【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本说明书大体关于电子器件制造。更具体地，本说明书关于数字光刻。
技术介绍
1、光刻用于制造半导体器件及显示器件，诸如平板显示器件。平板显示器件的实例包括薄膜显示器件，诸如，例如，液晶显示(liquid crystal display；lcd)器件及有机发光二极管(organic light emitting diode；oled)显示器件。大面积基板可以用于制造用于与计算机、触控面板器件、个人数字助理(personal digital assistant；pda)、蜂巢电话、电视监测器等一起使用的平板显示器件。
2、在数字光刻中，多个曝光单元用于增加处理量，其中每个曝光单元负责印刷面积的一部分。然而，不同曝光单元的特性通常具有轻微变化。此举可以导致在通过不同曝光单元印刷的区域之间的可见边界。对于显示器件，可见边界是可以导致所制造显示器报废的缺陷。
技术实现思路
1、下文是本公开的简要概述以便提供对本公开的一些方面的基本理解。此
技术实现思路
不是本公开的详尽综述。既不意欲标识本公开的重要或关键元素，亦不意欲描绘本公开的特定实施方式的任何范围或权利要求的任何范围。其唯一目的是以简要形式呈现本公开的一些概念，作为稍后呈现的更详细描述的序言。
2、根据一实施例，提供了一种数字光刻系统。数字光刻系统包括扫描区域，所述扫描区域包括第一扫描区域及邻近第一扫描区域的第二扫描区域。数字光刻系统进一步包括在扫描区域上方定位的曝光单元、存储器、及可操作地耦接到存储器的至少一个处理器
3、根据另一实施例，提供了一种系统。系统包括存储器及可操作地耦接到存储器以执行包括下列的操作的至少一个处理器件：起始数字光刻工艺以根据指令图案化基板、及在数字光刻工艺期间关于多个曝光单元的第一曝光单元及多个曝光单元的第二曝光单元执行曝光单元边界平滑。第一曝光单元对应于第一扫描区域并且第二曝光单元对应于邻近第一扫描区域的第二扫描区域。
4、根据又一实施例，提供了一种方法。方法包括通过处理器件起始数字光刻工艺以根据指令图案化基板、及通过处理器件在数字光刻工艺期间关于多个曝光单元的第一曝光单元及多个曝光单元的第二曝光单元执行曝光单元边界平滑。第一曝光单元对应于第一扫描区域并且第二曝光单元对应于邻近第一扫描区域的第二扫描区域。
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1.一种数字光刻系统，包含：
2.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中所述数字光刻工艺是包含多轮的多轮工艺，并且其中实施所述曝光单元边界平滑包含执行曝光单元边界移位作为所述多轮工艺的部分。
3.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述曝光单元边界移位包含：
4.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中：
5.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中实施所述曝光单元边界平滑包含绕着所述第一扫描区域与所述第二扫描区域之间的边界执行剂量混合。
6.如权利要求5所述的数字光刻系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述剂量混合包含使所述第一曝光单元贡献总剂量的第一百分比至掺合区域且所述第二曝光单元贡献所述总剂量的第二百分比至所述掺合区域，使得所述第一百分比及所述第二百分比的总和等于100％。
7.如权利要求5所述的数字光刻系统，其中：
8.一种系统，包含：
9.如权利要求8所述的系统，其中所述数字光刻工艺是包含多
10.如权利要求9所述的系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述曝光单元边界移位包含：
11.如权利要求9所述的系统，其中：
12.如权利要求8所述的系统，其中：
13.如权利要求8所述的系统，其中：
14.一种方法，包含：
15.如权利要求14所述的方法，其中所述数字光刻工艺是包含多轮的多轮工艺，并且其中实施所述曝光单元边界平滑包含：执行曝光单元边界移位作为所述多轮工艺的部分。
16.如权利要求15所述的方法，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述曝光单元边界移位包含：
17.如权利要求15所述的方法，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述曝光单元边界移位包含：
18.如权利要求14所述的方法，其中实施所述曝光单元边界平滑包含：绕着所述第一扫描区域与所述第二扫描区域之间的边界执行剂量混合。
19.如权利要求18所述的方法，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述剂量混合包含：使所述第一曝光单元贡献总剂量的第一百分比至掺合区域且所述第二曝光单元贡献所述总剂量的第二百分比至所述掺合区域，使得所述第一百分比及所述第二百分比的总和等于100％。
20.如权利要求18所述的方法，其中：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种数字光刻系统，包含：
2.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中所述数字光刻工艺是包含多轮的多轮工艺，并且其中实施所述曝光单元边界平滑包含执行曝光单元边界移位作为所述多轮工艺的部分。
3.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述曝光单元边界移位包含：
4.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中：
5.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中实施所述曝光单元边界平滑包含绕着所述第一扫描区域与所述第二扫描区域之间的边界执行剂量混合。
6.如权利要求5所述的数字光刻系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述剂量混合包含使所述第一曝光单元贡献总剂量的第一百分比至掺合区域且所述第二曝光单元贡献所述总剂量的第二百分比至所述掺合区域，使得所述第一百分比及所述第二百分比的总和等于100％。
7.如权利要求5所述的数字光刻系统，其中：
8.一种系统，包含：
9.如权利要求8所述的系统，其中所述数字光刻工艺是包含多轮的多轮工艺，并且其中实施所述曝光单元边界平滑包含执行曝光单元边界移位作为所述多轮工艺的部分。
10.如权利要求9所述的系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡启铭，道格拉斯·万·迪恩·布鲁克，托马斯·L·莱蒂格，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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