【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文的描述涉及带电粒子束系统领域，并且更特别地，涉及在带电粒子束系统检查系统中使用反馈回路来调整束电流的系统。
技术介绍
1、在集成电路(ic)的制造过程中，检查未完成或完成的电路组件以确保它们根据设计制造并且没有缺陷。利用光学显微镜的检查系统通常具有低至几百纳米的分辨率；并且分辨率受到光波长的限制。随着ic元件的物理大小持续减小到100纳米以下或甚至10纳米以下，需要有比利用光学显微镜的检测系统分辨率更高的能力的检测系统。
2、诸如扫描电子显微镜(sem)或透射电子显微镜(tem)的带电粒子(例如，电子)束显微镜能够将分辨率降低到小于纳米，用作检查具有小于100纳米的特征大小的ic组件的实用工具。用sem，单个初级电子束的电子或多个初级电子束的电子可以聚焦在被检查的晶片的感兴趣的位置处。初级电子与晶片相互作用并且可能被反向散射或可能使晶片发射次级电子。包括反向散射电子和次级电子的电子束的强度可以基于晶片的内部和外部结构的特性而变化，并且由此可以指示晶片是否有缺陷。
技术实现思路
1、本公开的实施例提供了用于在带电粒子束系统检查系统中使用反馈回路来调整束电流的装置、系统和方法。在一些实施例中，系统可以包括第一阳极孔，该第一阳极孔被配置为在样品的检查期间测量发射束的电流，其中该第一阳极孔被定位在被配置为支持小于3×10-10托的真空压力的环境中，并且控制器包括被配置为使该系统执行以下操作的电路装置：当所测量的电流与设定点电流之间的差异超过阈值时生成反馈信号，并且在样品的检
2、在一些实施例中，一种用于在带电粒子束系统检查系统中使用反馈回路来调整束电流的方法可以包括：在样品的检查期间，由第一阳极孔来测量发射束的电流，该第一阳极孔处于被配置为支持小于3×10-10托的真空压力的环境中；当所测量的电流与设定点电流之间的差异超过阈值时，由控制器生成反馈信号；以及在样品的检查期间基于反馈信号调整提取器电压源的电压，使得发射束的调整后的电流与设定点电流之间的差异低于阈值。
3、在一些实施例中，一种非暂态计算机可读介质可以存储指令集，该指令集可以由计算设备的至少一个处理器执行以使计算设备执行一种在带电粒子束系统检查系统中使用反馈回路来调整束电流的方法。该方法可以包括：在样品的检查期间获取发射束的所测量的电流，其中所测量的电流由第一阳极孔测量，该第一阳极孔处于被配置为支持小于3×10-10托的真空压力的环境中；当所测量的电流与设定点电流之间的差异超过阈值时，生成反馈信号；以及在样品的检查期间基于反馈信号调整提取器电压源的电压，使得发射束的调整后的电流与设定点电流之间的差异低于阈值。
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1.一种电子束系统，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一阳极孔被配置为在不干扰所述束的情况下测量所述发射束。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述反馈信号是使用比例-积分-微分(PID)控制器生成的。
4.根据权利要求1所述的系统，还包括第二阳极孔，所述第二阳极孔被配置为加速所述发射束。
5.根据权利要求4所述的系统，其中所述第一阳极孔和所述第二阳极孔被配置为与所述系统的其他组件隔离。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一阳极孔包括多个段并且所述多个段中的每个段彼此绝缘。
7.根据权利要求6所述的系统，其中所述多个段中的每个段被配置为在所述样品的检查期间测量所述发射束的电流。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述电路装置还被配置为使所述系统基于在所述多个段中的每个段上测量的所述发射束的电流来确定误差。
9.根据权利要求8所述的系统，其中所述误差包括发射器指向误差。
10.根据权利要求8所述的系统，其中所述误差包括成角度的束发射分布误差。
12.根据权利要求1所述的系统，其中所述提取器电压源的所述电压被调整，使得所述提取器的电场被调整。
13.根据权利要求1所述的系统，其中调整所述提取器电压源的所述电压包括将所述反馈信号传输到所述提取器电压源。
14.根据权利要求1所述的系统，还包括响应于所述提取器电压源的调整后的所述电压来调整所述发射束的焦点。
15.一种非暂态计算机可读介质，所述非暂态计算机可读介质存储指令集，所述指令集能够由计算设备的至少一个处理器执行以使所述计算设备执行一种方法，所述方法包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种电子束系统，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一阳极孔被配置为在不干扰所述束的情况下测量所述发射束。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述反馈信号是使用比例-积分-微分(pid)控制器生成的。
4.根据权利要求1所述的系统，还包括第二阳极孔，所述第二阳极孔被配置为加速所述发射束。
5.根据权利要求4所述的系统，其中所述第一阳极孔和所述第二阳极孔被配置为与所述系统的其他组件隔离。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一阳极孔包括多个段并且所述多个段中的每个段彼此绝缘。
7.根据权利要求6所述的系统，其中所述多个段中的每个段被配置为在所述样品的检查期间测量所述发射束的电流。
8.根据权利要求7所述的系统，其中所述电路装置还被配置为使所述系统基于在所述多个段中的每个段上测量的所述发射束的电流来...
【专利技术属性】
技术研发人员：张顺，B·拉方丹，樊征，尹高星，路和生，赵振锋，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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