【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种真空处理系统(1)，所述真空处理系统(1)包括：
2.根据权利要求1所述的真空处理系统(1)，
3.根据权利要求2所述的真空处理系统(1)，
4.根据权利要求2所述的真空处理系统(1)，
5.根据权利要求3或4所述的真空处理系统(1)，
6.根据权利要求3至5中的任一项所述的真空处理系统(1)，
7.根据前述权利要求中的任一项所述的真空处理系统(1)，
8.根据权利要求7所述的真空处理系统(1)，
9.根据权利要求7或8中的任一项所述的真空处理系统(1)，
10.根据权利要求7至9中的任一项所述的真空处理系统(10)，
11.根据权利要求7至10中的任一项所述的真空处理系统(1)，
12.根据权利要求7至11中的任一项所述的真空处理系统(1)，
13.根据权利要求2至6中的任一项或权利要求12所述的真空处理系统(1)，
14.根据前述权利要求中的任一项所述的真空处理系统(1)，
15.根据前述权利要求中的任
16.一种用于调节真空室(10)中的真空处理周期的方法，所述方法包括以下步骤：
17.根据权利要求16所述的方法，
18.根据权利要求17所述的方法，
19.一种用于检查根据权利要求1至15中的任一项所述的真空处理系统(1)的适当操作的方法，所述方法包括以下步骤：
20.一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括程序代码，所述程序代码存储在机器可读介质上或由包括程序代码段的电磁波来具体实现，并且所述计算机程序产品具有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令用于执行和/或控制根据权利要求16至19中的任一项所述的方法，特别是当所述计算机可执行指令在根据权利要求1至15中的任一项所述的真空处理系统(1)上运行时，用于执行和/或控制根据权利要求16至19中的任一项所述的方法。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种真空处理系统(1)，所述真空处理系统(1)包括：
2.根据权利要求1所述的真空处理系统(1)，
3.根据权利要求2所述的真空处理系统(1)，
4.根据权利要求2所述的真空处理系统(1)，
5.根据权利要求3或4所述的真空处理系统(1)，
6.根据权利要求3至5中的任一项所述的真空处理系统(1)，
7.根据前述权利要求中的任一项所述的真空处理系统(1)，
8.根据权利要求7所述的真空处理系统(1)，
9.根据权利要求7或8中的任一项所述的真空处理系统(1)，
10.根据权利要求7至9中的任一项所述的真空处理系统(10)，
11.根据权利要求7至10中的任一项所述的真空处理系统(1)，
12.根据权利要求7至11中的任一项所述的真空处理系统(1)，
13.根据权利要求2至6中的任一项或权利要求12所述的真空处理系统(1)...
【专利技术属性】
技术研发人员：F·巴隆，K·云特，D·迈尔霍弗，
申请(专利权)人：VAT控股公司，
类型：发明
国别省市：
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