述第一掩模而面向所述基板的方式安装所述光供应部;从所述光供应部向所述第一掩模和所述基板供应所述光;以及在供应所述光之后,拆卸所述光供应部。

15、所述第一掩模可以包括第一阻挡部和第一沉积部,所述第一阻挡部可以包括金属,所述第一沉积部可以包括精细金属图案。

16、所述第一有机物可以沉积在所述基板区域中的与所述第一掩模的所述第一沉积部对应的沉积区域和包围所述沉积区域的周边区域。

17、所述第二掩模可以包括第二阻挡部和第二沉积部,所述第二阻挡部可以包括金属,所述第二沉积部可以包括精细金属图案。

18、所述第二沉积部的一部分可以与所述周边区域重叠。

19、所述光供应部可以供应作为紫外线的所述光。

20、沉积于与所述第二沉积部的一部分重叠的所述周边区域的所述第一有机物质的化学键可以借由所述光而分离。

21、所述光供应部可以供应具有约160nm至172nm的波长且具有约7.75ev至约7.21ev的能量的所述光。

22、所述的显示装置的制造方法还可以包括如下步骤:在拆卸所述光供应部之后,将第二有机物通过所述第二掩模从源供应部沉积到所述基板。

23、所述第一掩模可以包括第一阻挡部和第一透射部,所述第二掩模可以包括第二阻挡部和第二透射部,所述第一掩模可以具有形成在所述第一透射部的第一开口部,所述第二掩模可以具有形成在所述第二透射部的第二开口部。

24、所述第一掩模和所述第二掩模可以被安装为,所述第一掩模的所述第一阻挡部与所述第二掩模的所述第二透射部重叠,并且所述第一掩模的所述第一透射部与所述第二掩模的所述第二阻挡部重叠。

25、所述第一有机物被沉积在所述基板区域中的与所述第一掩模的所述透射部对应的沉积区域和所述沉积区域的周边区域,其中,所述沉积区域的所述周边区域可以与所述第二掩模的所述第二透射部重叠。

26、在与所述第二掩模的所述第二透射部重叠的所述沉积区域的所述周边区域沉积的所述第一有机物的化学键可以借由所述光而分离。

27、根据实施例的沉积装置及利用其的显示装置的制造方法,可以防止在沉积工艺时在周边区域进行不必要的沉积,从而可以防止因不必要的沉积而导致的工艺精度的降低。

28、然而,实施例的效果不限于上述的效果,在不脱离本技术的思想及领域的范围内,可以以多样的方式扩展是显而易见的。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种沉积装置,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,

3.如权利要求2所述的沉积装置,其特征在于,

4.如权利要求3所述的沉积装置,其特征在于,

5.如权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,

6.如权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,

7.如权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,

8.如权利要求5或6所述的沉积装置,其特征在于,

9.如权利要求8所述的沉积装置,其特征在于,

10.如权利要求9所述的沉积装置,其特征在于,

【技术特征摘要】

1.一种沉积装置,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,

3.如权利要求2所述的沉积装置,其特征在于,

4.如权利要求3所述的沉积装置,其特征在于,

5.如权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,

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【专利技术属性】
技术研发人员:文英慜
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:新型
国别省市:

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