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真空处理系统和处理控制技术方案

技术编号:40098864 阅读:37 留言:0更新日期:2024-01-23 17:22
真空处理系统(1)包括真空室(10)、可控流体施加装置(30)以及控制和/或调节单元(40),可控流体施加装置(30)连接到真空室(10)并且被配置为以受控的方式提供流体到真空室(10)中的流入,控制和/或调节单元(40)用于至少控制可控流体施加装置(30)。真空处理系统(1)包括大气分析仪(50),大气分析仪(50)被布置和配置为确定真空室(10)内的大气信息并提供大气信息作为相应的大气信号,并且控制和/或调节单元(40)被配置为根据大气信号来控制可控流体施加装置(30)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种真空处理系统(1),所述真空处理系统(1)包括:

2.根据权利要求1所述的真空处理系统(1),

3.根据权利要求2所述的真空处理系统(1),

4.根据权利要求2所述的真空处理系统(1),

5.根据权利要求3或4所述的真空处理系统(1),

6.根据权利要求3至5中的任一项所述的真空处理系统(1),

7.根据前述权利要求中的任一项所述的真空处理系统(1),

8.根据权利要求7所述的真空处理系统(1),

9.根据权利要求7或8中的任一项所述的真空处理系统(1),

<p>10.根据权利要...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种真空处理系统(1),所述真空处理系统(1)包括:

2.根据权利要求1所述的真空处理系统(1),

3.根据权利要求2所述的真空处理系统(1),

4.根据权利要求2所述的真空处理系统(1),

5.根据权利要求3或4所述的真空处理系统(1),

6.根据权利要求3至5中的任一项所述的真空处理系统(1),

7.根据前述权利要求中的任一项所述的真空处理系统(1),

8.根据权利要求7所述的真空处理系统(1),

9.根据权利要求7或8中的任一项所述的真空处理系统(1),

10.根据权利要求7至9中的任一项所述的真空处理系统(10),

11.根据权利要求7至10中的任一项所述的真空处理系统(1),

12.根据权利要求7至11中的任一项所述的真空处理系统(1),

13.根据权利要求2至6中的任一项或权利要求12所述的真空处理系统(1)...

【专利技术属性】
技术研发人员:F·巴隆K·云特D·迈尔霍弗
申请(专利权)人:VAT控股公司
类型:发明
国别省市:

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