【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于磁控溅射镀膜领域，特别是关于一种靶材磁场调整治具及磁场测试装置。
技术介绍
1、磁控溅射的基本原理是利用ar-o2混合气体中的等离子体在电场和磁场的作用下，被加速的高能粒子轰击靶材表面，能量交换后，靶材表面的原子脱离原晶格而逸出，转移到基体表面而成膜。磁控溅射镀膜技术具有溅射速率高、沉积温度低等优点，其成膜速率高，基片温度低，膜的粘附型好，适合大面积镀膜，因而广泛应用于目前的镀膜工业化生产。
2、现有的靶材磁场测试过程中，需要频繁地将磁场从靶管中拆卸与安装，工序繁复，效率较低，并且在频繁的拆卸和安装的过程中容易出错。
3、公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本专利技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种靶材磁场调整治具及磁场测试装置，其能够在调整磁场时不用连续的拆装，即可实时得到所要调整的磁场数据，省时省力，数据准确，避免来回拆装费时
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【技术保护点】
1.一种靶材磁场调整治具，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，所述刻度平面板以及所述支撑块采用铝材质制成。
3.如权利要求1所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，所述刻度平面板的两侧设置有均匀分布有多个支撑杆。
4.如权利要求3所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，多个所述支撑杆采用铝材质制成。
5.如权利要求3所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，所述刻度平面板通过不锈钢螺栓固定于所述支撑块上，所述支撑杆通过不锈钢螺栓与所述刻度平面板固定。
6.如权利要求1所述的靶材磁场调整治...
【技术特征摘要】
1.一种靶材磁场调整治具，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，所述刻度平面板以及所述支撑块采用铝材质制成。
3.如权利要求1所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，所述刻度平面板的两侧设置有均匀分布有多个支撑杆。
4.如权利要求3所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，多个所述支撑杆采用铝材质制成。
5.如权利要求3所述的靶材磁场调整治具，其特征在于，所述刻度平面板通过不锈钢螺栓固定于所述支撑块上，所述支撑杆通过不锈钢螺栓与所述刻度平面板固定。
...【专利技术属性】
技术研发人员：张云，陈超，池永奎，陆少春，肖平，
申请(专利权)人：浙江日久新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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