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可变光衰减器件及其制备方法技术

技术编号:4020552 阅读:178 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种可变光衰减器件及其制备方法,该器件包括:硅基座以及与所述硅基座键合的玻璃基座,所述硅基座设置有垂直光反射面、以及以所述光反射面为一侧面的加热空腔,所述加热空腔与所述玻璃基座的部分上表面围成密封腔体,在所述密封腔体内的玻璃基座的上表面上设置有加热部件。本发明专利技术的可变光衰减器件可满足振动环境中对器件的可靠性要求、成本低、且性能高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种可变光衰减器件,其特征在于,该器件包括:硅基座以及与所述硅基座键合的玻璃基座,所述硅基座设置有垂直光反射面、以及以所述光反射面为一侧面的加热空腔,所述加热空腔与所述玻璃基座的部分上表面围成密封腔体,在所述密封腔体内的玻璃基座的上表面上设置有加热部件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴文刚陈庆华杜博超张海霞郝一龙
申请(专利权)人:北京大学
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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