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电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备制造技术

技术编号:40261869 阅读:11 留言:0更新日期:2024-02-02 22:51
提供一种能够通过抑制电子照相感光构件的表面层上的光散射来实现改善转印性并且改善半色调图像的图像品质的电子照相感光构件。该电子照相感光构件包括支承体和在支承体上的感光层,其中电子照相感光构件的特征在于:电子照相感光构件的表面层包含颗粒;在表面层中包含的颗粒当中,表面层具有从该表面层部分地露出的颗粒;颗粒的体积平均粒径为50.0nm以上且350.0nm以下;在表面层的截面中,从表面层部分地露出的颗粒的个数相对于表面层中包含的所有颗粒为80个数%以上;并且相对于表面层中包含的颗粒的总体积,从表面层部分地露出的颗粒的露出部分的总体积为30体积%以上且80体积%以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及电子照相感光构件以及具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。


技术介绍

1、近年来,在如复印机和打印机等电子照相设备领域中已经需要高速打印来提高生产性。为了在电子照相设备中实现高速度,在曝光步骤中产生的潜像必须在显影步骤中显影至调色剂,并且在电子照相过程的充电、曝光、显影和转印步骤的重复中,调色剂必须有效地转印至如纸和中间转印介质等介质。从有效利用办公室空间的角度来看,对其中通过提高转印步骤的效率而省略了清洁步骤的小型电子照相设备的需求也在增长。

2、在转印步骤中,对调色剂施加预定的偏压,以便将通过使感光构件上的潜像显影获得的调色剂转印至介质。通过向调色剂添加外部添加剂并在感光构件的表面上形成特定形状,可以降低调色剂对感光构件表面的附着性,从而降低施加的偏压。这不仅能够节省电子照相设备中用于施加高偏压的高压电源的空间,而且能够抑制由于高转印偏压引起的调色剂飞散,从而实现图像品质的改善。作为通过在感光构件的表面上形成特定形状来减少调色剂对感光构件表面的附着力的一种方法,传统上已经提出为了在调色剂和感光构件的表面之间形成点接触,通过在电子照相感光构件的表面包括颗粒而在该表面形成凸形状。

3、专利文献1公开了在最外层的表面上具有凸部结构的电子照相感光构件,该最外层由聚合性单体和包括无机填料的组合物的聚合固化产物构成,目的是改善清洁性能并减少感光构件和清洁刮板的磨损,而不管供给的润滑剂量如何。

4、专利文献2公开了一种电子照相感光构件,其具有通过使包含作为丙烯酸系树脂颗粒和三聚氰胺树脂颗粒的至少一种的有机树脂颗粒和具有聚合性官能团的空穴输送化合物的涂膜固化而形成的表面层,目的是使感光构件表面耐磨耗且高度润滑。

5、专利文献3公开了一种包含固化性树脂和聚四氟乙烯颗粒并具有通过在表面层的表面上机械研磨形成的凹凸形状的电子照相感光构件,其目的是在保持耐磨耗性的同时减少由支承体的不均匀光泽引起的图像不均匀。

6、专利文献4公开了一种包含包封在基质组分的孔中的包封的球状颗粒的电子照相感光构件,目的是改善感光构件表面的润滑性和清洁性。

7、专利文献5公开了一种电子照相感光构件,其中为了保持脱模效果,在感光构件的表面层的表面上形成深度为0.1μm以上且10μm以下的独立凹形状部,并且脱模材料包含在凹形状部内。

8、[现有技术文献]

9、[专利文献]

10、专利文献1:日本专利申请特开no.2020-71423

11、专利文献2:日本专利申请特开no.2019-45862

12、专利文献3:日本专利申请特开no.2016-118628

13、专利文献4:日本专利申请特开no.2013-029812

14、专利文献5:日本专利申请特开no.2009-14915


技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、在最近的电子照相设备中,既要求提高转印过程的效率以减少用于处理环境问题的废调色剂,又需要在更高的输出速度下获得更高的图像品质。然而,在专利文献1至3中,尽管调色剂与感光构件的表面之间的附着性在一定程度上降低,并且调色剂的转印性得到改善,但是发现由于表面层中细颗粒的多层层叠,而使得在感光构件的曝光期间的激光散射不可能保持半色调图像的均匀性。此外,在专利文献4中,当转印过程中感光构件和中间转印介质或介质之间存在圆周速度差时,包封的球状颗粒移动,调色剂和感光构件的表面之间的接触面积增大,导致转印性降低的现象。在专利文献5的情况下,凹形状部内包含多种脱模材料,并且不能保持调色剂和感光构件的表面之间的点接触,使得难以长时间保持良好的转印性。

3、本专利技术的目的是提供通过抑制感光构件的表面层的光散射来实现图像品质的改善和半色调图像的转印性的改善二者的感光构件。

4、用于解决问题的方案

5、上述目的通过下面的本专利技术来实现。

6、具体地,根据本专利技术的电子照相感光构件包括支承体和在支承体上的感光层,

7、其中电子照相感光构件的表面层包含颗粒,

8、表面层在表面层中包含的颗粒当中具有从表面层部分地露出的颗粒,

9、颗粒的体积平均粒径为50.0nm以上且350.0nm以下;

10、在表面层的截面中,从表面层部分地露出的颗粒的数量基于表面层中包含的颗粒的总数为80个数%以上;和

11、从表面层部分地露出的颗粒的露出部分的总体积基于表面层中包含的颗粒的整体体积为30体积%以上且80体积%以下。

12、专利技术的效果

13、根据本专利技术,电子照相感光构件可以通过抑制感光构件的表面层的光散射来实现图像品质的改善和半色调图像的转印性的改善二者。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子照相感光构件,其包括支承体和在所述支承体上的感光层,

2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中,所述感光层具有电荷产生层和在所述电荷产生层上的电荷输送层,所述电荷输送层为所述表面层。

3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述感光层具有电荷产生层和在所述电荷产生层上的电荷输送层,并且所述电子照相感光构件还包括在所述感光层上的保护层,所述保护层为所述表面层。

4.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述感光层为单层型感光层,并且所述电子照相感光构件还包括在所述感光层上的保护层,所述保护层为所述表面层。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光构件,其中S1/(S1+S2)满足下式(A),其中S1为当从上方观察所述表面层时,从所述表面层部分地露出的颗粒的露出部分的总面积,和S2为当从上方观察所述表面层时,除了从所述表面层部分地露出的颗粒的露出部分之外的总面积,

6.根据权利要求5所述的电子照相感光构件,其中S1/(S1+S2)的变化系数为25%以下,其中S1为当从上方观察所述表面层时,所述颗粒的露出部分的总面积,和S2为当从上方观察所述表面层时,除了所述颗粒的露出部分之外的总面积。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的电子照相感光构件,其中当从上方观察所述表面层时,所述颗粒的露出部分的形状的SF-2为135以下。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的电子照相感光构件,其中当从上方观察所述表面层时,所述颗粒的露出部分的形状的平均圆形度为0.90以上。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的电子照相感光构件,其中所述颗粒的杨氏模量为0.60GPa以上。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的电子照相感光构件,其中所述颗粒的体积平均粒径/数量平均粒径为1.5以下。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的电子照相感光构件,其中在烧结期间所述表面层中的甲基乙基酮不溶性成分的灰分含量基于所述表面层的总质量为5.0质量%以下。

12.一种处理盒,其特征在于,其一体化支承根据权利要求1至11中任一项所述的电子照相感光构件,和选自由充电单元和显影单元组成的组中的至少一种单元,其中所述处理盒可拆卸地安装至所述电子照相感光构件。

13.一种电子照相设备,其特征在于,其包括根据权利要求1至11中任一项所述的电子照相感光构件、充电单元、显影单元和转印单元。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种电子照相感光构件,其包括支承体和在所述支承体上的感光层,

2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中,所述感光层具有电荷产生层和在所述电荷产生层上的电荷输送层,所述电荷输送层为所述表面层。

3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述感光层具有电荷产生层和在所述电荷产生层上的电荷输送层,并且所述电子照相感光构件还包括在所述感光层上的保护层,所述保护层为所述表面层。

4.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述感光层为单层型感光层,并且所述电子照相感光构件还包括在所述感光层上的保护层,所述保护层为所述表面层。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光构件,其中s1/(s1+s2)满足下式(a),其中s1为当从上方观察所述表面层时,从所述表面层部分地露出的颗粒的露出部分的总面积,和s2为当从上方观察所述表面层时,除了从所述表面层部分地露出的颗粒的露出部分之外的总面积,

6.根据权利要求5所述的电子照相感光构件,其中s1/(s1+s2)的变化系数为25%以下,其中s1为当从上方观察所述表面层时,所述颗粒的露出部分的总面积,和s2为当从上方观察所述表面层时,除了所述颗粒的露...

【专利技术属性】
技术研发人员:渡边俊太郎石田知仁中村延博渡部博之山合达也广田匡纪
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:

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