【技术实现步骤摘要】
本技术涉及材料检测，具体是一种喷涂用遮罩装置。
技术介绍
1、x射线光电子能谱技术(x-ray photoelectron spectroscopy，xps)是一种十分重要的表面分析技术，被广泛应用于金属材料、木质材料、生物医学、能源器件、矿物资源和航空航天等领域。在进行xps测定时，不良导体样品常会因为荷电效应而引起xps谱峰位移。校准荷电效应有多种方法，但均不能令人满意。不少研究指出，以污染c1s峰为基准是不适宜的。因为在不同衬底上或碳的沾污量不同时，c 1s峰会有明显的变化。加之污染碳的费米能级位置不易确定，使样品的结合能也不确定。而内标元素校准时存在分布不均匀的问题，所以本专利技术提出了一种能够均匀喷涂特殊元素的装置，实现xps内标元素荷电校准。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种喷涂用遮罩装置，用特定元素进行xps谱峰校准，解决导电性不佳样品在测试中产生的谱峰位移的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种喷涂用遮罩装置，包括金...
【技术保护点】
1.一种喷涂用遮罩装置，包括金属遮罩薄片(1)和样品支撑组件，其特征在于：所述样品支撑组件包括支撑架(2)和活动样品台(3)；所述支撑架(2)的上端为开口状，且支撑架(2)的开口两端设有卡槽(21)，所述金属遮罩薄片(1)卡设在两个卡槽(21)内；所述活动样品台(3)设置在支撑架(2)的内部，用于抬升样品；所述金属遮罩薄片(1)上设计了一系列大小的孔洞(11)，为了避免标定金属喷涂后对样品本身的检测出现影响，在喷涂口与样品表面之间加上金属遮罩薄片(1)，使得标定元素以特定的大小规格均匀分布在样品表面。
2.根据权利要求1所述的一种喷涂用遮罩装置，其特征在于...
【技术特征摘要】
1.一种喷涂用遮罩装置，包括金属遮罩薄片(1)和样品支撑组件，其特征在于：所述样品支撑组件包括支撑架(2)和活动样品台(3)；所述支撑架(2)的上端为开口状，且支撑架(2)的开口两端设有卡槽(21)，所述金属遮罩薄片(1)卡设在两个卡槽(21)内；所述活动样品台(3)设置在支撑架(2)的内部，用于抬升样品；所述金属遮罩薄片(1)上设计了一系列大小的孔洞(11)，为了避免标定金属喷涂后对样品本身的检测出现影响，在喷涂口与样品表面之间加上金属遮罩薄片(1)，使得标定元素以特定的大小规格均匀分布在样品表面。
2.根据权利要求1所述的一种喷涂用遮罩装置，其特征在于，所述活动样品台(3)包括台板(31)、第一支撑杆(32)和第二支撑杆(33)，所述第一支撑杆(32)和第二支撑杆(33)为两组，分别位于所述台板(31)的两侧；所述支撑架(2)的地面上对称设有第一滑槽(34)，所述台板(31)...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨文超，湛永钟，覃伟鸥，刘静，潘燕芳，
申请(专利权)人：广西大学，
类型：新型
国别省市：
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