【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种硅基电容麦克风的制作方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤Ａ：提供一个硅基底，硅基底上沉积刻蚀阻挡层；步骤Ｂ：在刻蚀阻挡层上沉积应力平衡层；步骤Ｃ：在应力平衡层上沉积振膜；步骤Ｄ：在硅基底上沉积牺牲层，并刻出潜影；步骤Ｅ：沉积背板；步骤Ｆ：对背板掺杂，使之变成导体；步骤Ｇ：刻蚀背板；步骤Ｈ：沉积电极，做欧姆接触。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孟珍奎，葛舟，李海锋，
申请(专利权)人：瑞声声学科技深圳有限公司，瑞声微电子科技常州有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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