【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体上涉及一种激光持续等离子体(lsp)宽带光源，且特定来说，本专利技术涉及一种能够反向涡流的lsp源。
技术介绍
1、对用于检验越来越缩小的半导体装置的改进式光源的需求持续增长。一个此类光源包含激光持续等离子体(lsp)宽带光源。lsp宽带光源包含能够产生高功率宽带光的lsp灯。
2、lsp灯操作的最显著限制中的一者是玻璃本身及放置于等离子体附近的其它构造元件(例如电极、密封件、喷嘴孔口等)的热状态。将高功率lsp定位于任何构造元件附近可在这些构造元件上产生高辐射热负荷且导致构造元件过热及熔化。对于顺流灯设计，将对流控制元件从等离子体移除到安全距离导致其效率降低。
3、玻璃灯包络的冷却是高功率灯操作中的另一严重问题。这些热源包含在等离子体灯内循环的热气及在灯的玻璃的内表面上吸收的大量等离子体vuv辐射。玻璃冷却发生在室的外部，从而导致跨玻璃的厚度的大热梯度。在一些情况中，热梯度可超过100℃/mm。此产生不利热状态，其中玻璃的内表面比外表面热得多，从而降低冷却的效率。不均匀温度分布也产生玻璃损坏的可能
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【技术保护点】
1.一种激光持续光源，其包括：
2.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述旋流器包括：
3.根据权利要求2所述的激光持续光源，其中所述偏转器包括会聚偏转器。
4.根据权利要求3所述的激光持续光源，其中所述偏转器包括锥形区段。
5.根据权利要求3所述的激光持续光源，其中所述偏转器经配置以减少来自所述等离子体的辐射热传递。
6.根据权利要求2所述的激光持续光源，其中所述偏转器包括经配置以引导围绕所述等离子体的气流的发散偏转器。
7.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述旋流器是无偏转器。>
8.根据权利...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种激光持续光源，其包括：
2.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述旋流器包括：
3.根据权利要求2所述的激光持续光源，其中所述偏转器包括会聚偏转器。
4.根据权利要求3所述的激光持续光源，其中所述偏转器包括锥形区段。
5.根据权利要求3所述的激光持续光源，其中所述偏转器经配置以减少来自所述等离子体的辐射热传递。
6.根据权利要求2所述的激光持续光源，其中所述偏转器包括经配置以引导围绕所述等离子体的气流的发散偏转器。
7.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述旋流器是无偏转器。
8.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述多个喷嘴定位于所述旋流器的顶表面上。
9.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述多个喷嘴定位于所述旋流器的侧表面上。
10.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述多个喷嘴定位于所述旋流器的外缘上。
11.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述旋流器的所述入口通道包括经配置以将所述分配器的所述一或多个增压室流体耦合到所述旋流器的所述多个喷嘴的环形通道。
12.根据权利要求1所述的激光持续光源，其中所述旋流器的所述入口通道包括多个个别通道，其中相应个别通道经配置以将所述分配器的所述一或多个增压室流体耦合到所述旋流器的所述多个喷嘴的相应喷嘴。
13.根据权利要求1所述的激光持续光源，其进一步包括：
14.根据权利要求13所述的激光持续光源，其中所述分配器包括经配置以将所述气体从所述一或多个辅助入口分布到一或多个辅助入口通道的辅助增压室。
15.根据权利要求13所述的激光持续光源，其进一步包括：
16.根据权利要求1所述的激光持续光源，其进一步包...
【专利技术属性】
技术研发人员：I·贝泽尔，L·B·兹韦德努科，A·E·斯捷潘诺夫，A·托卡曼，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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