【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本说明书大体关于电子器件制造。更具体地，本说明书关于数字光刻。
技术介绍
1、光刻用于制造半导体器件及显示器件，诸如平板显示器件。平板显示器件的实例包括薄膜显示器件，诸如，例如，液晶显示(liquid crystal display；lcd)器件及有机发光二极管(organic light emitting diode；oled)显示器件。大面积基板可以用于制造用于与计算机、触控面板器件、个人数字助理(personal digital assistant；pda)、蜂巢电话、电视监测器等一起使用的平板显示器件。
2、在数字光刻中，多个曝光单元用于增加处理量，其中每个曝光单元负责印刷面积的一部分。然而，不同曝光单元的特性通常具有轻微变化。此举可以导致在通过不同曝光单元印刷的区域之间的可见边界。对于显示器件，可见边界是可以导致所制造显示器报废的缺陷。
技术实现思路
1、下文是本公开的简要概述以便提供对本公开的一些方面的基本理解。此
技术实现思路
不是本公开的详尽综述。既不意欲标识本公开...
【技术保护点】
1.一种数字光刻系统，包含：
2.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中所述数字光刻工艺是包含多轮的多轮工艺，并且其中实施所述曝光单元边界平滑包含执行曝光单元边界移位作为所述多轮工艺的部分。
3.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述曝光单元边界移位包含：
4.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中：
5.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中实施所述曝光单元边界平滑包含绕着所述第一扫描区域与所述第二扫描区域之间的边界执行剂量混合。
6.如权利要求5所述...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种数字光刻系统，包含：
2.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中所述数字光刻工艺是包含多轮的多轮工艺，并且其中实施所述曝光单元边界平滑包含执行曝光单元边界移位作为所述多轮工艺的部分。
3.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述曝光单元边界移位包含：
4.如权利要求2所述的数字光刻系统，其中：
5.如权利要求1所述的数字光刻系统，其中实施所述曝光单元边界平滑包含绕着所述第一扫描区域与所述第二扫描区域之间的边界执行剂量混合。
6.如权利要求5所述的数字光刻系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单元附接到相同桥，并且其中执行所述剂量混合包含使所述第一曝光单元贡献总剂量的第一百分比至掺合区域且所述第二曝光单元贡献所述总剂量的第二百分比至所述掺合区域，使得所述第一百分比及所述第二百分比的总和等于100％。
7.如权利要求5所述的数字光刻系统，其中：
8.一种系统，包含：
9.如权利要求8所述的系统，其中所述数字光刻工艺是包含多轮的多轮工艺，并且其中实施所述曝光单元边界平滑包含执行曝光单元边界移位作为所述多轮工艺的部分。
10.如权利要求9所述的系统，其中所述第一曝光单元及所述第二曝光单...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡启铭，道格拉斯·万·迪恩·布鲁克，托马斯·L·莱蒂格，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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