【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及电磁波屏蔽构件和它们的制造方法。进一步详细地涉及:由能以高密合力在将聚芳硫醚树脂组合物成型而成的成型品(以下,有时称为聚芳硫醚树脂成型品)的表面简便地形成镀层的层叠体形成的电磁波屏蔽构件和其制造方法。
技术介绍
1、近年来,在汽车领域中,为了实现由车辆的轻量化带来的低燃油消耗化等,一直以来推进了将为金属制的各种构件替换为更轻量、且具有耐热性、耐化学药品性的工程塑料的多种尝试。其中,以聚苯硫醚(以下,有时简记作pps)树脂为代表的聚芳硫醚(以下,有时简记作pas)树脂的耐热性优异,且机械强度、耐化学药品性、成型加工性、尺寸稳定性也优异,因而被广泛利用。
2、另一方面,随着汽车的电气化,车辆中会搭载大量的电子控制系统,开始担心自高电压部位产生的电磁波对人体的影响。例如,已知作为电动马达所必须的构成的逆变器产生频率100khz左右的低频电磁波。鉴于这种背景,对于各种汽车部件的树脂壳体,除了以往要求的遮蔽高频的电磁波的能力之外,还要求遮蔽低频的电磁波的能力。
3、作为有机物的pas树脂的电磁波屏蔽性能低,因
...【技术保护点】
1.一种电磁波屏蔽构件的制造方法,其特征在于,其为由层叠体形成的电磁波屏蔽构件的制造方法,所述制造方法具备如下工序:通过化学蚀刻处理对将聚芳硫醚树脂组合物成型而成的成型品的表面进行粗糙化处理的工序、对经粗糙化处理的所述成型品表面进行镀覆处理的工序,
2.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽构件的制造方法,其中,通过化学蚀刻处理对将聚芳硫醚树脂组合物成型而成的成型品的表面进行粗糙化处理的工序是使包含强酸或其盐的蚀刻液与所述成型品的表面接触的工序。
3.根据权利要求1或2所述的电磁波屏蔽构件的制造方法,其中,碳酸盐(C)是平均粒径0.3μm以上至6μm以
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种电磁波屏蔽构件的制造方法,其特征在于,其为由层叠体形成的电磁波屏蔽构件的制造方法,所述制造方法具备如下工序:通过化学蚀刻处理对将聚芳硫醚树脂组合物成型而成的成型品的表面进行粗糙化处理的工序、对经粗糙化处理的所述成型品表面进行镀覆处理的工序,
2.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽构件的制造方法,其中,通过化学蚀刻处理对将聚芳硫醚树脂组合物成型而成的成型品的表面进行粗糙化处理的工序是使包含强酸或其盐的蚀刻液与所述成型品的表面接触的工序。
3.根据权利要求1或2所述的电磁波屏蔽构件的制造方法,其中,碳酸盐(c)是平均粒径0.3μm以上至6μm以下的范围的粒状物。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的电磁波屏蔽构件的制造方法,其中,碳酸盐(c)为选自由碳酸钙、碳酸镁、碳酸钾、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸铵、碳酸钡、碳酸锂、碳酸铜(ii)、碳酸亚铁(ii)、碳酸银(i)、碳酸锰、碳酸锌、白云石和水菱镁矿组成的组中的至少1者。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的电磁波屏蔽构件的制造方法,其中,还包含纤维状填充剂。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的电磁波屏蔽构件的制造方法,其中,镀覆处理为化学镀法、电解镀法、溅射法和它们的组合。
7.根据权利要求1...
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