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光响应性偶氮苯接枝石墨烯材料及其制备方法技术

技术编号:4010166 阅读:599 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种光响应性偶氮苯接枝石墨烯材料及其制备方法。该材料的结构式为式1所示:其制备过程包括:将具有单层石墨结构的氧化石墨烯或还原氧化石墨烯分散于氯化亚砜中进行反应,获得具有酰氯功能基的石墨烯材料;将带有氨基的偶氮苯与酰化后的石墨烯材料在N,N-二甲基甲酰胺中反应,制得光响应性偶氮苯接枝石墨烯材料。本发明专利技术制得的偶氮苯接枝石墨烯材料,具有在有机溶剂中溶解性好,易成膜,光学与电学性能可调控,光电转换速率快等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种,属于光、电及换 能材料制备技术。
技术介绍
偶氮衍生物是指分子结构中含有偶氮基团(-N = N-)的化合物,当偶氮基团两端 各连有一个苯环时即构成偶氮苯分子。自从1861年化学家曼恩首次利用重氮偶合反应制 得第一个芳香族偶氮化合物至今,偶氮苯衍生物就以其独特的光电特性在光电信息材料领 域引起了广泛的关注。偶氮苯衍生物最吸引人的性质是其顺反异构化反应(1. A. Archut, G. C. Azzellini, V. Balzani, et al. , Journal of the American Chemical Society 美国 化学会会刊,1998,120 卷,12187 ;2. B. L Feringa, R. A. van Delden, N. Koumura, et al., Chemical Reviews化学评论,2000,100卷,1789.)。偶氮苯体系的光致变色特性是由于分 子内的-N = N-基团在光或热的作用下进行顺_反或反_顺异构引起的。通过采用不同波 长的光束X1(约360nm)和λ 2 (约440nm)对偶氮基团进行照射,即可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光响应性偶氮苯接枝石墨烯材料,其特征在于,该材料为由偶氮苯和氧化石墨烯或是和还原氧化石墨烯,通过偶氮苯一端苯环上的氨基基团与氧化石墨烯或还原氧化石墨烯片层结构上的羧基连接而成,其结构式如式1所示:GN-CO-NH-***式1式中,GN:指具有单层石墨结构的氧化石墨烯或还原氧化石墨烯;X:为甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基或乙氧基;Y:为硝基。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:封伟张学全冯奕钰吕鹏
申请(专利权)人:天津大学
类型:发明
国别省市:12[中国|天津]

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