一种陶瓷雾化芯热处理方法及其应用技术

技术编号:40144124 阅读:37 留言:0更新日期:2024-01-24 00:04
本发明专利技术公开了一种陶瓷雾化芯热处理方法及其应用,涉及陶瓷雾化芯热处理技术领域。陶瓷雾化芯热处理方法,对陶瓷材料进行热处理、降温,得到陶瓷雾化芯;所述热处理为多段热处理,所述多段热处理的工艺参数为:800‑700℃保温3‑5h;700‑600℃保温1‑3h;600‑500℃保温1‑3h;500‑400℃保温1‑3h;所述陶瓷材料依次包含:陶瓷、第一过渡层、发热膜、电极部位、抗氧化层。本发明专利技术的陶瓷雾化芯热处理方法能够用于制备陶瓷雾化芯,得到的陶瓷雾化芯各膜层致密性好,杂质少,孔隙率高,能够给与消费者更好的使用口感。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及陶瓷雾化芯热处理,尤其是涉及一种陶瓷雾化芯热处理方法及其应用


技术介绍

1、雾化芯是储存雾化液和产生雾化反应的主要部件,作为雾化芯的陶瓷多选为多孔陶瓷,使得其具有孔隙率高、储油性好、雾化液雾化口感好等优良特性。

2、但是,陶瓷经过多道工序制作成雾化芯的过程中,各个工序给多孔陶瓷的孔中引入了不少杂质,使得雾化芯在工作过程中容易发生堵孔、积碳、糊芯等问题,从而影响口感体验,加速口感衰减。

3、因此,需要研究一种陶瓷雾化芯热处理方法,使得陶瓷制备成雾化芯的过程中各膜层的致密性提升,各部位发热均匀,去除杂质,进而增大有效孔隙率、提升口感。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于克服上述技术不足,解决现有技术中,将陶瓷制备成雾化芯的过程中,引入过多杂质,致使雾化芯容易发生堵孔、积碳、糊芯等现象,导致雾化芯的使用口感降低的技术问题。

2、本专利技术提出一种陶瓷雾化芯热处理方法,该方法使得陶瓷中各膜层的缺陷得到修复、重新结晶,原子间的排列更加均匀,膜层致密性提升;同时杂质本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,对陶瓷材料进行热处理、降温,得到陶瓷雾化芯;

2.如权利要求1所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述陶瓷材料的制备过程,包含以下步骤:

3.如权利要求2所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述发热膜靶的材料选自金、铂、钛、镍铬、钽、铬硅中的至少一种;所述溅射发热膜时的工艺参数为:电源输入功率150-300W;所述发热膜的厚度为0.5-10μm;所述电极浆料的厚度为50-120μm;所述烧结温度为600-850℃。

4.如权利要求2所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述陶瓷材料还包括,第二过渡层;...

【技术特征摘要】

1.一种陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,对陶瓷材料进行热处理、降温,得到陶瓷雾化芯;

2.如权利要求1所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述陶瓷材料的制备过程,包含以下步骤:

3.如权利要求2所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述发热膜靶的材料选自金、铂、钛、镍铬、钽、铬硅中的至少一种;所述溅射发热膜时的工艺参数为:电源输入功率150-300w;所述发热膜的厚度为0.5-10μm;所述电极浆料的厚度为50-120μm;所述烧结温度为600-850℃。

4.如权利要求2所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述陶瓷材料还包括,第二过渡层;所述第二过渡层设置于电极部位和抗氧化层之间。

5.如权利要求4所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述陶瓷材料的制备过程,还包括:在将含电极部位的陶瓷材料上的电极部位遮蔽后、发热膜上溅射抗氧化层之前,用过渡层靶在发热膜上溅射第二过渡层。

6.如权利要求2所述的陶瓷雾化芯热处理方法,其特征在于,所述过渡层靶的...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶正全肖小朋李俊辉聂革
申请(专利权)人:深圳市吉迩科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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