【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学，尤其涉及变焦耐辐射镜头。
技术介绍
1、耐辐射镜头是利用光学成像原理，记录辐射环境下影像。耐辐射镜头需要抵消辐射射线的干扰。随着使用环境的变化，在矫正像面弯曲、球差、像差等前提下，对大变化倍率和长焦距的耐辐射镜头提出更高需求。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的是提出一种变焦耐辐射镜头，旨在提供一种能矫正像面弯曲、球差、像差等前提下，具有大变化倍率和长焦距的耐辐射镜头。
2、为实现上述目的，本专利技术提出的一种变焦耐辐射镜头，所述变焦耐辐射镜头具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述变焦耐辐射镜头包括壳体、以及设于所述壳体内的多个透镜组，多个所述透镜组之间在所述壳体内对应形成一光轴，自所述物侧至所述像侧依次设置的多个所述透镜组依次包括：
3、第一透镜组，固定设于所述壳体，所述第一透镜组具有正光焦度；
4、第二透镜组，沿所述光轴的延伸方向可活动设置，以具有靠近物侧或靠近像侧之间的活动行程，所述第二透镜组具有负光焦度；
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【技术保护点】
1.一种变焦耐辐射镜头，其特征在于，所述变焦耐辐射镜头具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述变焦耐辐射镜头包括壳体、以及设于所述壳体内的多个透镜组，多个所述透镜组之间在所述壳体内对应形成一光轴，自所述物侧至所述像侧依次设置的多个所述透镜组依次包括：
2.如权利要求1所述的变焦耐辐射镜头，其特征在于，所述第二透镜组与所述第三透镜组之间固定设置有光阑，所述光阑的口径可调设置。
3.如权利要求2所述的变焦耐辐射镜头，其特征在于，在所述第二透镜组沿着光轴向物侧移动，所述第三透镜组沿着光轴向像侧移动时，实现望远端向广角端变倍，在所述第二透镜组沿着光轴...
【技术特征摘要】
1.一种变焦耐辐射镜头，其特征在于，所述变焦耐辐射镜头具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述变焦耐辐射镜头包括壳体、以及设于所述壳体内的多个透镜组，多个所述透镜组之间在所述壳体内对应形成一光轴，自所述物侧至所述像侧依次设置的多个所述透镜组依次包括：
2.如权利要求1所述的变焦耐辐射镜头，其特征在于，所述第二透镜组与所述第三透镜组之间固定设置有光阑，所述光阑的口径可调设置。
3.如权利要求2所述的变焦耐辐射镜头，其特征在于，在所述第二透镜组沿着光轴向物侧移动，所述第三透镜组沿着光轴向像侧移动时，实现望远端向广角端变倍，在所述第二透镜组沿着光轴向像侧移动，所述第三透镜组沿着光轴向物侧移动时，实现广角端向望远端变倍；
4.如权利要求3所述的变焦耐辐射镜头，其特征在于，所述变焦耐辐射镜头工作f数为fno，其中，1.75≤fno≤3.5。
5.如权利要求1所述的变焦耐辐射镜头，其特征在于，所述第一透镜组...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐宁，朱红伟，邱盛平，
申请(专利权)人：成都联江科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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