多晶硅生产工艺中二氯二氢硅配比控制系统技术方案

本技术公开了一种多晶硅生产工艺中二氯二氢硅配比控制系统，属于多晶硅生产相关技术领域，包括：三氯氢硅采出塔，其物料输出端设置有第一管路，第一管路上设置有第一质量流量计和第一调节阀；二氯二氢硅采出塔，其物料输出端设置有第二管路，第二管路上设置有第二质量流量计和第二调节阀；静态混合器，其一个输入端与第一管路的末端相连接，另一个输入端与第二管路的末端相连接；其中，流经第一质量流量计的流量Q1与流经第二质量流量计的流量Q2的配比满足一定的关系。本技术通过使用各种调节阀，静态混合器及质量流量计等相关部件，可以精确控制进入还原工序的二氯二氢硅与三氯氢硅的配比，从而为还原工艺的稳定控制提供了保障。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及多晶硅生产相关，特别涉及一种多晶硅冷氢化工艺系统。

技术介绍

1、目前，多晶硅企业中普遍采用西门子法来制备多晶硅。西门子法中需要的原料之一为三氯氢硅，主要是用工业硅粉与氯化氢在合成炉中合成，或者是用工业硅粉与四氯化硅及氢气通入冷氢化流化床反应器中合成。合成出来的氯硅烷（对三氯氢硅、二氯二氢硅及四氯化硅的统称），再经过粗馏、精馏等工序得到高纯的三氯氢硅，最后送至还原工序生产硅棒。

2、为了增加硅元素在硅芯表面的沉积速率以及降低电耗。进入还原工序的高纯三氯氢硅中，需要参配一定比例的二氯二氢硅。该二氯二氢硅的配比控制（如配比的比例和控制方法）各公司各不相同，但通常大部分是通过精馏工序中精馏塔参数的调整来进行控制，但是精馏塔的控制参数，通常会有一定的波动范围，故采出的二氯二氢硅含量就会有所波动，这样进一步导致还原炉工艺参数波动，最终导致产出的硅棒质量出现波动。

技术实现思路

1、基于现有技术中存在二氯二氢硅的配比不太容易控制的技术问题，本申请提出了一种二氯二氢硅配比控制系统，该系统以求可以相对精本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.多晶硅生产工艺中二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，所述Q1：Q2=50：1。

3.根据权利要求1所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：

4.根据权利要求3所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求4所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：

6.根据权利要求5所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：

7.根据权利要求1所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：</p>

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【技术特征摘要】

1.多晶硅生产工艺中二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，所述q1：q2=50：1。

3.根据权利要求1所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：

4.根据权利要求3所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求4所述的二氯二氢硅配比控制系统，其特征在于，还包括：<...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨强，彭中，刘真，耿志萍，高元，江庆云，闫永琪，李瑞华，郝婷，秦燕，段春林，鲁焕平，喻鑫，赵洪波，张驰，赵燕成，李恒，施洪银，
申请(专利权)人：云南通威高纯晶硅有限公司，
类型：新型
国别省市：