【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学膜材料的，特别是涉及一种具有优异透光率的柔性光学膜。
技术介绍
1、新兴的柔性光电器件因其具有独特的优势，在人们生活中具有广泛的应用前景，而高性能透明柔性光学膜的制备就是光电器件实现柔性化和透明化首先需要解决的问题。
2、为了继续提高光学薄膜的性能，技术人员对阻隔膜进行了大量的研究：专利cn104143609a公开了一种阻隔膜，该阻隔膜包括：柔性基体、第一无机氧化物薄膜、第二无机氧化物薄膜以及保护膜，其中，第一无机氧化物薄膜由溅射或蒸发工艺制备而成，第二无机氧化物薄膜由化学气相沉积工艺制备而成。其中，第一无机氧化物薄膜和第二无机氧化物薄膜分别独立地选自氧化铟锡、氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铪、氧化钽、氧化锗或氧化钒中的任一种。专利cn107492526b公开了一种具有宽带减反射作用的柔性水氧阻隔膜，阻隔膜中各层的厚度在10nm至400nm范围内，阻隔膜的总层数在2至20层之间。阻隔膜的每一层可选用的膜材为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化锆、氧化铪、氧化铝、氧化钛、氧化锌、氧化镁、氟化镁、硫化锌、氧化钼、氧化钨或氧化钽，阻隔膜至少选用两种不同的膜材。而上述专利技术提供的阻隔膜存在多层复合的结构，工艺较为复杂，并且阻隔膜的透光率不高，影响使用性能。
3、专利cn102050481a公开了一种制备氧化锌纳米材料的方法，包括：用磁控溅射法在硅衬底上沉积氧化锌薄膜作为籽晶层；将该籽晶层放入反应釜中，利用水热反应制备氧化锌纳米结构材料，并通过调节反应参数来实现氧化锌纳米材料的形貌控制并
4、专利cn102092774b公开了一种氧化锌纳米线阵列的制备方法，具体采用薄膜沉积工艺在衬底表面沉积一层表面晶粒半径可控的金属薄膜；然后将金属薄膜采用面向下的方式浮于由等摩尔量的硝酸锌溶和六次甲基四胺配制的生长溶液表面，在60～90℃的温度条件下静置生长氧化锌纳米线阵列。但是，由于上述专利提供的制备氧化锌阵列需要加入硝酸锌和六亚甲基四胺溶液作为反应液，其在后续的步骤中需要大量冲洗清除氧锌表面残存的反应液，工艺较为复杂。
5、综上所述，目前光学膜及其制备过程存在以下问题：1)光学膜存在多层复合的结构，工艺较为复杂，并且容易导致光学膜的透光率不高，影响使用性能；2)膜材通过水热法制备氧化锌纳米线阵列均需加入硝酸锌和六亚甲基四胺溶液等反应液，在后续步骤中均需大量冲洗清除残存的反应液，工艺较为复杂。
技术实现思路
1、为了克服现有技术中的不足，本专利技术提供了一种柔性光学膜，所述柔性光学膜包括柔性基底以及设置在所述柔性基底上的无机氧化物薄膜；
2、其中，所述无机氧化物薄膜为单层或叠层复合膜，所述无机氧化物薄膜的外表面为氧化锌薄膜，并且外表面的氧化锌薄膜的表面粗糙度为15～100nm；
3、所述柔性光学膜采用以下方法制得：先采用等离子体增强原子层沉积工艺在所述柔性基底的表面上沉积无机氧化物，然后将沉积有无机氧化物的柔性基底进行水热法处理后得到所述柔性光学膜。如本领域技术人员所熟知，水热法处理是在水热氛围下进行的，具体到本专利技术中，是将沉积有无机氧化物的柔性基底置于水蒸气环境中，无需添加其他反应液，在带有一定压力的水热条件下，使无机氧化物薄膜最外层的氧化锌薄膜转化为氧化锌纳米线阵列结构的过程。
4、在一些具体的实施方式中，在所述无机氧化物薄膜的最外层的氧化锌薄膜的表面粗糙度(均方根粗糙度)为15～75nm，优选为20～50nm。
5、在一些优选的实施方式中，本专利技术提供的柔性光学膜中无机氧化物薄膜为叠层复合膜，即由多层无机氧化物薄膜复合得到。
6、在本专利技术提供的柔性光学膜中，当无机氧化物薄膜为叠层复合膜时，各叠层复合膜的厚度为1nm～500nm，所述无机氧化物薄膜的总厚度不大于2μm；进一步优选地，所述无机氧化物薄膜中各叠层复合膜的厚度为2m～200nm，所述无机氧化物薄膜的总厚度不大于1μm。
7、在一些具体的实施方式中，无机氧化物薄膜为氮化硅、氧化硅、氧化铝、氧化锌、氧化钛或氧化镁，优选为氧化硅、氧化铝或氧化锌。
8、在本专利技术提供的柔性光学膜中，柔性基底选自聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、环烯烃共聚物或环烯烃聚合物中的一种；所述柔性基底的厚度不大于200μm，优选75～150μm。
9、在本专利技术提供的柔性光学膜制备过程中，所述水热法处理沉积有无机氧化物的柔性基底是在水蒸气氛围下进行的，工艺条件为温度35～80℃，湿度≥80％rh，压力0.01～35psi，处理时间为10～300h；优选地，温度为35～60℃，湿度≥85％rh，压力为0.01～30psi，处理时间为24～250h。
10、采用上述的技术方案，具有如下的技术效果：
11、本专利技术通过采用等离子体增强原子层沉积工艺在柔性基底的表面上沉积无机氧化物，然后在水热法处理工艺下使得无机氧化物薄膜外表面的氧化锌慢慢转化为氧化锌纳米线阵列的结构。通过纳米氧化锌阵列，调控了薄膜的折射率，有效地降低了薄膜的反射率，增加了光学膜的透光率。
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1.一种柔性光学膜，其特征在于，所述柔性光学膜包括柔性基底以及设置在所述柔性基底上的无机氧化物薄膜；
2.根据权利要求1所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜的外表面的氧化锌薄膜的表面粗糙度为15～75nm，优选为20～50nm。
3.根据权利要求1或2所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜为叠层复合膜。
4.根据权利要求3所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜中各叠层复合膜的厚度为1nm～500nm，所述无机氧化物薄膜的总厚度不大于2μm；
5.根据权利要求1～4中任一项所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜为氮化硅、氧化硅、氧化铝、氧化锌、氧化钛或氧化镁。
6.根据权利要求5所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜为氧化硅、氧化铝或氧化锌。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的柔性光学膜，其特征在于，所述柔性基底选自聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、环烯烃共聚物或环烯烃聚合物中的一种。
8.根据权利要求7所述的柔性光学
9.根据权利要求1～8中任一项所述的柔性光学膜，其特征在于，在所述柔性光学膜制备过程中，所述水热法处理沉积有无机氧化物的柔性基底是在水蒸气氛围下进行的，所述水热法处理的工艺条件为温度35～80℃，湿度≥80％RH，压力0.01～35Psi，处理时间为10～300h。
10.根据权利要求9所述的柔性光学膜，其特征在于，所述水热法处理的工艺条件为温度35～60℃，湿度≥85％RH，压力0.01～30Psi，处理时间为24～250h。
...【技术特征摘要】
1.一种柔性光学膜，其特征在于，所述柔性光学膜包括柔性基底以及设置在所述柔性基底上的无机氧化物薄膜；
2.根据权利要求1所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜的外表面的氧化锌薄膜的表面粗糙度为15～75nm，优选为20～50nm。
3.根据权利要求1或2所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜为叠层复合膜。
4.根据权利要求3所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜中各叠层复合膜的厚度为1nm～500nm，所述无机氧化物薄膜的总厚度不大于2μm；
5.根据权利要求1～4中任一项所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜为氮化硅、氧化硅、氧化铝、氧化锌、氧化钛或氧化镁。
6.根据权利要求5所述的柔性光学膜，其特征在于，所述无机氧化物薄膜为氧化硅、氧化铝或氧化锌。
【专利技术属性】
技术研发人员：任冬雪，陈兰兰，任月庆，孙小杰，
申请(专利权)人：国家能源投资集团有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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