一种均匀温度场分布的温度调控系统及方法技术方案

一种均匀温度场分布的温度调控系统，包括：生长室，用于容纳种植植物；温度单元，用于检测及调控植物根系环境温度；培养液单元，其能够对植物输送培养液，其中，温度单元包括温度测量组件和温度调节组件，温度调节组件配置为基于直接向植物相应位置传递热量的方式而设置在植物根系周围，培养液单元配置为至少能够以调整培养液温度的方式向植物根系输送培养液，其中，在温度测量组件对生长室空间内多个不同位置的植物根系温度进行数据采集的情况下，基于植物根系温度情况，温度调节组件和/或培养液单元能够向相应植物根系位置施加调整温度的影响。本方案能够针对相邻分布的植物根系温度环境做出差异化调整，以保证植物根系各处温度相对均匀。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及植物种植，涉及一种均匀温度场分布的温度调控系统及方法。

技术介绍

1、目前，针对引入人工干预的种植模式，尤其是针对批量化种植的植物工厂模式，由于种植规模较大且能够在人工干预的情况下向植物施加其所需要的生长环境，植物的种植空间总是以密集方式构建的，因为这样可以显著减少投入生产的场地面积大小，同时在生产管理上也能够具备一定的精简场地的优势。因此在植物工厂中，种植槽、种植架等装置被应用，种植方式开始向垂直化发展。同时，实际上部分植物在垂直方向上也能获得更好的生长状态，例如一些向上生长性的植物，垂直化种植方式能够降低相邻植物在生长空间上的竞争影响，从而使得每株目标植物能够以更具优势的方式进行生长。额外地，也存在在场地内进行平面种植的情况。另外，植物工厂内还存在一种较为常见的营养供给方式，即采用雾化的方式将培养液分散为细小水珠，并且喷洒至植物上以向植物提供其所需要的水分以及养分，针对植物的营养供给，一般情况下，至少需要对植物的根部提供营养和水分，才能让植物吸收其需要的生长资源。

2、cn218389189u公开一种深浅雾培与无土栽培组合装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种均匀温度场分布的温度调控系统，包括：

2.根据权利要求1所述的调控系统，其特征在于，所述温度处理组件(103)被配置为能够基于两次培养液施加至所述植物根系(400)之间的间隔时间内累积的多个历史温度数据建立起温度与时间之间的关联关系，并基于关联关系预测下一间隔时间内的所述根系(400)温度变化趋势，基于变化趋势调节所述温度测量组件(101)的检测间隔。

3.根据权利要求1或2所述的调控系统，其特征在于，基于所述温度组件在空间内多个分布位置的检测，获取所述相邻植物根系(400)各自的温度场以及交叉的温度场而形成的交叉温度场域，所述培养液单元(200)在所述温...

【技术特征摘要】

1.一种均匀温度场分布的温度调控系统，包括：

2.根据权利要求1所述的调控系统，其特征在于，所述温度处理组件(103)被配置为能够基于两次培养液施加至所述植物根系(400)之间的间隔时间内累积的多个历史温度数据建立起温度与时间之间的关联关系，并基于关联关系预测下一间隔时间内的所述根系(400)温度变化趋势，基于变化趋势调节所述温度测量组件(101)的检测间隔。

3.根据权利要求1或2所述的调控系统，其特征在于，基于所述温度组件在空间内多个分布位置的检测，获取所述相邻植物根系(400)各自的温度场以及交叉的温度场而形成的交叉温度场域，所述培养液单元(200)在所述温度单元(100)采集的场域相关信息的基础上调整其工作参数中的至少其中一项，使得在后续至少一个时间段内将带有温度的培养液引入至所述植物根系(400)时，至少所述交叉温度场域内的温度值能够按需求而与相邻温度场差异更大或者差异更小。

4.根据前述任意权利要求之一所述的调控系统，其特征在于，所述培养液单元(200)通过多个雾化喷头(201)将所述培养液引入至植物(500)根部，这些各自具备喷溅范围的所述雾化喷头(201)按照能够覆盖植物(500)生长根区域与植物(500)吸收根交叉区域的方式配置，以使得单个所述雾化喷头(201)能够针对特定区域的植物根系(400)施加至少一种调整参数的培养液。

5.根据前述任意权利要求之一所述的调控系统，其特征在于，还包括有处理控制单元，所述处理控制单元通信耦合地连接至所述温度单元(100)以获取温度场信息以及交叉温度场域信息，并...

【专利技术属性】
技术研发人员：王森，杨其长，周成波，李宗耕，巫小兰，袁泉，
申请(专利权)人：中国农业科学院都市农业研究所，
类型：发明
国别省市：