【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及电子光学器件，且更明确来说涉及在电子束装置中产生多个电子束。
技术介绍
1、扫描电子显微镜(sem)长期以来一直用于检验应用，例如半导体晶片检验。传统上，sem具有单个电子束。但最近，已(例如，使用单透镜或偏转偶极阵列)开发具有多个电子束(即，子束)的sem。sem(或其它电子束装置)的处理量取决于子束的数目：子束的数目越高，处理量越高。
2、然而，增加子束的数目带来重大挑战。举例来说，子束的数目可能受限于差的光学分辨率及高的电场强度，这增大电弧作用的风险。且这些挑战可能相互矛盾。举例来说，可降低电子束能量以减小电场强度及因此电弧作用的风险。但降低的电子束能量增大电子之间的库仑相互作用，借此减小分辨率。
技术实现思路
1、在一些实施例中，一种电子束装置包含上柱电子光学器件及下柱电子光学器件。所述上柱电子光学器件包含孔隙阵列以将电子束划分成多个电子子束。所述上柱电子光学器件还包含具有多个透镜的透镜阵列以调整所述多个电子子束的焦点。所述多个透镜的相应透镜用以调整所述多个电...
【技术保护点】
1.一种电子束装置，其包括上柱电子光学器件及下柱电子光学器件，所述上柱电子光学器件包括：
2.根据权利要求1所述的电子束装置，其进一步包括第二全局透镜以准直所述多个子束且将所述多个子束提供到所述下柱电子光学器件，其中：
3.根据权利要求2所述的电子束装置，其中所述第二全局透镜包括磁性透镜。
4.根据权利要求2所述的电子束装置，其中所述下柱电子光学器件包括转移透镜及物镜，所述转移透镜经配置以在所述转移透镜与所述物镜之间产生所述电子子束的交越。
5.根据权利要求1所述的电子束装置，其中：
6.根据权利要求5所述的...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种电子束装置，其包括上柱电子光学器件及下柱电子光学器件，所述上柱电子光学器件包括：
2.根据权利要求1所述的电子束装置，其进一步包括第二全局透镜以准直所述多个子束且将所述多个子束提供到所述下柱电子光学器件，其中：
3.根据权利要求2所述的电子束装置，其中所述第二全局透镜包括磁性透镜。
4.根据权利要求2所述的电子束装置，其中所述下柱电子光学器件包括转移透镜及物镜，所述转移透镜经配置以在所述转移透镜与所述物镜之间产生所述电子子束的交越。
5.根据权利要求1所述的电子束装置，其中：
6.根据权利要求5所述的电子束装置，其中：
7.根据权利要求5所述的电子束装置，其中：
8.根据权利要求5所述的电子束装置，其中：
9.根据权利要求5所述的电子束装置，其中所述第一板进一步具有围绕所述多个内孔的多个虚设孔，其中所述多...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜辛容，S·K·施瑞延，L·葛瑞拉，K·凯明斯，C·西尔斯，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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