用于磁共振设备的水膜结构制造技术

技术编号:40261574 阅读:14 留言:0更新日期:2024-02-02 22:51
本技术涉及一种用于磁共振设备的水膜结构,所述水膜结构包括:中心结构体以及与所述中心结构体连接的三个边缘结构体;在所述中心结构体中定义有基准点,以所述基准点为起点定义有相互垂直的三条射线;三个所述边缘结构体分别被三条所述射线贯穿;对于任意两个所述边缘结构体:在分别贯穿两个所述边缘结构体的两条所述射线确定的参考平面中,两个所述边缘结构体的截面特征不同。本技术中提供的水膜结构,在使用过程中,其在矢状位、冠状位、横断位的参考图像均是不会出现上下对称、左右对称和斜对称的。进而便于用户对比水膜的扫描重建图像和参考图像,能够更加清晰明确地判断磁共振成像方位。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及磁共振设备测试,特别是涉及一种用于磁共振设备的水膜结构


技术介绍

1、在磁共振系统的设计以及实际的测试过程中,图像信号接收及图像重建软件设计错误、线圈或信号接收器等硬件接线错误都会导致最终重建所得的图像出现上下颠倒、左右翻转、镜像与实际应得图像出现不一致的情况。一旦这种图像错误的情况出现在临床场景中,将会造成医生对患者的错误诊断,给患者以及医生带来灾难性的后果。因此,对于成像方位错误问题的测试和检出是磁共振系统研发中必不可少的环节。

2、针对上述问题,现有技术中测试磁共振成像方位的方法主要是将测试水膜放入线圈中,经过磁共振扫描后,对比扫描重建出的水膜磁共振图像与水膜在横断面、冠状面和矢状面上的参考截面图像是否一致,从而判断磁共振成像方位是否准确。

3、但是现有技术中未明确给定有效地水膜结构,需要测试人员根据个人经验在测试时临时搭建水膜结构。临时搭建的水膜结构在横断面、冠状面或矢状面上的图像,可能出现相似且难以辨别而导致测试人员判断错误的问题。同时,临时搭建的水膜结构在横断面、冠状面和矢状面上的截面图像,容易出现上下对称、左右对称、前后对称、对角线翻转后对称的情况。进而会导致测试人员在进行磁共振方位准确性测试时,无法覆盖所有磁共振成像方位的测试点的问题,从而遗留磁共振方位错误的情况。

4、针对现有技术中的水膜结构会导致测试人员在进行磁共振方位准确性测试时,无法覆盖所有磁共振成像方位的测试点的问题,目前还没有给出解决方案。


技术实现思路

1、有鉴于此,有必要提供一种用于磁共振设备的水膜结构,来解决现有技术中的水膜结构会导致测试人员在进行磁共振方位准确性测试时,无法覆盖所有磁共振成像方位的测试点的问题。

2、本技术提供一种用于磁共振设备的水膜结构,所述水膜结构包括:中心结构体以及与所述中心结构体连接的三个边缘结构体;

3、在所述中心结构体中定义有基准点,以所述基准点为起点定义有相互垂直的三条射线;

4、三个所述边缘结构体分别被三条所述射线贯穿;

5、对于任意两个所述边缘结构体:在分别贯穿两个所述边缘结构体的两条所述射线确定的参考平面中,两个所述边缘结构体的截面特征不同。

6、在其中一个实施例中,对于任意一个所述边缘结构体:所述边缘结构体分别在第一平面和第二平面中的截面特征相同;

7、其中,所述第一平面和所述第二平面分别为:贯穿所述结构体的所述射线分别与另外两条所述射线确定的参考平面。

8、在其中一个实施例中,所述截面特征包括截面大小和/或截面形状。

9、在其中一个实施例中,三个所述边缘结构体分别为如下立体结构之一:

10、正方体、长方体、棱锥、棱台、半圆环。

11、在其中一个实施例中,三个所述边缘结构体均为旋转体;

12、三个所述旋转体的中心旋转轴分别与三条所述射线重叠。

13、在其中一个实施例中,三个所述旋转体分别为如下立体结构之一:

14、圆锥体、圆台体、圆柱体、半球体。

15、在其中一个实施例中,三个所述旋转体分别为圆柱体、圆锥体和半球体。

16、在其中一个实施例中,所述中心结构体为正多面体,所述正多面体包括三个相互垂直的壁面,所述基准点为所述正多面体的中心点。

17、在其中一个实施例中,所述正多面体为正方体。

18、在其中一个实施例中,所述旋转体的半径由靠近所述中心结构体的一端向另一端递减。

19、本技术提供的用于磁共振设备的水膜结构,在使用过程中,其在矢状位、冠状位、横断位的参考图像均是不会出现上下对称、左右对称和斜对称的。进而便于用户对比水膜的扫描重建图像和参考图像,能够更加清晰明确地判断磁共振成像方位。解决现有技术中的水膜结构会导致测试人员在进行磁共振方位准确性测试时,无法覆盖所有磁共振成像方位的测试点的问题。采用本技术提供的水膜结构进行磁共振方位准确性测试时,可以覆盖所有磁共振成像方位的测试点。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,所述水膜结构包括:中心结构体(100)以及与所述中心结构体(100)连接的三个边缘结构体;

2.根据权利要求1所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,对于任意一个所述边缘结构体:所述边缘结构体分别在第一平面和第二平面中的截面特征相同;

3.根据权利要求1或2所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,所述截面特征包括截面大小和/或截面形状。

4.根据权利要求2所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,三个所述边缘结构体分别为如下立体结构之一:

5.根据权利要求1所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,三个所述边缘结构体均为旋转体;

6.根据权利要求5所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,三个所述旋转体分别为如下立体结构之一:

7.根据权利要求5所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,三个所述旋转体分别为圆柱体、圆锥体和半球体。

8.根据权利要求5所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,所述中心结构体(100)为正多面体,所述正多面体包括三个相互垂直的壁面,所述基准点为所述正多面体的中心点。

9.根据权利要求8所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,所述正多面体为正方体。

10.根据权利要求5所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,所述旋转体的半径由靠近所述中心结构体(100)的一端向另一端递减。

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【技术特征摘要】

1.一种用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,所述水膜结构包括:中心结构体(100)以及与所述中心结构体(100)连接的三个边缘结构体;

2.根据权利要求1所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,对于任意一个所述边缘结构体:所述边缘结构体分别在第一平面和第二平面中的截面特征相同;

3.根据权利要求1或2所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,所述截面特征包括截面大小和/或截面形状。

4.根据权利要求2所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,三个所述边缘结构体分别为如下立体结构之一:

5.根据权利要求1所述的用于磁共振设备的水膜结构,其特征在于,三个所述边缘结构体均为旋转体;

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【专利技术属性】
技术研发人员:陈雨欣嵇敏洁
申请(专利权)人:上海联影医疗科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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