合成柱结构及生化反应设备制造技术

技术编号:40323455 阅读:32 留言:0更新日期:2024-02-09 14:18
一种合成柱结构及生化反应设备,合成柱结构包括底座和套设于底座上的套管,底座和套管围成一反应腔,反应腔用于容置生化反应芯片和试剂,底座包括与反应腔连通的流道,流道与试剂源连通,底座还包括位于套管内的端部,端部包括朝向反应腔的端面,所述端面上设有多个第一凹槽。本申请的合成柱结构中底座位于反应腔内的端面上设有多个第一凹槽,使生化反应芯片易于倒出,且能减少试剂残留,提升生化反应质量,该合成柱结构的结构简单,各个零件的加工难度低,易于成型,成本低廉。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及生化物质合成与分析,尤其涉及一种合成柱结构及生化反应设备


技术介绍

1、合成柱是基因合成设备中的关键组件,在基因合成过程中,需要将合成芯片放入合成柱中,并向合成柱中加入所需要的试剂进行合成反应。但,现有的合成柱存在以下缺陷:当一轮合成完成后,合成芯片容易残留在合成柱中,不易倒出;当试剂排出后,合成柱内易出现试剂残留,影响基因合成质量。


技术实现思路

1、为了解决以上缺陷中的至少之一,有必要提出一种合成柱结构及生化反应设备。

2、本申请实施例提供了一种合成柱结构,所述合成柱结构包括:底座和套设于所述底座上的套管,所述底座和所述套管围成一反应腔,所述反应腔用于容置生化反应芯片和生化反应所需的试剂,所述底座包括与所述反应腔连通的流道,所述流道用于与存储所述试剂的试剂源连通,所述底座还包括位于所述套管内的端部,所述端部包括朝向所述反应腔的端面,所述端面上设有多个第一凹槽。

3、在一些可能的实施例中,多个所述第一凹槽相对于所述底座的中心轴呈辐射状间隔设置。p>

4、在一些本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种合成柱结构,其特征在于,包括:底座和套设于所述底座上的套管,所述底座和所述套管围成一反应腔,所述反应腔用于容置生化反应芯片和生化反应所需的试剂,所述底座包括与所述反应腔连通的流道,所述流道用于与存储所述试剂的试剂源连通,

2.如权利要求1所述的合成柱结构,其特征在于,多个所述第一凹槽相对于所述底座的中心轴呈辐射状间隔设置。

3.如权利要求2所述的合成柱结构,其特征在于,多个所述第一凹槽包括至少一条第一槽和多条第二槽,所述第一槽沿所述端面的直径方向贯穿所述中心轴设置,多条所述第二槽沿所述端面的直径方向的尺寸不同,具有不同尺寸的多条所述第二槽沿所述端面的周向交...

【技术特征摘要】

1.一种合成柱结构,其特征在于,包括:底座和套设于所述底座上的套管,所述底座和所述套管围成一反应腔,所述反应腔用于容置生化反应芯片和生化反应所需的试剂,所述底座包括与所述反应腔连通的流道,所述流道用于与存储所述试剂的试剂源连通,

2.如权利要求1所述的合成柱结构,其特征在于,多个所述第一凹槽相对于所述底座的中心轴呈辐射状间隔设置。

3.如权利要求2所述的合成柱结构,其特征在于,多个所述第一凹槽包括至少一条第一槽和多条第二槽,所述第一槽沿所述端面的直径方向贯穿所述中心轴设置,多条所述第二槽沿所述端面的直径方向的尺寸不同,具有不同尺寸的多条所述第二槽沿所述端面的周向交替排布。

4.如权利要求1所述的合成柱结构,其特征在于,所述第一凹槽的开口沿所述端面的周向尺寸小于所述生化反应芯片的最小尺寸的1/2。

5.如权利要求1所述的合成柱结构,其特征在于,所述端面包括靠近所述底座的中心轴的顶部和靠近所述套管的边缘部,所述边缘部与所述套管之间具有间隙,自所述顶部至所述边缘部,所述端面沿垂直所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:沈玥江湘儿黄云徐露生蔡冬张虎梁承龙刘俞斌
申请(专利权)人:常州新一产生命科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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