基于光聚合相分离的液晶弹性体微结构制备方法技术

本发明专利技术涉及基于光聚合相分离的液晶弹性体微结构制备方法，方法包括S1、针对指定厚度的第一液晶盒，在第一液晶盒的第一基板和第二基板之间填充有光聚合物单体和液晶的混合物，第一基板为无取向层的基板，第二基板涂覆有取向层；S2、对第一液晶盒的第一基板的第一面上覆盖灰度掩膜版；第一基板的第一面为远离所述混合物的面；S3、对灰度掩膜版进行紫外曝光至光聚合物单体和液晶分离，得到复合结构；S4、基于预先配置的液晶弹性体预聚物，按照预设的液晶弹性体微结构的制备策略对复合结构进行处理，获取液晶弹性体微结构。本方法制备的液晶弹性体微结构薄膜厚度范围为几微米到几十微米，取向良好，制作工艺简约、成本低、精度高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶弹性体微结构制备，尤其涉及基于光聚合相分离的液晶弹性体微结构制备方法。

技术介绍

1、近年来，随着科技的发展，液晶弹性体作为一种兼具液晶有序性和弹性体弹性的智能材料，可受热、光、电、磁、湿度等多种外界刺激响应，可微型化、可远程无接触式光控以及形变可基于取向任意设置，应用前景广。

2、目前，常见的液晶弹性体微结构的制备有软光刻结合磁场取向、4d打印和自组装。其中，软光刻结合磁场取向基于光刻和刻蚀技术制备硅的微结构阵列，倒模后，将液晶弹性体的预聚物倒入pdms模具中，同时利用磁场进行取向，在其向列相温度下光聚合，最后将pdms剥离，获得液晶弹性体微结构。由于此方法需要光刻和刻蚀，还需要较大的磁场进行取向，装置庞大，存在步骤繁复、成本较高、成品取向形式单一，无法获得复杂取向的缺陷。4d打印则是利用液晶弹性体挤出时的剪切力进行取向或者利用激光和紫外光进行逐点和逐层打印，多制备单个液晶弹性体微致动器，极少制备表面微结构阵列。存在打印速度缓慢，无法实现量产和大面积样品的加工制备、装置庞大、设备昂贵，且耗时长、应用有限的缺陷。自组装包括液晶本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于光聚合相分离的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，所述S4，包括：

3.如权利要求2所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，S41包括：

4.如权利要求1所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，所述S4，包括：

5.如权利要求1所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，

6.如权利要求1所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，

7.如权利要求6所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，对灰度掩膜版进行紫外曝光的紫外光光强...

【技术特征摘要】

1.一种基于光聚合相分离的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，所述s4，包括：

3.如权利要求2所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，s41包括：

4.如权利要求1所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，所述s4，包括：

5.如权利要求1所述的液晶弹性体微结构制备方法，其特征在于，

6.如权利要求1所述的液晶弹性...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘言军，成茗，蔡文锋，
申请(专利权)人：南方科技大学，
类型：发明
国别省市：