启动加注处理方法以及启动加注处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够更大程度地减少在启动加注处理中使用的清洗液、缩短干燥处理时间以及延长清洗处理用工具和／或干燥处理用工具的使用寿命的启动加注处理方法以及启动加注处理装置。该启动加注处理装置在启动加注辊（１４）的周围沿旋转方向配置有具有清洗垫（２０）的粗清洗处理部（１８）、具有双流体喷嘴（４２）的精清洗处理部（３８）、具有擦拭垫（５２）的液滴去除部（４８）、和包括间隙（５８）以及气体喷嘴（６０）的干燥送风部（５０）。利用清洗垫移动机构（２４）以及擦拭垫移动机构（５６）在清洗垫（２０）以及擦拭垫（５２）与启动加注辊（１４）的外周面接触的第１位置、和清洗垫（２０）以及擦拭垫（５２）自启动加注辊（１４）退避的第２位置之间切换清洗垫（２０）以及擦拭垫（５２）的位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种启动加注处理(priming)方法和启动加注处理装置，用于在非旋 转法的涂敷处理用的狭缝式喷嘴的喷出口附近形成处理液的液膜，以作为涂敷处理的预先 准备。
技术介绍
在IXD等平板显示器(FPD)的制造工艺中的光蚀刻工序中，多使用非旋转法，该非 旋转法是使具有狭缝状喷出口的长条形的狭缝式喷嘴进行扫描，从而在玻璃基板等被处理 基板上涂敷抗蚀液。在这样的非旋转法中，希望在防止抗蚀剂涂敷膜的膜厚的不均勻性和涂敷不均的 基础上，使在涂敷扫描中喷出到基板上的抗蚀液在扫描方向上绕到狭缝式喷嘴的背面侧而 形成的弯液面(meniscus)在喷嘴长度方向上对齐成水平一条直线，因此，在涂敷扫描即将 开始之前，在狭缝式喷嘴的喷出口和基板之间的涂敷间隙中塞满适量的抗蚀液而使该喷出 口和基板之间不存在间隙是必要条件。为了满足该必要条件，作为涂敷扫描的预先准备，进 行从狭缝式喷嘴的喷出口到背面下端部形成抗蚀液的液膜的启动加注处理。有代表性的启动加注处理法为，在涂敷处理部附近水平地设置具有与狭缝式喷嘴 相同或相同以上长度的圆筒状的启动加注辊，使狭缝式喷嘴隔着微小的间隙接近到与启动 加注辊的顶部相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种启动加注处理方法，该方法用于在非旋转法的涂敷处理用的狭缝式喷嘴的喷出口附近形成处理液的液膜，以作为涂敷处理的预先准备，其中，该方法包括下述工序：第１工序，为了进行１次启动加注处理，使上述狭缝式喷嘴的喷出口相对于水平配置的圆筒状或圆柱状的启动加注辊的顶部空出规定间隙而平行地面对该启动加注辊的顶部，使上述狭缝式喷嘴喷出恒定量的涂敷液之后使上述启动加注辊旋转，从而将上述被喷出的涂敷液的一部分绕涂在上述启动加注辊的外周面上；第２工序，一边使上述启动加注辊旋转一边使清洗垫与上述启动加注辊的外周面上的绕涂有上述涂敷液的区域接触而对该区域实施粗清洗；第３工序，一边使上述启动加注辊旋转一边将清洗液供给到被...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：宫崎文宏，中满孝志，山崎刚，鬼塚靖之，永田义寿，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，平田机工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]