【技术实现步骤摘要】
本公开涉及图形处理领域，尤其涉及一种模型烘焙方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
1、在游戏制作中存在大量简模制作需求，例如端游资源转到手游，受手机性能限制美术资源需要大幅简化，而商用模型简化工具又达不到需要的模型压缩比率，常规用于压缩模型的面片数的技术是减面方法，然而要达到非常高的面片压缩比非常难，减面通用的方法框架为迭代计算缩减每个面/顶点的代价，代价可以认为是减去这个面后对模型形状的影响，然后每次缩减代价最小的面或者顶点，但是采用这种迭代方法进行减面后的面数任然无法达到实际的需求，在这种压缩比下这种方法的结果会产生非常大的畸变无法使用。
2、公开内容
3、本公开的主要目的在于解决现有的模型简模制作无法提供足够的面片压缩比的技术问题。
4、本公开第一方面提供了一种模型烘焙方法，方法包括：
5、响应于针对目标模型中模型面片的选择操作，确定所述目标模型中的多个目标面片，以及所述多个目标面片的简模类型；
6、根据所述简模类型，对所述多个目标面片进行简化处理，得到所述多个目标面片的简化模型；
7、对所述简化模型进行uv展开以及uv放置，得到所述简化模型的uv坐标和简模贴图；
8、根据所述uv坐标和所述多个目标面片的高模贴图对所述简模贴图进行贴图烘焙。
9、本公开第二方面提供了一种模型烘焙装置，装置包括：
10、响应模块，用于响应于针对目标模型中模型面片的选择操作，确定所述目标模型中的多个目标面片，以及所述多个目标面片的简模类
11、简化模块，用于根据所述简模类型，对所述多个目标面片进行简化处理，得到所述多个目标面片的简化模型；
12、uv处理模块，用于对所述简化模型进行uv展开以及uv放置，得到所述简化模型的uv坐标和简模贴图；
13、贴图烘焙模块，用于根据所述uv坐标和所述多个目标面片的高模贴图对所述简模贴图进行贴图烘焙。
14、本公开第三方面提供了一种模型烘焙装置，包括：存储器和至少一个处理器，所述存储器中存储有指令，所述存储器和所述至少一个处理器通过线路互连；所述至少一个处理器调用所述存储器中的所述指令，以使得所述模型烘焙设备执行上述的模型烘焙方法的步骤。
15、本公开的第四方面提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有指令，当其在计算机上运行时，使得计算机执行上述的模型烘焙方法的步骤。
16、本公开响应于针对目标模型中模型面片的选择操作，确定所述目标模型中的多个目标面片，以及所述多个目标面片的简模类型；根据所述简模类型，对所述多个目标面片进行简化处理，得到所述多个目标面片的简化模型；对所述简化模型进行uv展开以及uv放置，得到所述简化模型的uv坐标和简模贴图；根据所述uv坐标和所述多个目标面片的高模贴图对所述简模贴图进行贴图烘焙。本方法通过对目标模型中选择的面片生成对应的多边形平面简化模型替换目标模型中的高模部分，能够得到较高的面片压缩比，此外，通过生成的简化模型进行贴图烘焙，也不会产生非常大的畸变导致无法使用。
17、本公开的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本公开而了解。本公开的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
18、为使本公开的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
技术实现思路
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种模型烘焙方法，其特征在于，所述模型烘焙方法包括：
2.根据权利要求1所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述简模类型包括片状简化；所述根据所述简模类型，对所述多个目标面片进行简化处理，得到所述多个目标面片的简化模型包括：
3.根据权利要求2所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述计算所述多个目标面片的平均平面，并将所有多个目标面片投影至所述平均平面，得到投影图包括：
4.根据权利要求2所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述对所述投影图进行轮廓提取，得到所述投影图的轮廓线，并根据所述轮廓线生成包围所述投影图的最小多边形包括：
5.根据权利要求1所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述简模类型包括包裹简化，所述根据所述简模类型，对所述多个目标面片进行简化处理，得到所述多个目标面片的简化模型包括：
6.根据权利要求1所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述对所述简化模型进行UV展开以及UV放置，得到所述简化模型的UV坐标和简模贴图包括：
7.根据权利要求6所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述根据各所述光照图表对所述简化模型进
8.根据权利要求1-7中任一项所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述根据所述UV坐标和所述多个目标面片的高模贴图对所述简模贴图进行贴图烘焙包括：
9.根据权利要求8所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述根据所述UV坐标对所述多个目标面片进行模型光栅化处理，得到所述多个目标面片在高模贴图中的像素坐标与模型空间中三维点的三维坐标之间第一映射关系包括：
10.根据权利要求8所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述对所述多个目标面片进行模型空间映射处理，得到所述多个目标面片的三维点和所述简化模型的三维点在模型空间中的第二映射关系包括：
11.根据权利要求9所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述对所述多个目标面片进行像素空间映射处理，得到所述简化模型的三维点与所述简化贴图的像素坐标之间的第三映射关系包括：
12.根据权利要求8所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述根据所述第一映射关系、所述第二映射关系和第三映射关系，将所述高模贴图烘焙到简模贴图上包括：
13.一种模型烘焙装置，其特征在于，所述模型烘焙装置包括：
14.一种模型烘焙设备，其特征在于，所述模型烘焙设备包括：存储器和至少一个处理器，所述存储器中存储有指令；
15.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有指令，其特征在于，所述指令被处理器执行时实现如权利要求1-12中任意一项所述模型烘焙方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种模型烘焙方法，其特征在于，所述模型烘焙方法包括：
2.根据权利要求1所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述简模类型包括片状简化；所述根据所述简模类型，对所述多个目标面片进行简化处理，得到所述多个目标面片的简化模型包括：
3.根据权利要求2所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述计算所述多个目标面片的平均平面，并将所有多个目标面片投影至所述平均平面，得到投影图包括：
4.根据权利要求2所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述对所述投影图进行轮廓提取，得到所述投影图的轮廓线，并根据所述轮廓线生成包围所述投影图的最小多边形包括：
5.根据权利要求1所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述简模类型包括包裹简化，所述根据所述简模类型，对所述多个目标面片进行简化处理，得到所述多个目标面片的简化模型包括：
6.根据权利要求1所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述对所述简化模型进行uv展开以及uv放置，得到所述简化模型的uv坐标和简模贴图包括：
7.根据权利要求6所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述根据各所述光照图表对所述简化模型进行uv放置，得到所述简化模型的uv坐标和简模贴图包括：
8.根据权利要求1-7中任一项所述的模型烘焙方法，其特征在于，所述根据所述uv坐标和所述多个目标...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴家贤，廖梦卉，蒋天音，黄梓田，林悦，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：
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