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一种自适应调整掩膜的单像素成像系统及方法技术方案

技术编号:40280819 阅读:28 留言:0更新日期:2024-02-07 20:35
本发明专利技术公开了一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,属于光学成像技术领域;包括光学发射模块、光学探测模块和数据处理模块,基于该系统提出一种自适应调整掩膜的单像素成像方法,设计一个边界符合超高速数字微镜空间光调制器所支持的最大像素量的掩膜,对本位光斑和变位光斑进行坐标提取,并根据其相对坐标位置,自适应地调整掩膜的大小和位置,以更准确的匹配目标物体并实现优化的图像处理;同时利用贪婪算法探索最优的掩膜参数。本发明专利技术一种自适应调整掩膜的单像素成像系统及方法,该系统能根据实时图像特征和环境条件,动态调整掩膜配置,生成更具有适应性的优化掩膜,并通过深度学习算法重建图像,从而保证成像系统运行的高精度和可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学成像,尤其是涉及一种自适应调整掩膜的单像素成像系统及方法


技术介绍

1、单像素成像系统是一种成像的光学仪器系统,通过将计算机、压缩感知与传统的像素探测器结合,实现图像的高效采集和重建。该系统适用于医学成像、遥感探测等多个领域,具备高分辨率、低光条件下高灵敏度的特点,广泛应用于提升图像质量和数据传输效率。

2、单像素成像系统中的掩膜大小和位置固定是一个重要的缺点,在实际实验环节,往往掩膜与理想掩膜大小不匹配,而且掩膜的形成与物体的相关性限制了其在不同场景和图像特征下的表现。这种固定配置导致图像重建失真、信息损失,并增加了采集冗余数据的问题,降低了系统效率。

3、为了克服这些缺点,需要研发自动调节掩膜大小和位置的单像素成像系统方法。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种自适应调整掩膜的单像素成像系统及方法,该系统能根据实时图像特征和环境条件,动态调整掩膜配置,生成更具有适应性的优化掩膜,并通过进行深度学习算法重建图像从而保证成像系统运行的高精度和可靠性。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:

2.根据权利要求1所述的一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:所述光学发射模块中,空间光调试器对半导体激光器发出的光进行调制,所述空间光调制器为超高速数字微镜空间光调制器。

3.根据权利要求2所述的一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:所述光学发射模块中,经待成像物体反射后的光束经过两个透镜的透射后通过光阑截取中间均匀的照明光场;所述光学探测模块中,CCD相机接收经过所述分光器BS的调制光束。

4.根据权利要求3所述的一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:所述数据处理模...

【技术特征摘要】

1.一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:

2.根据权利要求1所述的一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:所述光学发射模块中,空间光调试器对半导体激光器发出的光进行调制,所述空间光调制器为超高速数字微镜空间光调制器。

3.根据权利要求2所述的一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:所述光学发射模块中,经待成像物体反射后的光束经过两个透镜的透射后通过光阑截取中间均匀的照明光场;所述光学探测模块中,ccd相机接收经过所述分光器bs的调制光束。

4.根据权利要求3所述的一种自适应调整掩膜的单像素成像系统,其特征在于:所述数据处理模块中,单像素探测器获取调制后目标光场的信息并通过数字采集卡传输至计算机内进行程序处理,生成待成像物体的图像。

5.一种如权利要求1-4任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩峰秦成兵胡建勇陈瑞云张国峰肖连团
申请(专利权)人:山西大学
类型:发明
国别省市:

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