【技术实现步骤摘要】
本公开的示例性实施方式涉以及检测方法以及等离子体处理装置。
技术介绍
1、作为能够使异常放电的判断精度提高的技术，存在专利文献1中记载的异常检测装置以及异常检测方法。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2013-033726号公报
技术实现思路
1、本公开提供在等离子体处理的执行中检测特异点的技术。
2、在本公开的一个示例性实施方式中，提供一种在等离子体处理装置中执行的检测方法。所述等离子体处理装置具备等离子体处理腔室、在所述等离子体处理腔室内配置的基板支持部以及在所述基板支持部内配置的多个加热器，所述检测方法包含：在所述基板支持部上配置基板的工序；在所述等离子体处理腔室内生成等离子体并对所述基板执行等离子体处理的工序；在所述等离子体处理腔室内生成了等离子体的状态下，对所述多个加热器分别测量温度的工序；以及基于测量的所述多个加热器的温度，测量所述基板支持部中的特异点的工序。
3、专利技术效果
4、...
【技术保护点】
1.一种检测方法，在等离子体处理装置中执行，所述等离子体处理装置具备等离子体处理腔室、配置于所述等离子体处理腔室内的基板支持部以及配置于所述基板支持部内的多个加热器，所述检测方法包含：
2.根据权利要求1所述的检测方法，还包含：
3.根据权利要求1所述的检测方法，还包含：
4.根据权利要求1所述的检测方法，还包含：
5.根据权利要求4所述的检测方法，其中，
6.根据权利要求5所述的检测方法，其中，
7.根据权利要求6所述的检测方法，其中，
8.根据权利要求4所述的检测方法，其中，>
9.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种检测方法，在等离子体处理装置中执行，所述等离子体处理装置具备等离子体处理腔室、配置于所述等离子体处理腔室内的基板支持部以及配置于所述基板支持部内的多个加热器，所述检测方法包含：
2.根据权利要求1所述的检测方法，还包含：
3.根据权利要求1所述的检测方法，还包含：
4.根据权利要求1所述的检测方法，还包含：
5.根据权利要求4所述的检测方法，其中，
6.根据权利要求5所述的检测方法，其中，
7.根据权利要求6所述的检测方法，其中，...
【专利技术属性】
技术研发人员：松本直树，小津俊久，中村谕，清水祐介，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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