【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于mofs纳米片,具体涉及一种低比例莫尔角mofs纳米片的制备方法与应用。
技术介绍
1、莫尔材料通常指相邻层堆叠形成莫尔超晶格的片层材料。莫尔超晶格结构主要是因为片层间具有晶格失配或相对扭曲角,这种结构和电子能带与单层材料相比有巨大的改变,进而产生全新的电学、热学、光学特性,实现了超导、陈氏绝缘体、磁性等一系列强关联效应和拓扑效应。二维金属有机骨架(two-dimensional metal-organic frameworks,2-dmofs)纳米片是一类新型的二维片层多孔材料,其超薄的片层厚度、良好的溶解分散性、易于功能化的孔表面被广泛应用于催化、载药、能量存储等领域。2-d mofs纳米片层间容易堆积产生不同扭转角度,形成具有超晶格莫尔条纹的二维莫尔mofs材料。二维莫尔mofs材料层间的不同扭转角度可使层间形成不同的一维孔道和层间空隙,构建具有不同孔尺寸和孔分布的材料,这种扭转角度数的高度的可调性极大丰富了二维多孔材料的种类。
2、低比例莫尔角mofs纳米片的莫尔角度可形成特定的堆积孔结构,展现出良好的
...【技术保护点】
1.一种低比例莫尔角MOFs纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的低比例莫尔角MOFs纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述金属源为四氯化锆,有机配体为1,3,5-三(4-羧基苯基)苯,羧酸调节剂为甲酸,有机溶剂为DMF。
3.根据权利要求1所述的低比例莫尔角MOFs纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中烘箱加热温度为100-140℃,加热时长为40-60小时。
4.根据权利要求1所述的低比例莫尔角MOFs纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(3)中洗涤溶剂为DMF,洗涤次数为三次。
...【技术特征摘要】
1.一种低比例莫尔角mofs纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的低比例莫尔角mofs纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述金属源为四氯化锆,有机配体为1,3,5-三(4-羧基苯基)苯,羧酸调节剂为甲酸,有机溶剂为dmf。
3.根据权利要求1所述的低比例莫尔角mofs纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中烘箱加热温度为100-140℃,加热时长为40-60小时。
4.根据权利要求1所述的低比例莫尔角mofs纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(3)中洗涤溶剂为dmf,洗涤次数为三次。
5.根据权利要求1所述的低比例莫尔角mofs纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(4)中所述的苯类双极性诱导剂为戊基苯,酯类双极性...
【专利技术属性】
技术研发人员:古志远,汤雯淇,徐铭,顾栎雯,
申请(专利权)人:南京师范大学,
类型:发明
国别省市:
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