【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及化工合成，尤其涉及一种气体分布器、气体分布器模块、反应器及化工系统。
技术介绍
1、反应器为化工合成技术中常用设备，气体从反应器的底部进入，经气体分布器均匀分布后，气体与含有固体催化剂颗粒的浆液充分接触发生化学反应。气相产物和未反应的气体经分离后从顶部离开反应器。液相产物经过滤器分离出催化剂后进入下一工序进一步加工，反应热量通过换热设备移除。
2、气体分布器是反应器的重要内构件，其主要作用是均匀分布气体并产生尽可能小的气泡，以实现在反应器中均匀布气。
3、在反应过程中，会有催化剂沉积在反应器罐体中的隔板或浆液床上，从而引发催化剂局部飞温，不仅产生结焦现象，而且催化剂会快速失活，严重影响了反应器长周期的运行稳定性。
4、在进气量突然减少或中断情况下，催化剂浆液也容易发生倒流堵塞气体分布器的排气口。
5、现有技术中，都关注气体分布器的均匀布气，很少关注如何防止催化剂在底部沉积的问题，也很少关注如何防止气体分布器堵塞的问题。
6、有鉴于此，提供一种新型的气体分布器、气体...
【技术保护点】
1.一种气体分布器，其特征在于，包括具有气腔的泡帽、连接在所述泡帽的下方的进气管及安装在所述进气管中的止逆阀；
2.根据权利要求1所述的气体分布器，其特征在于，在沿着从下往上的方向上，所述帽座的半径逐渐增大，所述帽座上间隔地设置有至少两圈所述帽座布气口；和/或，
3.根据权利要求2所述的气体分布器，其特征在于，所述帽体布气口的布气方向与所述帽体垂直，和/或，所述帽座布气口的布气方向与所述帽座垂直。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的气体分布器，其特征在于，每个所述帽体布气口和/或每个所述帽座布气口中分别安装有气泡发生器。
<...【技术特征摘要】
1.一种气体分布器，其特征在于，包括具有气腔的泡帽、连接在所述泡帽的下方的进气管及安装在所述进气管中的止逆阀；
2.根据权利要求1所述的气体分布器，其特征在于，在沿着从下往上的方向上，所述帽座的半径逐渐增大，所述帽座上间隔地设置有至少两圈所述帽座布气口；和/或，
3.根据权利要求2所述的气体分布器，其特征在于，所述帽体布气口的布气方向与所述帽体垂直，和/或，所述帽座布气口的布气方向与所述帽座垂直。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的气体分布器，其特征在于，每个所述帽体布气口和/或每个所述帽座布气口中分别安装有气泡发生器。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的气体分布器，其特征在于，所述帽座与所述进气管滑动连接，和/或...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨如意，杜冰，卜亿峰，赵用明，佟瑞利，冯留海，吕毅军，门卓武，
申请(专利权)人：国家能源投资集团有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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