System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 用于有机电致发光器件的含氮杂环化合物制造技术_技高网

用于有机电致发光器件的含氮杂环化合物制造技术

技术编号:40200049 阅读:7 留言:0更新日期:2024-01-27 00:04
本发明专利技术涉及适用于电子器件的含氮杂环化合物,以及含有所述化合物的电子器件,特别是有机电致发光器件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种化合物,所述化合物包括至少一个式(I)的结构

2.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物包含至少一种式(II-1)至式(II-42)的结构:

3.根据权利要求1或2所述的化合物,所述化合物包括至少一种式(III-1)至式(III-41)的结构:

4.根据权利要求1至3中的一项或多项所述的化合物,所述化合物包括至少一种式(IV-1)至式(IV-41)的结构:

5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的化合物,所述化合物包括至少一种式(V-1)至式(V-8)的结构:

6.根据权利要求1至5中的一项或多项所述的化合物,其特征在于至少一个R、Ra、Rb、Rc、Rd基团是具有1至40个碳原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有2至40个碳原子的烯基或炔基基团,或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,其中所述烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团在每种情况下可以被一个或多个R1基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R1C=CR1、C≡C、Si(R1)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR1、-C(=O)O-、-C(=O)NR1-、NR1、P(=O)(R1)、-O-、-S-、SO或SO2代替,或具有5至60个芳族环原子且在每种情况下可以被一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系。

7.根据权利要求1至6中的一项或多项所述的化合物,其特征在于至少两个R、Ra、Rb、Rc、Rd基团与所述两个R、Ra、Rb、Rc、Rd基团所结合的其它基团一起形成稠合环,其中所述两个R、Ra、Rb、Rc、Rd基团形成至少一个式(RA-1)至式(RA-12)的结构:

8.根据权利要求1至7中的一项或多项所述的化合物,其特征在于至少两个R、Ra、Rb、Rc、Rd基团与所述两个R、Ra、Rb、Rc、Rd基团所结合的其它基团一起形成稠合环,其中所述两个R、Ra、Rb、Rc、Rd基团形成式(RB)的结构:

9.根据权利要求1至8中的一项或多项所述的化合物,所述化合物包含至少一个式(VI-1)至(VI-22)的结构,其中所述化合物具有至少一个稠合环,

10.根据权利要求1至9中的一项或多项所述的化合物,其特征在于至少一个取代基R、Ra、Rb在每种情况下相同或不同并且选自H,D,具有3至20个碳原子的支链或环状烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或选自下列式Ar-1至Ar-78的基团的芳族或杂芳族环系:

11.根据前述权利要求5至10中的至少一项所述的化合物,其特征在于取代基Rc、Rd在每种情况下相同或不同,并且表示具有6至30个芳族环原子且可被选自权利要求10中所示的式(Ar-1)至式(Ar-78)的基团中的一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系。

12.根据前述权利要求1至11中的至少一项所述的化合物,其特征在于所述化合物包括恰好两个或恰好三个式(I)、式(II-1)至式(II-42)、式(III-1)至式(III-41)、式(IV-1)至式(IV-41)、式(V-1)至式(V-8)和/或式(VI-1)至式(VI-22)的结构。

13.一种含有一种或多种根据权利要求1至11中的任一项所述的化合物的低聚物、聚合物或树枝状大分子,其中存在所述化合物与所述聚合物、低聚物或树枝状大分子的一个或多个键,而不是氢原子或取代基。

14.一种制剂,所述制剂包含至少一种根据权利要求1至12中的一项或多项所述的化合物或根据权利要求13所述的低聚物、聚合物或树枝状大分子以及至少一种其它化合物,其中所述其它化合物优选地选自一种或多种溶剂。

15.一种组合物,所述组合物包含至少一种式(I)化合物

16.一种制备根据权利要求1至12中的一项或多项所述的化合物的方法,其特征在于合成了具有Wa基团中的至少一个或所述Wa基团之一的前体的基础骨架,并借助于亲核芳族取代反应或偶联反应引入芳族或杂芳族基团。

17.一种式(I)化合物

18.一种电子器件,所述电子器件包含至少一种式(I)化合物

...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种化合物,所述化合物包括至少一个式(i)的结构

2.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物包含至少一种式(ii-1)至式(ii-42)的结构:

3.根据权利要求1或2所述的化合物,所述化合物包括至少一种式(iii-1)至式(iii-41)的结构:

4.根据权利要求1至3中的一项或多项所述的化合物,所述化合物包括至少一种式(iv-1)至式(iv-41)的结构:

5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的化合物,所述化合物包括至少一种式(v-1)至式(v-8)的结构:

6.根据权利要求1至5中的一项或多项所述的化合物,其特征在于至少一个r、ra、rb、rc、rd基团是具有1至40个碳原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有2至40个碳原子的烯基或炔基基团,或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,其中所述烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团在每种情况下可以被一个或多个r1基团取代,其中一个或多个不相邻的ch2基团可以被r1c=cr1、c≡c、si(r1)2、c=o、c=s、c=se、c=nr1、-c(=o)o-、-c(=o)nr1-、nr1、p(=o)(r1)、-o-、-s-、so或so2代替,或具有5至60个芳族环原子且在每种情况下可以被一个或多个r1基团取代的芳族或杂芳族环系。

7.根据权利要求1至6中的一项或多项所述的化合物,其特征在于至少两个r、ra、rb、rc、rd基团与所述两个r、ra、rb、rc、rd基团所结合的其它基团一起形成稠合环,其中所述两个r、ra、rb、rc、rd基团形成至少一个式(ra-1)至式(ra-12)的结构:

8.根据权利要求1至7中的一项或多项所述的化合物,其特征在于至少两个r、ra、rb、rc、rd基团与所述两个r、ra、rb、rc、rd基团所结合的其它基团一起形成稠合环,其中所述两个r、ra、rb、rc、rd基团形成式(rb)的结构:

9.根据权利要求1至8中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:菲利普·施特塞尔埃米尔·侯赛因·帕勒姆鲁文·林格
申请(专利权)人:默克专利有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1