【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于蚀刻电极活性材料等的电极蚀刻设备。
技术介绍
1、本申请要求基于2021年11月3日提交的韩国专利申请第10-2021-0149907号的优先权的权益，通过引用将该韩国专利申请的全部内容并入为本申请的一部分。
2、随着对移动装置、电动车辆等的需求增加，对二次电池的需求迅速增加。特别是，在二次电池之中，具有高能量密度和高电压的锂二次电池已经商业化并且广泛使用。
3、锂二次电池具有电极组件被包含锂盐的电解质浸渍的结构，在电极组件中，多孔隔膜插置在通过在集流体上涂覆活性材料而形成的电极(即，正极和负极)之间。通过经由以下工序在集流体上形成活性材料层来制造电极，即，将活性材料、粘合剂和导电材料在溶剂中混合/分散以制备浆料的混合工序、将活性材料浆料涂覆在具有薄膜形式的集流体上并将其干燥的涂覆工序、以及用于增加经受涂覆工序的电极的容量密度并且增强集流体与活性材料之间的粘附力的压制(pressing)工序。
4、当活性材料浆料被施加至集流体时，如图1中所示，因为在活性材料层的边缘处形成其中活性材料层的厚度逐渐减小的滑动部分，所以产生活性材料层的容量减小的问题。此外，当浆料被施加至集流体的两侧时，发生其中被施加至上侧和下侧的浆料的位置不匹配的失配。当正极和负极彼此面对时，这种失配引起活性材料层的位置偏移，并且这种偏移部分降低了充电/放电效率。特别是，失配部分会使锂沉积在负极的表面上，并且如果长时间发生这样的锂沉积，则电池容量降低。
5、因此，执行蚀刻滑动部分的工序，以均匀地形
6、然而，根据这种方法，具有在位于辊之间的电极组件50中发生上下膨胀的问题，这引起蚀刻位置波动，以及不良的激光聚焦，从而导致频繁的不良蚀刻。
7、[现有技术文献]
8、[专利文献]
9、日本专利公开第2000-251942号
技术实现思路
1、技术问题
2、本专利技术旨在解决相关技术的上述问题。
3、本专利技术的目的是提供一种电极蚀刻设备，该电极蚀刻设备通过稳定地固定待蚀刻的电极组件来提高蚀刻(烧蚀)的准确性并且能够有效地防止发生由于激光束引起的蚀刻模具的损坏以及由此导致的电极组件的损坏。
4、技术方案
5、为了实现上述目的，本专利技术提供了一种电极蚀刻设备，包括：
6、电极组件支撑辊；以及
7、激光照射装置，
8、其中所述电极组件支撑辊包括两个或更多个圆柱形辊段，并且所述两个或更多个圆柱形辊段以与相邻的辊段分隔的方式结合至一个固定轴，并且
9、所述激光照射装置定位成能够用激光束照射形成在所述圆柱形辊段之间的分离空间。
10、在本专利技术的实施方式中，一个或更多个圆柱形辊段能够沿所述固定轴移动并被固定。
11、在本专利技术的实施方式中，能够移动并被固定的一个或更多个圆柱形辊段是位于所述支撑辊的一个端部的最外侧的一个圆柱形辊段、位于所述支撑辊的两个端部的最外侧的两个圆柱形辊段、或者构成所述支撑辊的整个圆柱形辊段。
12、在本专利技术的实施方式中，能够移动并被固定的一个或多个圆柱形辊段根据电极组件的宽度移动并被固定。
13、在本专利技术的实施方式中，所述固定轴可以是旋转轴。
14、在本专利技术的实施方式中，所述圆柱形辊段之中的一个或多个圆柱形辊段在其外周表面上具有一个或更多个抽吸孔。
15、在本专利技术的实施方式中，具有一个或更多个抽吸孔的圆柱形辊段可以是位于所述支撑辊的一个端部的最外侧的一个圆柱形辊段、位于所述支撑辊的两个端部的最外侧的两个圆柱形辊段、或者构成所述支撑辊的整个圆柱形辊段。
16、在本专利技术的实施方式中，所述抽吸孔可通过所述圆柱形辊段的内部空间与抽吸装置连接。
17、在本专利技术的实施方式中，所述电极蚀刻设备可进一步包括行进设备，所述行进设备使电极组件在围绕所述支撑辊形成70度至160度的内角的同时行进。
18、在本专利技术的实施方式中，所述行进设备可包括以电极组件的移动方向为基准位于所述支撑辊前方和后方的行进辊。
19、在本专利技术的实施方式中，所述激光照射装置可位于电极组件的外侧上方，电极组件的内侧通过表面接触由所述支撑辊的外周表面支撑。
20、在本专利技术的实施方式中，所述激光照射装置可安装成能够沿与所述圆柱形辊段的所述固定轴平行的轴移动。
21、在本专利技术的实施方式中，所述激光照射装置可被固定到导轨，所述导轨位于与所述圆柱形辊段的所述固定轴平行的轴上。
22、在本专利技术的实施方式中，电极组件可具有由集流体片形成的内侧和由电极活性材料层形成的外侧。
23、在本专利技术的实施方式中，所述电极蚀刻设备可用于蚀刻电极组件中的电极活性材料层，所述电极组件包括层压在集流体片上的所述电极活性材料层。
24、有益效果
25、本专利技术的电极蚀刻设备通过稳定地固定待蚀刻的电极组件，提供了提高蚀刻(烧蚀)的准确性并且能够有效地防止发生由于激光束引起的蚀刻模具的损坏以及由此导致的电极组件的损坏的效果。此外，通过这种效果提供了优异的蚀刻质量。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种电极蚀刻设备，包括：
2.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，
3.根据权利要求2所述的电极蚀刻设备，
4.根据权利要求2所述的电极蚀刻设备，其中能够移动并被固定的一个或多个圆柱形辊段根据电极组件的宽度移动并被固定。
5.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，
6.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，其中所述圆柱形辊段之中的一个或多个圆柱形辊段在其外周表面上具有一个或更多个抽吸孔。
7.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，
8.根据权利要求6所述的电极蚀刻设备，其中所述抽吸孔通过所述圆柱形辊段的内部空间与抽吸装置连接。
9.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，其中所述电极蚀刻设备进一步包括行进设备，所述行进设备使电极组件在围绕所述支撑辊形成70度至160度的内角的同时行进。
10.根据权利要求9所述的电极蚀刻设备，其中所述行进设备包括以电极组件的移动方向为基准位于所述支撑辊前方和后方的行进辊。
11.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，其中所述激光照射装置位于电极组件
12.根据权利要求11所述的电极蚀刻设备，其中所述激光照射装置安装成能够沿与所述圆柱形辊段的所述固定轴平行的轴移动。
13.根据权利要求12所述的电极蚀刻设备，其中所述激光照射装置被固定到导轨，所述导轨位于与所述圆柱形辊段的所述固定轴平行的轴上。
14.根据权利要求11所述的电极蚀刻设备，其中电极组件具有由集流体片形成的内侧和由电极活性材料层形成的外侧。
15.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，其中所述电极蚀刻设备用于蚀刻电极组件中的电极活性材料层，所述电极组件包括层压在集流体片上的所述电极活性材料层。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种电极蚀刻设备，包括：
2.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，
3.根据权利要求2所述的电极蚀刻设备，
4.根据权利要求2所述的电极蚀刻设备，其中能够移动并被固定的一个或多个圆柱形辊段根据电极组件的宽度移动并被固定。
5.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，
6.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，其中所述圆柱形辊段之中的一个或多个圆柱形辊段在其外周表面上具有一个或更多个抽吸孔。
7.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，
8.根据权利要求6所述的电极蚀刻设备，其中所述抽吸孔通过所述圆柱形辊段的内部空间与抽吸装置连接。
9.根据权利要求1所述的电极蚀刻设备，其中所述电极蚀刻设备进一步包括行进设备，所述行进设备使电极组件在围绕所述支撑辊形成70度至160度的内角的同时行进。
10.根据权利要求9所...
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