System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种制备高压力氢气和氧气的装置及方法制造方法及图纸_技高网

一种制备高压力氢气和氧气的装置及方法制造方法及图纸

技术编号:40277153 阅读:12 留言:0更新日期:2024-02-02 23:04
本发明专利技术公开一种制备高压力氢气和氧气的装置及方法,涉及纯水电解领域;通过水通路内放置的液体水,在电源提供的电压产生的电场力的作用下,进行电解,得到第一电解离子和第二电解离子;阴离子交换膜通过第一电解离子,并在电场力的作用下进行氧化,得到氧气和水;质子交换膜通过第二电解离子,并在电场力的作用下进行还原处理,得到氢气;本发明专利技术使得电解产生的氧气和氢气能够与水通路隔离,所以能够实现气体的快速增压,由此,本发明专利技术能够实现氢气和氧气的制备以及快速增压。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及纯水电解领域,特别是涉及一种制备高压力氢气和氧气的装置及方法


技术介绍

1、电解槽作为可再生资源大规模的关键装备,对于制氢成本降低起着关键作用,用来制取氧气跟氢气不会产生任何的污染物质,符合减少碳排的要求,方便获取,在全球能源转型进程中发挥关键作用。

2、目前,市面上纯水电解制氢氧主要有技术路线:质子交换膜(proton exchangemembrane fuel,pem)电解。

3、市面上的电解槽设备虽然能够电解出氢氧气体,但氧气在电解过程中无法与电解液或水分离,电解出的氧气侧处于常压状态,不能制备高压力的氧气。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种制备高压力氢气和氧气的装置及方法,能够实现氢气和氧气的制备以及快速增压。

2、为实现上述目的,本专利技术提供了如下方案:

3、一种制备高压力氢气和氧气的装置,所述装置包括:电源、阴离子交换膜、质子交换膜和水通路;

4、所述电源分别与所述阴离子交换膜和所述质子交换膜连接;所述水通路设置在所述阴离子交换膜和所述质子交换膜之间;

5、所述电源用于提供电压;

6、所述水通路内放置的液体水,在所述电压产生的电场力的作用下,进行电解,得到第一电解离子和第二电解离子;

7、所述阴离子交换膜用于通过所述第一电解离子,并使所述第一电解离子在电场力的作用下进行氧化,得到氧气和水;

8、所述质子交换膜用于通过所述第二电解离子,并使所述第二电解离子在电场力的作用下进行还原处理,得到氢气。

9、可选地,所述第一电解离子为oh-。

10、可选地,所述第二电解离子为h+。

11、可选地,所述阴离子交换膜与所述电源的正电极连接。

12、可选地,所述质子交换膜与所述电源的负电极连接。

13、一种制备高压力氢气和氧气的方法,所述方法采用上述所述的制备高压力氢气和氧气的装置实现,所述方法包括:

14、对水通路内放置的液体水进行电解反应,得到电解离子;所述电解离子包括:第一电解离子和第二电解离子;所述电解反应是在电源提供的电压产生的电场力的作用下进行的;

15、所述第一电解离子通过阴离子交换膜,到达所述电源的正电极处,在电场力的作用下进行氧化,得到氧气和水;

16、所述第二电解离子通过质子交换膜,到达所述电源的负电极处,在电场力的作用下进行还原处理,得到氢气。

17、根据本专利技术提供的具体实施例,本专利技术公开了以下技术效果:

18、本专利技术提供了一种制备高压力氢气和氧气的装置及方法,通过水通路内放置的液体水,在电源提供的电压产生的电场力的作用下,进行电解,得到第一电解离子和第二电解离子;阴离子交换膜通过第一电解离子,并在电场力的作用下进行氧化,得到氧气和水;质子交换膜通过第二电解离子,并在电场力的作用下进行还原处理,得到氢气;本专利技术使得电解产生的氧气和氢气能够与水通路隔离,所以能够实现气体的快速增压,由此,本专利技术能够实现氢气和氧气的制备以及快速增压。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述装置包括:电源、阴离子交换膜、质子交换膜和水通路;

2.根据权利要求1所述的制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述第一电解离子为OH-。

3.根据权利要求1所述的制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述第二电解离子为H+。

4.根据权利要求1所述的制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述阴离子交换膜与所述电源的正电极连接。

5.根据权利要求1所述的制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述质子交换膜与所述电源的负电极连接。

6.一种制备高压力氢气和氧气的方法,其特征在于,所述方法采用权利要求1-5中任意一项所述的制备高压力氢气和氧气的装置实现,所述方法包括:

【技术特征摘要】

1.一种制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述装置包括:电源、阴离子交换膜、质子交换膜和水通路;

2.根据权利要求1所述的制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述第一电解离子为oh-。

3.根据权利要求1所述的制备高压力氢气和氧气的装置,其特征在于,所述第二电解离子为h+。

4.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:秦承华陈亚真席长青於东良焦玲焦磊
申请(专利权)人:广州睿硕科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:

相关技术
    暂无相关专利
网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1