【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用含有有机酸化合物的组合物在光刻工序中减少驻波的方法。另外，本专利技术涉及含有有机酸化合物的光刻组合物、以及使用该光刻组合物的制造抗蚀剂图案和器件的方法。
技术介绍
1、近年来，lsi高集成化的需求高涨，要求图案精细化。为了应对这样的需求，使用短波长的krf准分子激光(248nm)、arf准分子激光(193nm)、极紫外线(euv；13nm)、x射线、电子束等的光刻工艺正在实用化。为了应对这样的抗蚀剂图案的精细化，精细加工时作为抗蚀剂使用的感光性树脂组合物也要求高分辨率。通过用短波长的光曝光可以形成更精细的图案，但要求高尺寸精度。
2、在光刻工序中，通过对抗蚀剂进行曝光、显影，形成抗蚀剂图案。在曝光时，抗蚀剂的入射光与来自基板、空气界面的反射光多重干涉而产生驻波的现象已为人所知。驻波的产生会降低图案尺寸精度。为了减少驻波，正在进行在抗蚀剂的上层和/或下层形成防反射膜。
3、存在以下尝试：通过在防反射膜上使用含有由特定的磺酸和有机胺形成的盐的化学放大型抗蚀剂组合物，来发挥缓冲功能，提高曝光裕度(例如专利文献1).
4、现有技术文献
5、专利文献
6、[专利文献1]日本特开2005-17409号公报
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题
2、专利技术人着眼于在进行精细加工的化学工艺中控制酸的移动(movement)。例如，即使在光刻工艺中在基板上形成防反射膜，并在其上形成抗蚀剂膜进行曝光，有
3、专利技术人认为还存在需要改进的一个或多个问题。它们例如可以举出以下：在光刻工序中减少驻波；减少抗蚀剂图案中的驻波；抑制抗蚀剂图案宽度的不均匀；抑制抗蚀剂图案的图案塌陷；得到良好形状抗蚀剂图案；得到灵敏度好的抗蚀剂膜；得到分辨率好的抗蚀剂膜；得到更精细的图案；在化学过程中控制酸的移动；在化学过程中抑制酸的移动速度；增大曝光裕度；提高焦深；增大工艺裕量；得到能够完全除去的抗蚀剂图案；提高光刻工序的成品率。
4、用于解决技术问题的方案
5、本专利技术涉及使用含有有机酸化合物(aa)的组合物在光刻工序中减少驻波的方法：
6、此处，有机酸化合物(aa)由式(aa)表示：
7、
8、此处，
9、ra为c1-40烃基，所述烃基中所含的亚甲基的至少一个可以被羰基置换，
10、xa为so3h或cooh，
11、na1为1或2，
12、na2为0、1或2；
13、优选所述组合物进一步含有碱性化合物(ab)，其中该碱性化合物(ab)从由伯胺、仲胺和叔胺组成的群组中选出。
14、本专利技术的光刻组合物含有有机酸化合物(aa)和溶剂(b)，此处，有机酸化合物(aa)由式(aa)表示：
15、
16、此处，
17、ra为c1-40烃基，所述烃基中所含的亚甲基的至少一个可以被羰基置换，
18、xa为so3h或cooh，
19、na1为1或2，
20、na2为0、1或2。
21、本专利技术的制造膜的方法包括下述工序：
22、(1)在基板上方施涂上述光刻组合物；
23、(2)通过减压和/或加热由光刻组合物形成膜。
24、本专利技术的制造器件的方法包括上述的方法。
25、专利技术效果
26、根据本专利技术，可以期望以下的一个或多个效果。
27、能够在光刻工序中减少驻波；能够减少抗蚀剂图案中的驻波；能够抑制抗蚀剂图案宽度的不均匀；能够抑制抗蚀剂图案的图案塌陷；能够得到良好形状的抗蚀剂图案；能够得到灵敏度好的抗蚀剂膜；能够得到分辨率好的抗蚀剂膜；能够得到更精细的图案；能够在化学过程中抑制酸的移动；能够在化学过程中抑制酸的移动速度；能够得到曝光裕度大的抗蚀剂膜；能够提高焦深；能够增大工艺裕量；能够得到可完全除去的抗蚀剂图案；能够提高光刻工序的成品率。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种使用含有有机酸化合物(AA)的组合物在光刻工序中减少驻波的方法，
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述组合物施涂于基板上方，用于形成膜，
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述组合物进一步含有溶剂(B)，
4.一种含有有机酸化合物(AA)和溶剂(B)的光刻组合物，其中，有机酸化合物(AA)由式(aa)表示：
5.根据权利要求4所述的光刻组合物，其中，有机酸化合物(AA)由式(aa-1)、(aa-2)、(aa-3)或(aa-4)表示，
6.根据权利要求4或5所述的光刻组合物，其中，进一步含有成膜组分(C)，
7.根据权利要求4～6中一项或多项所述的光刻组合物，其中，进一步含有添加剂(G)，
8.根据权利要求4～7中一项或多项所述的光刻组合物，其中，该有机酸化合物(AA)的含量以溶剂(B)为基准为0.001～10质量％，
9.根据权利要求4～8中一项或多项所述的光刻组合物，其为光刻膜形成用组合物，其中，
10.一种包括下述工序的制造膜的方法：
11
12.一种包括下述工序的制造金属图案的方法：
13.一种包括下述工序的制造图案基板的方法:
14.一种包括下述工序的制造图案基板的方法:
15.一种制造器件的方法，其包括权利要求10～14中一项或多项所述的方法，
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种使用含有有机酸化合物(aa)的组合物在光刻工序中减少驻波的方法，
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述组合物施涂于基板上方，用于形成膜，
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述组合物进一步含有溶剂(b)，
4.一种含有有机酸化合物(aa)和溶剂(b)的光刻组合物，其中，有机酸化合物(aa)由式(aa)表示：
5.根据权利要求4所述的光刻组合物，其中，有机酸化合物(aa)由式(aa-1)、(aa-2)、(aa-3)或(aa-4)表示，
6.根据权利要求4或5所述的光刻组合物，其中，进一步含有成膜组分(c)，
7.根据权利要求4～6中一项或多项所述的光刻组合...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。