感光化射线性或感放射线性树脂组成物、膜、图案形成方法及电子器件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种曝光宽容度性能优异的感光化射线性或感放射线性树脂组成物。感光化射线性或感放射线性树脂组成物包含(A)通过酸的作用而碱可溶性增大的树脂、(C)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、及(S)含有沸点为130～150℃的溶剂SA和沸点为155～250℃的溶剂SB的溶剂，上述溶剂SA的含量高于溶剂SB的含量，且溶剂SB相对于总溶剂的含量为1～30质量％，固体成分浓度为10质量％以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。

技术介绍

1、在ic(integrated circuit，集成电路)及lsi(large scale integratedcircuit，大规模集成电路)等半导体器件的制造工序中，通过使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物的光刻术进行微细加工。

2、作为光刻术的方法，可举出如下方法：通过感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成抗蚀剂膜后，将得到的抗蚀剂膜进行曝光，之后通过显影形成抗蚀剂图案。

3、作为感光化射线性或感放射线性树脂组成物，已知含有树脂(酸分解性树脂)的组成物，该树脂含有具有酸分解性基的重复单元。

4、近年来，还提出了适合用厚膜抗蚀剂膜进行图案形成的感光化射线性或感放射线性树脂组成物(例如，参照专利文献1、2)。专利文献1、2中，记载有使用了两种以上溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组成物。

5、以往技术文献

6、专利文献

7、专利文献1：日本特开2020-17本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其包含：

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

4.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

5.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

6.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

7.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

8.根据权利要求1或2所述的...

【技术特征摘要】

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其包含：

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

4.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

5.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

6.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

7.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其中，

8.根据权利要求1或2所述的感...

【专利技术属性】
技术研发人员：富贺敬充，上村聪，西田阳一，椿英明，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：