【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及表面处理，具体涉及一种金属表面涂层的制备工艺。
技术介绍
1、由于传统化学电镀存在大量的废水排放，油漆喷涂存在一定的废气排放等，都在整顿和技术革新之中。真空电镀因其良好的装饰效果和无“三废”排放等受到了生产厂商和消费者的欢迎，也成为了取代传统化学电镀涂层的主流方式之一。
2、如申请号为cn202210129870.3(公开号为cn114457309a)的中国专利技术专利申请公开的《一种五金易洁表面处理的方法》，具体包括如下步骤：安装多弧离子镀靶材，靶材可以是铬、锆、钛中的一种或多种；装载清洗烘干后的电镀样品，抽真空达到本底真空后，进行离子镀膜；保持洁净，将上述pvd镀膜后的样品转喷涂挂具后喷涂纳米易洁材料；将喷涂纳米易洁材料后的样品进行烘烤干燥，烘考温度在60～140℃，时间为20～60min。
3、该专利在五金电镀铬产品表面沉积一层具有一定粗糙度的金属膜层，再在所制膜层表面喷涂一层纳米易洁材料，在不改变金属色泽质感的条件下获得具有较强耐刮擦性能、易洁使用寿命长的产品表面。
4、但是该专利的五金产品仅限于电镀铬产品，应用范围较窄；另外，该专利是通过涂层的高硬度来提高五金产品的耐刮擦性，但是该产品的耐腐蚀性能并没有提高，而在美观健康的同时具有耐磨耐蚀易洁性能，才会更符合消费者需求。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术的现状，提供一种耐腐蚀性能好的金属表面涂层的制备工艺。
2、本专利技术解决上述技术
3、步骤一、对金属基材表面进行研磨；
4、步骤二、将研磨后的金属基材依次进行清洗和烘干；
5、步骤三、在烘干后的金属基材表面镀膜，所述镀膜工艺先采用多弧离子镀在金属基材表面形成类扩散层结构，然后采用磁控溅射工艺在类扩散层表面沉积金属层和非金属层的复合膜层。
6、优选地，在所述步骤三中，所述多弧离子镀的工艺包括如下步骤：
7、(1)将烘干后的金属基材置入真空炉中，镀膜温度为50℃-150℃，本底真空为0.006-0.008pa。在达到本底真空后，通入氩气，对金属基材进行辉光清洗，偏压电源电压控制在600-800v，偏压占空比40％-60％，真空度为0.6-1pa，时间10-20min；
8、(2)然后对金属基材进行离子轰击，偏压电源电压控制在250-500v，偏压占空比40％-60％，工作气体为氩气，真空为0.08-0.12pa，时间2-15min，多弧电流70-90a，多弧靶材采用钛，锆，铬，镍中的一种或几种，在金属基材表面形成类扩散层结构。
9、优选地，在所述步骤三中，所述复合膜层制备工艺为：
10、(a)偏压电源电压控制在50-200v，偏压占空比40％-60％，工作气体为氩气，真空为0.3-0.5pa，时间5-20min，中频电流10-30a，在类扩散层表面沉积底层膜层。
11、(b)然后偏压电源电压控制在50-200v，偏压占空比40％-60％，工作气体为氩气，真空度为0.3-0.5pa，时间5-30min，中频电流10-30a，靶材为铬、钛、铝、硅中的两种或几种，靶材交替成膜并沉积在底层膜层上，形成所述多层复合膜层。
12、为了提高涂层的美观性，所述制备工艺还包括步骤四：在复合膜层表面还沉积有颜色层，所述颜色层的制备工艺为：
13、偏压电源电压控制在50-100v，偏压占空比40％-60％，工作气体为氩气，反应气体为氮气、乙炔、氧气中的一种或几种，真空为0.3-0.5pa，时间20-60min，中频电流10-30a。
14、为了使得涂层易清洁，所述制备工艺还包括步骤五，在颜色层的表面喷涂易洁涂料。
15、优选地，所述易洁涂料疏水疏油，以便于清洁。
16、优选地，在所述步骤一中，所述研磨工艺为磁力研磨。相对于传统研磨方式，磁力研磨对金属基材的毛刺去除、表面光洁更加的高效。
17、优选地，所述磁力研磨采用直径为0.2～1.2mm，长度为5～15cm的304不锈钢针，磁力研磨功率设定在50～60hz，时间设定在4～20min，磁力研磨的磁盘每隔设定时间进行正反转的切换。
18、优选地，在所述步骤二中，所述金属基材依次经过至少一道自来水洗，超声波除油，至少一道纯水洗，超声波纯水洗，超纯水热水洗，以使基材表面清洗的足够干净，无水印水渍，保证基材与pvd镀膜层的结合力性能。
19、优选地，超纯水热水洗的纯水电导率控制在0.1～1.0μs/cm3，温度控制在40～50℃。
20、与现有技术相比，本专利技术的优点：1、本专利技术采用多弧离子镀结合磁控溅射的方法，在金属基材表面采用离子轰击形成一种类扩散层结构，该结构致密，可以防止腐蚀离子进入，提高耐蚀性，然后采用磁控溅射在类扩散层表面沉积金属层和非金属层的多层复合膜层，利用非金属层来阻断金属层的柱状晶结构，从而使腐蚀离子不易进入涂层内部，增强结合力和耐蚀性；2、本专利技术的镀层可以直接在金属基材上实施，不需要对金属基材先进行电镀处理，工艺简单。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种金属表面涂层的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：在所述步骤三中，所述多弧离子镀的工艺包括如下步骤：
3.根据权利要求1所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：在所述步骤三中，所述复合膜层制备工艺为：
4.根据权利要求1所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：还包括步骤四：在复合膜层表面还沉积有颜色层，所述颜色层的制备工艺为：
5.根据权利要求4所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：还包括步骤五，在颜色层的表面喷涂易洁涂料。
6.根据权利要求5所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：所述易洁涂料疏水疏油。
7.根据权利要求1所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：在所述步骤一中，所述研磨工艺为磁力研磨。
8.根据权利要求7所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：所述磁力研磨功率设定在50～60HZ，时间设定在4～20min，磁力研磨的磁盘每隔设定时间进行正反转的切换。
9.根据权利要求1所述的金属表面涂
10.根据权利要求9所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：超纯水热水洗的纯水电导率控制在0.1～1.0μS/cm3，温度控制在40～50℃。
...【技术特征摘要】
1.一种金属表面涂层的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：在所述步骤三中，所述多弧离子镀的工艺包括如下步骤：
3.根据权利要求1所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：在所述步骤三中，所述复合膜层制备工艺为：
4.根据权利要求1所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：还包括步骤四：在复合膜层表面还沉积有颜色层，所述颜色层的制备工艺为：
5.根据权利要求4所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：还包括步骤五，在颜色层的表面喷涂易洁涂料。
6.根据权利要求5所述的金属表面涂层的制备工艺，其特征在于：所述易洁涂料疏水...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑航，吴吉诚，张大海，王应泉，
申请(专利权)人：宁波威霖住宅设施有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。