System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 用于钟表机芯部件的制造方法技术_技高网

用于钟表机芯部件的制造方法技术

技术编号:40298913 阅读:5 留言:0更新日期:2024-02-07 20:46
一种用于钟表机芯部件(1)的制造方法,该钟表机芯部件至少包括具有表面(11)、特别是上表面的第一部分,所述方法的特征在于,该方法至少包括以下步骤:‑对钟表机芯部件(1)或部件(1)的坯件(1a)的所述表面(11)进行雕刻(E3)以便形成至少一个空腔(7);‑在所述至少一个空腔(7)中沉积材料(E4)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及用于钟表机芯部件的制造方法。本专利技术还涉及通过这种制造方法获得的钟表机芯部件。


技术介绍

1、在钟表的外部部件上实施各种装饰和/或标记方法。与这些外部部件相比,钟表机芯部件通常尺寸较小,并且包括几何形状非常精确的功能零件,所述几何形状不得更改。因此,例如为了识别或装饰目的,在这样的钟表机芯部件上做标记是非常困难的。注意,除了其功能性之外,美学方面也仍非常重要,尤其是对于钟表的机芯部件而言。


技术实现思路

1、因此,本专利技术的目的是找到一种用于标记和/或装饰钟表机芯部件的方案,该方案使得能够在不损害部件功能的情况下实现特别有吸引力的视觉效果。

2、为此,本专利技术基于一种用于钟表机芯部件的制造方法,该钟表机芯部件至少包括第一部分,该第一部分包括表面、特别是上表面,该方法至少包括以下步骤:

3、-对钟表机芯部件或部件的坯件的所述表面进行蚀刻以形成至少一个空腔;

4、-在所述至少一个空腔中沉积材料。

5、所述蚀刻可以有利地使用掩模通过光刻实施深反应离子蚀刻。

6、本专利技术还涉及一种钟表机芯部件,该钟表机芯部件是由可微型加工的材料制成的游丝,该游丝包括形成连接构件的第一部分和比第一部分刚性小的第二部分,该第一部分包括表面、特别是上表面,该第二部分包括卷绕成螺旋形的形成弹簧的至少一个条带,并且其中第一部分的所述表面包括至少一个空腔,材料层沉积在所述空腔中。

7、本专利技术更具体地由权利要求限定。

【技术保护点】

1.一种用于钟表机芯部件(1)的制造方法,所述钟表机芯部件至少包括第一部分,所述第一部分包括表面(11)、特别是上表面,所述方法至少包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,所述至少一个空腔(7)的深度小于10μm,或小于6μm,并且可选地大于3μm。

3.根据权利要求1所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,所述至少一个空腔(7)的深度在10μm和100μm之间,或在15μm和80μm之间,或在20μm和50μm之间。

4.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,所述至少一个空腔(7)在所述表面(11)上在至少一个方向上延伸至少100μm或至少150μm或至少200μm或至少250μm的长度,该长度可选地小于或等于800μm,或小于或等于600μm,或小于或等于500μm,或小于或等于400μm。

5.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,包括所述表面(11)的所述第一部分基于可微型加工的材料,特别是基于硅,并且可选地包括厚度在0.5μm和5μm之间的氧化硅涂层。

6.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,蚀刻(E3)所述钟表机芯部件(1)的所述第一部分的所述表面(11)的步骤与蚀刻所述钟表机芯部件(1)的轮廓的步骤以相同的操作进行,和/或其中,在蚀刻所述钟表机芯部件(1)的轮廓的步骤之前进行蚀刻(E3)所述钟表机芯部件(1)的所述第一部分的所述表面的步骤,和/或,所述方法包括:将第一掩模(21)定位在基板(10a)上、特别是所述基板(10a)的所述表面上以便进行从该第一掩模(21)蚀刻(E3)至少一个空腔(7)的步骤的步骤,以及将第二掩模(21)定位在所述基板(10a)上、特别是所述基材(10a)的另一个表面上以便从该第二掩模(21)蚀刻钟表机芯部件(1)的所述坯件(1a)的轮廓的步骤。

7.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,蚀刻(E3)所述钟表机芯部件(1)的坯件(1a)或所述钟表机芯部件(1)的所述第一部分的所述表面的步骤还包括激光蚀刻,特别是通过飞秒激光器。

8.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,在所述至少一个空腔(7)中沉积材料的步骤(E4)包括沉积金属或金属合金,或者沉积涂料、油漆、清漆、复合材料、特别是发光复合材料,可选地预先沉积粘合层。

9.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,在所述至少一个空腔(7)中沉积材料的步骤(E4)包括通过诸如物理沉积(PVD)或化学沉积(CVD)或原子沉积(ALD)的气相沉积或通过激光转印(LIFT)沉积金属或金属合金。

10.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,在所述至少一个空腔(7)中沉积材料的步骤(E4)包括将所述材料在所述空腔(7)的底部(17)上沉积到严格小于所述空腔的深度的厚度,该沉积厚度大于或等于5nm,或大于或等于10nm,或大于或等于50nm,大于或等于100nm,或在5nm和1000nm之间,或在100nm和1000nm之间,或者其中,在所述至少一个空腔(7)中沉积材料的步骤(E4)包括将所述材料在所述空腔(7)的底部(17)上沉积到等于或基本上等于所述空腔(7)的深度的厚度。

11.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,所述制造方法包括以下初步步骤:

12.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,所述钟表部件是杠杆、轮例如擒纵装置的轮、擒纵叉组件、摆轮或例如游丝的弹簧。

13.一种钟表机芯部件(1),该钟表机芯部件(1)是通过前述任一项权利要求所述的制造方法制造的,所述钟表机芯部件是由可微型加工的材料制成的游丝,所述游丝包括形成连接构件(3)的第一部分和比所述第一部分刚性小的第二部分,所述第一部分包括表面(11)、特别是上表面,所述第二部分包括卷绕成螺旋形的形成弹簧的至少一个条带(2),并且其中所述第一部分的所述表面(11)包括至少一个空腔(7),材料层(8)沉积在所述空腔(7)中。

14.根据权利要求13所述的钟表机芯部件,其是用于摆轮/游丝的一体式游丝,所述游丝由覆盖有氧化硅涂层的硅制成。

15.根据权利要求13或14所述的钟表机芯部件,其中,所述至少一个空腔(7)的深度小于10μm,或小于6μm,并且可选地大于3μm,或者其中,所述至少一个空腔(7)的深度在10μm和100...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于钟表机芯部件(1)的制造方法,所述钟表机芯部件至少包括第一部分,所述第一部分包括表面(11)、特别是上表面,所述方法至少包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,所述至少一个空腔(7)的深度小于10μm,或小于6μm,并且可选地大于3μm。

3.根据权利要求1所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,所述至少一个空腔(7)的深度在10μm和100μm之间,或在15μm和80μm之间,或在20μm和50μm之间。

4.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,所述至少一个空腔(7)在所述表面(11)上在至少一个方向上延伸至少100μm或至少150μm或至少200μm或至少250μm的长度,该长度可选地小于或等于800μm,或小于或等于600μm,或小于或等于500μm,或小于或等于400μm。

5.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,包括所述表面(11)的所述第一部分基于可微型加工的材料,特别是基于硅,并且可选地包括厚度在0.5μm和5μm之间的氧化硅涂层。

6.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,蚀刻(e3)所述钟表机芯部件(1)的所述第一部分的所述表面(11)的步骤与蚀刻所述钟表机芯部件(1)的轮廓的步骤以相同的操作进行,和/或其中,在蚀刻所述钟表机芯部件(1)的轮廓的步骤之前进行蚀刻(e3)所述钟表机芯部件(1)的所述第一部分的所述表面的步骤,和/或,所述方法包括:将第一掩模(21)定位在基板(10a)上、特别是所述基板(10a)的所述表面上以便进行从该第一掩模(21)蚀刻(e3)至少一个空腔(7)的步骤的步骤,以及将第二掩模(21)定位在所述基板(10a)上、特别是所述基材(10a)的另一个表面上以便从该第二掩模(21)蚀刻钟表机芯部件(1)的所述坯件(1a)的轮廓的步骤。

7.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,蚀刻(e3)所述钟表机芯部件(1)的坯件(1a)或所述钟表机芯部件(1)的所述第一部分的所述表面的步骤还包括激光蚀刻,特别是通过飞秒激光器。

8.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,在所述至少一个空腔(7)中沉积材料的步骤(e4)包括沉积金属或金属合金,或者沉积涂料、油漆、清漆、复合材料、特别是发光复合材料,可选地预先沉积粘合层。

9.根据前述任一项权利要求所述的用于钟表机芯部件(1)的制造方法,其中,在所述至少一个空腔(7)中沉积材料的步骤(e4)包括通过诸如物理沉积(pvd)或化学沉积(cvd)或原子沉积(ald)的气...

【专利技术属性】
技术研发人员:皮埃尔·迪卢纳斯特凡诺·埃宁亚历山大·奥利韦拉阿诺·罗森茨魏希皮埃尔·维拉雷伯努瓦·樊尚法尔凯
申请(专利权)人:劳力士有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1