System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种低能量光美容仪制造技术_技高网

一种低能量光美容仪制造技术

技术编号:40113052 阅读:11 留言:0更新日期:2024-01-23 19:28
本发明专利技术公开了一种低能量光美容仪,包括:基板、多个发光单元、反光杯架以及光线调节层;所述多个发光单元设置于基板表面,所述反光杯架设置于所述基板设置有发光单元的一侧,所述光线调节层设置于所述反光杯架远离所述发光单元的一侧;所述反光杯架包括多个反光孔,每一所述反光孔与所述基板和所述光线调节层形成一容纳腔,每一所述容纳腔内设置有至少一个发光单元;所述容纳腔内所述基板未设置发光单元的区域和所述反光孔表面均设置有第一全反射层;所述光线调节层用于对由容纳腔内投射到其上的光线中的部分光线进行反射,使部分光线透过。本发明专利技术可以保证安全的同时,提升光美容仪的出光光强和光准直性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光美容,尤其涉及一种低能量光美容仪


技术介绍

1、lllt是low-level light therapy(低能量光疗法)的缩写,常见的光美容光色有红光(650-660nm,635nm)、绿光(515-520nm,532nm)、蓝光(445-450nm)和蓝紫光(405nm)等,功率通常以毫瓦为单位。led则是light emitting diode(发光二极管)的缩写。发光二极管与普通二极管一样由一个pn结组成,也具有单向导电性。当给发光二极管加上正向电压后,从p区注入到n区的空穴和由n区注入到p区的电子,在pn结附近数微米内分别与n区的电子和p区的空穴复合,产生自发辐射的荧光。不同的半导体材料中电子和空穴所处的能量状态不同。当电子和空穴复合时释放出的能量多少不同,释放出的能量越多,则发出的光的波长越短。

2、但是在实际的应用中采用led作为光源存在光强小,光准直差等缺点。


技术实现思路

1、本专利技术提供了一种低能量光美容仪,以在保证安全的同时,提升光美容仪的出光光强和光准直性。

2、根据本专利技术的一方面,提供了一种低能量光美容仪,包括:

3、基板、多个发光单元、反光杯架以及光线调节层;

4、所述多个发光单元设置于基板表面,所述反光杯架设置于所述基板设置有发光单元的一侧,所述光线调节层设置于所述反光杯架远离所述发光单元的一侧;所述反光杯架包括多个反光孔,每一所述反光孔与所述基板和所述光线调节层形成一容纳腔,每一所述容纳腔内设置有至少一个发光单元;

5、所述容纳腔内所述基板未设置发光单元的区域和所述反光孔表面均设置有第一全反射层;

6、所述光线调节层用于对由容纳腔内投射到其上的光线中的部分光线进行反射,使部分光线透过。

7、可选的,每一所述容纳腔中设置有至少三种不同发光颜色的发光单元;

8、所述发光单元为led发光单元;

9、光美容仪出射的光线的能量低于500mw/cm2。

10、可选的,光美容仪出射的光线的中心波长包括465nm、595nm、635nm、810nm以及940nm中的至少一个。

11、可选的,所述光线调节层为半透半反层,所述光线调节层的光透过率大于或等于10%,且小于或等于90%。

12、可选的,所述光线调节层包括透光层以及设置于所述透光层邻近所述发光单元一侧的半反射层。

13、可选的,所述光线调节层包括柱镜光栅层以及设置于所述柱镜光栅层邻近所述发光单元一侧的第二全反射层;

14、所述柱镜光栅层包括多个柱状透镜,所述柱状透镜的焦平面为所述柱状透镜邻近所述发光单元的表面;

15、所述第二全反射层包括多个全反射块;

16、每一所述柱状透镜对应设置一所述全反射块,且所述全反射块的面积小于所述柱状透镜的焦平面的面积。

17、可选的,多个所述柱状透镜沿第一方向依次排列,每一所述柱状透镜沿第二方向延伸;每一所述柱状透镜的焦平面位于所述容纳腔内的部分包括第一区域和第二区域,所述第一区域和第二区域沿第一方向排列;

18、每一所述柱状透镜的所述全反射块均覆盖所述柱状透镜的第一区域,或者,每一所述柱状透镜的所述全反射块均覆盖所述柱状透镜的第二区域,或者,部分所述柱状透镜的所述全反射块覆盖所述柱状透镜的第一区域,部分所述柱状透镜的所述全反射块覆盖所述柱状透镜的第二区域。

19、可选的,所述柱状透镜的焦平面与所述基板设置有所述发光单元的表面之间具有预设角度。

20、可选的,所述第一区域和所述第二区域的面积相等。

21、可选的,所述反光孔的第一截面为八边形;

22、所述反光孔的第二截面为梯形,且梯形邻近基板一侧的底边的长度小于远离基板一侧的底边的长度;其中,所述第一截面为所述反光孔平行于所述基板设置有所述发光单元的表面的截面,所述第二截面为所述反光孔垂直于所述基板设置有所述发光单元的表面的截面。

23、可选的,位于所述反光孔表面的所述第一全反射层的第三截面的远离所述反光杯架的表面为波浪形表面,或者为弧形表面,且所述弧形表面向所述反光杯架内凹;其中,所述第三截面为所述第一全反射层的截面,所述第三截面垂直于所述基板设置有所述发光单元的表面。

24、本专利技术实施例的低能量光美容仪的反光杯架包括多个反光孔,每一反光孔与基板和光线调节层形成一容纳腔,每一容纳腔内设置有至少一个发光单元,容纳腔内基板未设置发光单元的区域和反光孔表面均设置有第一全反射层,并且光线调节层用于对由容纳腔内投射到其上的光线中的部分光线进行反射,使部分光线透过,使得发光单元发出的光线经过反光孔和基板表面的第一全反射层以及光线调节层的反射后在容纳腔内发生干涉效应,产生一种光强较强,半波峰较窄的光线,可以使美容仪出射光线波长更加精准,在保证安全的同时,提升光美容仪的出光光强和光准直性,以实现低能量光疗(lllt)美容。

25、应当理解,本部分所描述的内容并非旨在标识本专利技术的实施例的关键或重要特征,也不用于限制本专利技术的范围。本专利技术的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种低能量光美容仪,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

3.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

5.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

6.根据权利要求5所述的低能量光美容仪,其特征在于:

7.根据权利要求5或6所述的低能量光美容仪,其特征在于:

8.根据权利要求6所述的低能量光美容仪,其特征在于:

9.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

10.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

【技术特征摘要】

1.一种低能量光美容仪,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

3.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

5.根据权利要求1所述的低能量光美容仪,其特征在于:

6...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵伟民于倩倩马永强王崟胡永岚
申请(专利权)人:北京翌光科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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