本发明专利技术涉及曝光装置。本发明专利技术的目的在于提供一种即使是向比大型化方向的掩模更大的基板的曝光，也不会复制微细的点图案的曝光装置。曝光装置具有：从下方向掩模架按压掩模（１００）的掩模提升器（１０１）；用于调整掩模的位置的掩模推进器（１０２）；以及掩模架，具备在调整掩模的位置时，供给用于降低掩模和掩模架之间的摩擦阻力的气体的开口部（１０３－１１）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及利用大型掩模进行接近式曝光的曝光装置。
技术介绍
关于具有掩模输送机构和设定机构的接近式曝光装置，公开于例如专利文献1和 2。专利文献1 日本特开2006-86332号公报专利文献2 日本特开平6-267816号公报图7表示进行接近式曝光的曝光装置。本装置具有两个曝光用载物台，具有放置 于各载物台上的基板交替地被曝光的结构。对利用本装置进行曝光时的曝光用基板在装置 内的移动和曝光的次序进行说明。此外，符号215表示曝光用基板在接近式曝光装置和输 送线之间的出入。图8是表示曝光用基板在曝光装置内移动的次序的流程图。首先，曝光用基板220 由输送线210输送过来后，利用L输送用机械手204-1从输送线210输送到温度调节板(调 温板)206 (S801)。接着，前面的曝光用基板从L载物台203-1移出到输送线210后，曝光用 基板220从调温板206输送到L载物台203-1 (S802)。接下来，放置于R载物台203-2上的前面的曝光用基板的曝光结束，R载物台 203-2从掩模设置部207的下面移动后，放置有曝光用基板220的L载物台203-1向掩模 设置部207的下面移动(S803)。符号204-2是R输送用机械手。接着，利用从光源205引 出的紫外线光对基板220进行曝光(S804)。之后，从掩模设置部207的下面移动L载物台 203-1 (S805)。在此之后，将基板220输送到输送线210，结束曝光处理。下面，使用图9说明曝光用基板220从被输送到掩模设置部207的下部直至被曝 光的次序。若基板220移动到掩模设置部207的下面，则设定调整间隔用摄像机和定位摄 像机(S901)。接着，使用掩模侧高度方向(ζ方向)的驱动机构进行调整，以便利用调整间 隔用摄像机使掩模与基板220之间的间隔成为150 300 μ m。接下来，取得基板220和掩模的定位(S903)。利用图5A、图5B说明该定位的情况。 图5A是掩模的概略俯视图，图5B是用于说明掩模和基板定位的情况的掩模安装部的概略 剖视图。调整L载物台203-1的位置(χ方向，y方向，θ方向)，使设置于掩模100的曝光 区域140的四角上的定位标记141和设置于基板220上的定位标记142进入定位用摄像机 150的视野内，该定位用摄像机150是移动到基准位置并被设定的。符号145是图案区域。 并且，掩模100利用设在掩模架104上的掩模专用吸附孔103-2吸附在掩模架104上。然后，从曝光区域转移调整间隔用摄像机和定位用摄像机(S904)，进行曝光 (S905)。曝光利用从光源205引出的亮度为50mW/cm2(平方厘米)左右的紫外线(UV)进 行几秒钟。基板220具有例如四个曝光区域的场合，并且，为了对基板200的其他三个所定 区域进行曝光，移动L载物台203-1，进行剩下的3次曝光，结束曝光处理。此外，不言而喻， 曝光次数根据基板的大小(曝光区域的数量)而改变。如上所述，从利用曝光装置200对基板220进行曝光的结果可以看出，在基板表面 上，除了所定图案以外，还热粘有微细的点图案。虽然在现状中的图案不存在问题，但是在 图案尺寸微细化的场合会成为问题。在专利文献1中，公开了接近式曝光装置的掩模输送装置，该装置即使使用大型 尺寸的基板，掩模支撑机构也不会变成大型，能够实现小型化。但是，没有关于上述微细点 图案的指教和暗示。在专利文献2中记载了将掩模配置于掩模架上，利用从下方保持掩模 的技术，不损伤掩模，防止产生微粒，以简单的结构进行掩模的对位。但是，在专利文献2 中，在基板比掩模大的场合，无法使基板和掩模之间的距离接近到掩模支撑部件的厚度以 上，因此难以进行接近式曝光。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种进行接近式曝光的曝光装置，即使向比大型化方向的 掩模更大的基板的曝光，也不会誊写微细的点图案。作为用于实现上述目的的一个方式的曝光装置，进行接近式曝光，具有具备掩模 吸附孔的掩模架；从下方向所述掩模架按压掩模的掩模提升器；用于进行所述掩模的位置 调整的掩模推进器；以及用于放置复制有在所述掩模上形成的图案的基板的载物台，其特 征在于，还具有开口部，该开口部设置于所述掩模架上，在调整所述掩模的位置时，供给用 于降低所述掩模和所述掩模架之间的摩擦阻力的气体。而且，进行接近式曝光的曝光装置，具备温度调节板；放置曝光用基板的曝光用 载物台；输送机械手，将所述曝光用基板从输送线输送到所述温度调节板，或从所述温度调 节板输送到所述曝光用载物台，或将所述基板从所述曝光用载物台输送到所述输送线；掩 模设置部，设定形成有复制到放置于所述曝光用载物台上的所述基板的图案的掩模；以及 用于对所述掩模进行曝光的光源，其特征在于，所述掩模设置部具有从下方向所述掩模架 按压掩模的掩模提升器；用于进行所述掩模的位置调整的掩模推进器；以及掩模架，具备 吸附所述掩模的掩模吸附孔、以及在调整所述掩模的位置时供给用于降低所述掩模和所述 掩模架之间的摩擦阻力的气体的开口部。本专利技术的效果如下。能够提供即使是向比掩模更大的基板的曝光，也不会复制微细的点图案的进行接 近式曝光的曝光装置，附图说明图IA是第一实施例的曝光装置的掩模安装部的概略俯视图。图IB是图IA的沿YY线的概略剖视图。图2A是用于说明第一实施例的曝光装置的掩模的安装次序的掩模安装部的概略 剖视图。图2B是用于说明第一实施例的曝光装置的掩模的安装次序的掩模安装部的概略 剖视图。图2C是用于说明第一实施例的曝光装置的掩模的安装次序的掩模安装部的概略 剖视图。图3是用于说明第一实施例的曝光装置中调整掩模位置时的掩模与掩模架的位 置关系的掩模安装部的主要部分的概略剖视图。图4是用于说明调整掩模的安装位置的形式的掩模安装部的概略剖视图。图5A是掩模的概略俯视图。图5B是用于说明掩模和基板定位的形式的掩模安装部的概略剖视图。图6A是用于说明用掩模架支撑掩模的次序的掩模安装部的概略剖视图。图6B是用于说明用掩模架支撑掩模的次序的掩模安装部的概略剖视图。图6C是用于说明用掩模架支撑掩模的次序的掩模安装部的概略剖视图。图6D是用于说明用掩模架支撑掩模的次序的掩模安装部的概略剖视图。图7是表示曝光装置的结构的概略俯视图。图8是表示曝光用基板在曝光装置内移动的次序的流程图。图9是表示曝光用基板从被输送到掩模的下部直到被曝光的次序的流程图。图中100. · ·掩模，101. · ·掩模提升器，101-1. · ·垫，102. · ·掩模推进器，103-1. · ·掩 模吸附兼送风孔，103-11...送风兼吸附槽，103-2...掩模吸附专用孔，103-22...吸附专 用槽，104...掩模架，110...掩模提升器的移动方向，120...根据掩模推进器的移动的掩 模位置的调整，130-1...送风，130-2...掩模吸附，135...加压空气层，140...曝光区域， 141...定位标志，145...图案区域，150...定为用摄像机，200...曝光装置，201...掩 模储料器，202...掩模输送用机械手，203-1... L载物台(左侧)，203-2... R载物台(右 侧)，204-1. · · L输送用机械手，本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置，进行接近式曝光，具有：具备掩模吸附孔的掩模架；从下方向所述掩模架按压掩模的掩模提升器；用于进行所述掩模的位置调整的掩模推进器；以及用于放置复制有在所述掩模上形成的图案的基板的载物台，其特征在于，还具有开口部，该开口部设置于所述掩模架上，在调整所述掩模的位置时，供给用于降低所述掩模和所述掩模架之间的摩擦阻力的气体。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：神田宏幸，中野和幸，关一政，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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